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1. 发明专利

JP6594163B2 排ガス浄化装置有权
公开(公告)号：JP6594163B2
公开(公告)日：2019-10-23
申请号：JP2015215114
申请日：2015-10-30
申请人：株式会社キャタラー
发明人：野村泰隆 , 坂神新吾 , 尾上亮太 , 森下雄太 , 栗山純実 , 関根洋
IPC分类号： F01N3/10 , F01N3/022 , F01N3/035 , B01D53/94 , B01J23/63 , F01N3/28

2. 发明专利

JP6546758B2 触媒用スラリーの塗布装置有权
公开(公告)号：JP6546758B2
公开(公告)日：2019-07-17
申请号：JP2015046249
申请日：2015-03-09
申请人：株式会社キャタラー
发明人：関根洋 , 永嶋洋樹 , 高岡直弘 , 伊藤実
IPC分类号： B01J35/04 , B01D53/86 , B01J37/02

3. 发明专利

JP6297767B2 排ガス浄化装置有权
公开(公告)号：JP6297767B2
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：JP2017564935
申请日：2017-03-13
申请人：株式会社キャタラー
发明人：関根洋 , 松井優
IPC分类号： B01J35/04 , B01D53/94 , F01N3/022 , F01N3/023 , F01N3/035 , F01N3/24 , F01N3/28 , B01J29/85
CPC分类号： B01D53/94 , B01D53/9409 , B01D2255/50 , B01D2255/9155 , B01D2255/9202 , B01J29/85 , B01J35/04 , F01N3/035 , F01N3/2839 , F01N2510/0682

4. 发明专利

JP2018103131A 排ガス浄化用触媒の製造方法および排ガス浄化用触媒审中-公开
公开(公告)号：JP2018103131A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016254308
申请日：2016-12-27
申请人：株式会社キャタラー
发明人：田中佑樹 , 関根洋 , 中田和真
IPC分类号： B01J37/08 , B01D53/94 , B01J35/04 , B01J23/46 , F01N3/28 , B01J37/02
摘要：【課題】形成後の触媒層に波打ちが生じることを防止して、排ガス浄化能力の低下や圧損の増加が抑制された排ガス浄化用触媒を製造することができる排ガス浄化用触媒の製造方法を提供する。【解決手段】ここで開示される製造方法は、基材1を縦置きに配置し、基材1の上側の端部1aに貯留部21を取り付ける工程と、原料スラリーSを貯留部21に供給する工程と、該原料スラリーSを圧力差で基材1内に導入して隔壁4に付与する工程と、焼成処理を施すことによって基材1の隔壁4に触媒層を形成する工程とを備えている。そして、貯留部21に原料スラリーSを供給する前に、基材1の上側の端面1cに水溶性薄膜22を配置し、該水溶性薄膜22によって原料スラリーSを貯留部21内に保持し、原料スラリーSを基材1の流路2に導入する際の圧力差で水溶性薄膜22を破断させて原料スラリーSを基材1内に導入することを特徴とする。【選択図】図3

5. 发明专利

JP5925101B2 スラリー供給ノズルとそれを用いた排ガス浄化用触媒の製造装置および製造方法有权
标题翻译：装置和用于制造该浆料供给喷嘴的方法和使用其的废气净化催化剂
公开(公告)号：JP5925101B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2012224380
申请日：2012-10-09
申请人：株式会社キャタラー
发明人：渥美健 , 松井優 , 関根洋
IPC分类号： B01D53/86 , B01J37/02

6. 发明专利

JP6655060B2 排ガス浄化用触媒有权
公开(公告)号：JP6655060B2
公开(公告)日：2020-02-26
申请号：JP2017500687
申请日：2016-02-16
申请人：株式会社キャタラー
发明人：尾上亮太 , 坂神新吾 , 野村泰隆 , 森下雄太 , 栗山純実 , 関根洋
IPC分类号： B01J23/63 , B01D53/94 , F01N3/28 , F01N3/10 , F01N3/022 , F01N3/035 , B01J35/04

7. 发明专利

JP6594149B2 排ガス浄化装置有权
公开(公告)号：JP6594149B2
公开(公告)日：2019-10-23
申请号：JP2015197928
申请日：2015-10-05
申请人：株式会社キャタラー
发明人：尾上亮太 , 野村泰隆 , 森下雄太 , 栗山純実 , 関根洋
IPC分类号： F01N3/022 , F01N3/023 , F01N3/035 , B01J23/63 , B01J35/04 , B01D53/94 , B01D46/00 , F01N3/28

8. 发明专利

JPWO2017163984A1 排ガス浄化装置有权
公开(公告)号：JPWO2017163984A1
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：JP2017564935
申请日：2017-03-13
申请人：株式会社キャタラー
发明人：関根洋 , 松井優
IPC分类号： F01N3/035 , B01D53/94 , B01J29/06 , B01J35/04 , B01J35/10 , B01J37/02 , F01N3/022 , F01N3/24 , F01N3/28
CPC分类号： B01D53/94 , B01D2255/50 , B01D2255/9155 , B01D2255/9202 , B01J29/85 , B01J35/04 , F01N3/022 , F01N3/023 , F01N3/035 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/2839
摘要：本発明に係る排ガス浄化装置は、入側セルと出側セルと多孔質の隔壁16とを有するウォールフロー構造の基材10と、前記入側セルまたは前記出側セルに接する前記隔壁の内部に形成された触媒層とを備える。前記触媒層は、前記隔壁の表面から該隔壁の厚さの少なくとも90%までの領域に形成され、且つ、該領域における隔壁の内部細孔の表面に保持されている。そして、各細孔径範囲ごとの細孔に保持された触媒層の平均充填率A、B、Cが特定の関係を満足する。

9. 发明专利

JP2017072033A 排ガス浄化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017072033A
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2015197928
申请日：2015-10-05
申请人：株式会社キャタラー
发明人：尾上亮太 , 野村泰隆 , 森下雄太 , 栗山純実 , 関根洋
IPC分类号： F01N3/022 , F01N3/023 , F01N3/035 , B01J23/63 , B01J35/04 , B01D53/94 , B01D46/00 , F01N3/28
CPC分类号： B01J23/63 , B01D46/2429 , B01D53/94 , B01J35/04 , B01J35/1052 , F01N3/035 , B01D2046/2437 , B01D2255/1021 , B01D2255/1025 , B01D2255/2065 , B01D2255/20715 , B01D2255/2092 , B01D2255/407 , B01D2255/915 , B01D2255/9155 , B01D2255/9202 , F01N13/0097 , F01N2330/48 , F01N3/101 , Y02T10/22
摘要：【課題】排ガスの浄化性能を向上させることができる排ガス浄化装置を提供する。【解決手段】本発明に係る排ガス浄化装置は、入側セルと出側セルと多孔質の隔壁16とを有するウォールフロー構造の基材と、隔壁16の内部細孔の少なくとも一部に設けられ、該内部細孔の表面に保持された触媒層20とを備える。隔壁16の触媒層が保持された内部細孔のうち、細孔径5μm以上10μm未満の細孔に保持された触媒層20の平均充填率Aと、細孔径10μm以上20μm未満の細孔に保持された触媒層20の平均充填率Bと、細孔径20μm以上30μm未満の細孔に保持された触媒層20の平均充填率Cとの関係が、次式:A
【選択図】図4

10. 发明专利

JP2016165673A 触媒用スラリーの塗布装置审中-公开
标题翻译：用于催化剂的浆料设备
公开(公告)号：JP2016165673A
公开(公告)日：2016-09-15
申请号：JP2015046249
申请日：2015-03-09
申请人：株式会社キャタラー
发明人：関根洋 , 永嶋洋樹 , 高岡直弘 , 伊藤実
IPC分类号： B01J35/04 , B01D53/94 , B01J37/02
CPC分类号： B01D53/94 , B01J35/04 , B01J37/02
摘要：【課題】品質が良く性能が高いモノリス型触媒を安価に製造できる触媒用スラリーの塗布装置を提供することを課題とする。【解決手段】塗布装置10は、ハニカム基材1の一端から複数の流通孔2にスラリーを供給する供給枠8と風箱12を真空引きするブロア7を備えている。風箱12の開口11bには、環状の抵抗体5が取り付けられ、スペーサー6を介して抵抗体5の上にハニカム基材1が配置される。ブロア7を作動してスラリーを供給すると、ハニカム基材1の中央領域2aにある流通孔2に塗布されるスラリーのコート幅より外周領域2bにある流通孔2に塗布されるスラリーのコート幅の方が短くなる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于施加用于催化剂的浆料的装置，其中可以以低成本生产具有良好质量和高性能的整料式催化剂。解决方案：用于催化剂的浆料的装置10包括：进料架8 用于将浆料从蜂窝基板1的一端供给到多个分配孔2; 以及用于抽空风箱12的鼓风机7.环形电阻器5安装在风箱12的开口11b上，蜂窝基板1设置在环形电阻5上，同时插入间隔件6。当送风机7运行并且浆料被供给时，施加到存在于蜂窝基板1的外周区域2b中的分配孔2上的涂布浆料的宽度变得比涂布浆料的宽度短被施加到存在于蜂窝基体的中心区域2a中的分配孔2中。图1：

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