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1. 发明专利

JP2018174118A 荷電粒子ビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018174118A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017081650
申请日：2017-03-31
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：楊宗翰 , 岩堀敏行
IPC分类号： H01J37/20
摘要：【課題】ユーザーの誤動作や制御系の不具合等があっても、ステージ駆動による試料室内の部材の破損が生じない荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】試料10を保持する試料台36と、試料台36を有する第二ステージ6と、試料台36を駆動させるモータ31と、試料10に電子ビームを照射する電子ビーム鏡筒2と、電子ビームの照射により試料10から発生する二次電子を検出する二次電子検出器4と、検出器で検出した信号に基づき二次電子像を形成する像形成手段13と、を有し、第二ステージ6は、モータ31と試料台36との間にモータ31から試料台36への動力を遮断する空転機構39を備える荷電粒子ビーム装置100である。【選択図】図2

2. 发明专利

JP6879663B2 荷電粒子ビーム装置有权
公开(公告)号：JP6879663B2
公开(公告)日：2021-06-02
申请号：JP2015253893
申请日：2015-12-25
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：大庭弘 , 清原正寛 , 楊宗翰
IPC分类号： H01J37/317

3. 发明专利

JP6957002B2 荷電粒子ビーム装置有权
公开(公告)号：JP6957002B2
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：JP2017081650
申请日：2017-03-31
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：楊宗翰 , 岩堀敏行
IPC分类号： H01J37/20

4. 发明专利

JP2021051844A 液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021051844A
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：JP2019172506
申请日：2019-09-24
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：小山喜弘 , 麻畑達也 , 清原正寛 , 楊宗翰
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317 , H01J27/26
摘要：【課題】イオンビームを長期間安定して放出できる液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】液体金属をなすイオン材料Mを保持するリザーバ10と、リザーバから供給されるイオン材料で表面が覆われるニードル電極20と、ニードル電極の先端からイオン材料のイオンを放出させる引出し電極22と、引出し電極の下流側に配置され、イオンのビーム径を制限するビーム絞り24と、これらを収容して真空に保持する真空室30と、を備えた液体金属イオン源50において、さらに、酸化性ガス導入部40を有し、酸化性ガス導入部は、真空室に連通してニードル電極の周囲に酸化性ガスを導入することを特徴とする。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2016127025A 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2016127025A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2015253893
申请日：2015-12-25
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：大庭弘 , 清原正寛 , 楊宗翰
IPC分类号： H01J37/317
摘要：【課題】原料ガスの種類に応じて最適な供給状態を実現することのできる荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】試料Sにイオンビームを照射して加工可能な荷電粒子ビーム装置100であって、気体イオンビームを試料室40内の試料Sに照射するGIB鏡筒3と、気体イオンビームの原料である原料ガスをGIB鏡筒3に供給するGIB制御部13と、を備え、GIB制御部13は、原料ガスの流量を制御する流量制御部133と、GIB鏡筒3の上流に接続され、原料ガスを排気するために設けられたバイパス管路P2と、を含む。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种根据材料气体的种类实现最佳供给状态的带电粒子束装置。解决方案：带电粒子束装置100将离子束辐射到样品S以处理样品S，并且包括：GIB透镜管3，被配置为将气态离子束辐射到样品室40中的样品S; 以及GIB控制部13，被配置为将作为气体离子束的材料的材料气体供给到GIB透镜管3.GIB控制部13包括：流量控制部133，其控制流量原料气; 以及连接到GIB透镜管3的上游并且被提供以排出材料气体的旁路线P2。图2：

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