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1. 发明专利

JP2019143217A めっき装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019143217A
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：JP2018029810
申请日：2018-02-22
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：社本光弘 , 中田勉 , 下山正
IPC分类号： C25D17/10
摘要：【課題】多角形基板にめっきされる膜の面内均一性を向上させる。【解決手段】めっき装置は、アノードを保持するように構成されるアノードホルダと、多角形基板を保持するように構成される基板ホルダと、アノードホルダと基板ホルダとの間に設けられるレギュレーションプレートと、を備える。レギュレーションプレートは、多角形基板の外形に沿った第1の多角形開口を有する本体部と、第1の多角形開口の縁から基板ホルダ側に突出する壁部と、を有する。壁部は、第1の多角形開口の辺の中央部を含む第1領域では基板ホルダ側に第1距離にわたって突出しており、第1の多角形開口の角部を含む第2領域では切り欠かれている、または、基板ホルダ側に第1距離より小さい第2距離にわたって突出している。【選択図】図3B

2. 发明专利

JP2019081932A めっき装置及びめっき方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019081932A
公开(公告)日：2019-05-30
申请号：JP2017210618
申请日：2017-10-31
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：張紹華 , 増田泰之 , 藤方淳平 , 下山正 , 中田勉
IPC分类号： C25D17/00 , C25D21/10
摘要：【課題】パドルの振動を低減する。【解決手段】基板にめっきをするめっき装置が提供される。このめっき装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき槽と、めっき槽内に配置され、基板の表面に沿って往復方向に移動してめっき液を撹拌するように構成されるパドルと、パドルの第1端部を支持する支持部材と、パドルに設けられる第1磁石と、めっき槽に設けられる第2磁石と、を有する。第1磁石及び第2磁石は、パドルが移動している間、パドルの第1端部とは逆側の第2端部が基板に近づく方向及び離れる方向へ振動することを抑制するように、互いに磁力を及ぼすように構成される。【選択図】図8

3. 发明专利

JP2017043815A めっき装置、めっき方法、及び基板ホルダ有权
标题翻译：电镀装置，电镀法，和衬底保持器
公开(公告)号：JP2017043815A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015168969
申请日：2015-08-28
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：嶺潤子 , 中田勉 , 矢作光敏
IPC分类号： C25D5/02 , C25D21/12 , C25D21/00 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L21/321 , H01L21/288 , C25D17/08
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/001 , C25D17/005 , C25D21/12 , C25D5/18 , H01L21/2885 , H01L21/68785 , H01L21/76879 , H01L24/11 , C25D17/008 , H01L2224/11462 , H01L2224/13147
摘要：【課題】多角形基板にめっきされる膜の面内均一性を向上させる。【解決手段】アノードを保持するように構成されるアノードホルダと、多角形基板を保持するように構成される基板ホルダと、前記アノードホルダ及び前記基板ホルダを収容して、前記アノード及び前記基板をめっき液に浸漬するためのめっき槽と、前記アノードと前記基板との間に流れる電流を制御するための制御装置と、を有する。前記基板ホルダは、前記多角形基板の各辺に沿って配置される複数の給電部材を有する。前記制御装置は、前記複数の給電部材に少なくとも2つの異なる値の電流が同時に供給されるように、電流を制御し得るように構成される。【選択図】図2
摘要翻译：为了改善所述膜的面内均匀性被镀覆多边形衬底。阳极支架配置成保持阳极，配置成保持基底的多边形，以容纳阳极保持器和所述衬底保持器的衬底支架，所述阳极和所述衬底它具有用于在电镀液中浸渍的镀槽，和用于控制电流的阳极和基片之间流动的控制装置。衬底保持器具有多个沿所述多边形基板的每一侧定位进料构件。其中，所述控制装置，使得至少两个不同的值的电流被同时提供给所述多个供电部件的，构成为控制所述电流。 .The

4. 发明专利

JP2021130852A めっき装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021130852A
公开(公告)日：2021-09-09
申请号：JP2020027357
申请日：2020-02-20
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：中田勉
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/10 , C25D21/08 , C25D21/12 , C25D21/00
摘要：【課題】基板の板面にめっきをより均一に施すことが可能なめっき装置を提案する。【解決手段】めっき装置は、支持体に支持された基板の板面に沿って移動可能に構成されるアノードヘッドを備える。アノードヘッドは、少なくとも1つのアノードと、前記少なくとも1つのアノードと前記支持体に支持された基板の板面との間に介在するように配置されて前記アノードが位置するアノード領域を画定するイオン透過性部材と、前記アノード領域とは区画され、前記アノード領域に対して前記アノードヘッドの移動方向の前方と後方との一方に設けられた供給口を通じて、めっき液を供給するためのめっき液供給流路と、前記アノード領域とは区画され、前記アノード領域に対して前記アノードヘッドの移動方向の前方と後方との他方に設けられた吸引口を通じて、めっき液を吸引するためのめっき液吸引流路と、を有する。【選択図】図2

5. 发明专利

JP6488041B2 めっき装置、めっき方法、及び基板ホルダ有权
公开(公告)号：JP6488041B2
公开(公告)日：2019-03-20
申请号：JP2018057786
申请日：2018-03-26
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：嶺潤子 , 中田勉 , 矢作光敏
IPC分类号： C25D17/06 , C25D21/12 , C25D21/00 , C25D17/08

6. 发明专利

JP6317299B2 めっき装置、めっき方法、及び基板ホルダ有权
公开(公告)号：JP6317299B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2015168969
申请日：2015-08-28
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：嶺潤子 , 中田勉 , 矢作光敏
IPC分类号： C25D17/08
CPC分类号： C25D17/06 , C25D5/18 , C25D17/001 , C25D17/005 , C25D17/008 , C25D21/12 , H01L21/68785 , H01L24/11 , H01L2224/11462 , H01L2224/13147

7. 发明专利

JP6392681B2 アノードユニットおよび該アノードユニットを備えためっき装置有权
公开(公告)号：JP6392681B2
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：JP2015026536
申请日：2015-02-13
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：辻野潤一郎 , 中田勉 , 玉理裕介 , 矢作光敏 , 尾渡晃
IPC分类号： C25D17/12 , C25D21/00
CPC分类号： C25D17/12 , C25D17/001 , C25D17/007

8. 发明专利

JP2015161028A アノードユニットおよび該アノードユニットを備えためっき装置有权
标题翻译：阳极单元和包括其中的装置
公开(公告)号：JP2015161028A
公开(公告)日：2015-09-07
申请号：JP2015026536
申请日：2015-02-13
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：辻野潤一郎 , 中田勉 , 玉理裕介 , 矢作光敏 , 尾渡晃
IPC分类号： C25D21/00
CPC分类号： C25D17/12 , C25D17/001 , C25D17/007
摘要：【課題】均一な厚さの金属膜を基板上に形成することができるアノードユニットを提供する。【解決手段】アノードユニット2は、アノード3と、アノード3の中心部に接続された第1の給電部11と、アノード3の中心軸O上に配置され、アノード3から離間して配置された第2の給電部15と、第2の給電部15から放射状に延びる複数のアーム14aとを備える。複数のアーム14aは、アノード3の外周部に接続されている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在基板上形成均匀厚度的金属膜的阳极单元。解决方案：阳极单元2包括阳极3，连接到阳极3的中心的第一馈电部11，布置在阳极3的中心轴线O上且与阳极3隔开的第二馈送部分15以及从第二馈送部分15径向延伸的多个臂14a。多个臂14a连接到阳极3。

9. 发明专利

JP5766587B2 無電解めっき装置有权
标题翻译：化学镀装置
公开(公告)号：JP5766587B2
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2011250433
申请日：2011-11-16
申请人：株式会社荏原製作所 , 株式会社SCREENホールディングス
发明人：中田勉 , 神田裕之 , 辻野潤一郎 , 久保田誠 , 新居健一郎
IPC分类号： H01L21/288 , C23C18/31

10. 发明专利

JP6942072B2 めっき装置有权
公开(公告)号：JP6942072B2
公开(公告)日：2021-09-29
申请号：JP2018029810
申请日：2018-02-22
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：社本光弘 , 中田勉 , 下山正
IPC分类号： C25D17/10

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