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1. 发明专利

JP6564946B2 プラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JP6564946B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2018524035
申请日：2017-06-16
申请人：株式会社アルバック
发明人：中村文生 , 田丸義久 , 矢島貴浩 , 加藤裕子 , 神保洋介 , 植喜信 , 岡野秀一 , 岡山智彦
IPC分类号： H01L21/205 , H05H1/46 , C23C16/505

2. 发明专利

JPWO2019102657A1 リフトピン及び真空処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019102657A1
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018029408
申请日：2018-08-06
申请人：株式会社アルバック
发明人：山本良明 , 神保洋介 , 宮谷武尚 , 江藤謙次 , 阿部洋一
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/683
摘要：本発明のリフトピンは、処理面及び非処理面を有する基板に接触するリフトピンであって、第1表面粗さ及び電気絶縁部を有する第1面と、導電性部材である本体とを有し、前記基板の前記非処理面に対向する中央部材と、前記第1表面粗さよりも小さい第2表面粗さ及び電気絶縁部を有する第2面を有し、前記中央部材の周囲を囲い、前記基板の前記非処理面に対向する周囲部材と、を備える。

3. 发明专利

JP2018019015A 基板搬送ロボット、真空処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018019015A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：JP2016149937
申请日：2016-07-29
申请人：株式会社アルバック
发明人：神保洋介 , 江藤謙次 , 藤井厳
IPC分类号： B65G49/07 , B65G49/06 , B25J15/00 , H01L21/677
摘要：【課題】ハンドの先端を検出しなくても基板の正確な移動ができる基板搬送ロボットを提供する。【解決手段】ハンド40の位置決め指部55を、支持板41上に石英板42を配置して構成し、石英板42の根元部分に、支持板41に固定される固定部50を設ける。石英板42は固定部50以外の部分は支持板41には固定せず、加熱されて支持板41が伸びても、石英板42は伸びず、石英板42の先端に設けられた先端側ストッパ56の熱膨張による移動はない。【選択図】図6

4. 发明专利

JPWO2020145190A1 真空処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020145190A1
公开(公告)日：2021-11-11
申请号：JP2019051352
申请日：2019-12-27
申请人：株式会社アルバック
发明人：宮谷武尚 , 神保洋介 , 山本良明 , 江藤謙次 , 阿部洋一
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C16/50 , C23C16/455 , H01L21/31
摘要：本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置である。真空処理装置は、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、前記電極フランジの前記シャワープレート側に取り付けられる電極枠と、前記シャワープレートの前記電極枠側となる周縁部に取り付けられるスライドプレートと、を有する。前記シャワープレートが略矩形輪郭を有するように形成される。前記電極枠と前記スライドプレートとが、前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記電極枠とで囲まれる空間がシール可能である。前記電極枠が、前記電極フランジに取り付けられる枠状の上板面部と、前記上板面部の輪郭外側全周から前記シャワープレートに向けて立設される縦板面部と、前記縦板面部の下端から前記上板面部と略平行として前記上板面部の輪郭内側端に向けて延在する下板面部とを有する。

5. 发明专利

JPWO2019244790A1 真空処理装置、支持シャフト审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019244790A1
公开(公告)日：2021-01-07
申请号：JP2019023643
申请日：2019-06-14
申请人：株式会社アルバック
发明人：山本良明 , 神保洋介 , 宮谷武尚 , 江藤謙次 , 阿部洋一
IPC分类号： C23C16/505 , H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/455
摘要：本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、チャンバ内において、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジに対向する第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの前記第2面に面し、被処理基板が配置される処理室と、前記シャワープレートの前記第1面に接続されて前記シャワープレートを支持する支持シャフトと、を有する。前記シャワープレートには、前記電極フランジと前記第1面との間の空間から前記処理室へと連通し、所定のコンダクタンスを有する多数のガス流路が形成され、前記支持シャフトが前記シャワープレートに接続された部分において、前記コンダクタンスが前記シャワープレートの面内方向で変化しないように前記支持シャフトの軸方向に延在するシャフトガス流路が設けられる。

6. 发明专利

JP6793828B2 ヒータベース及び処理装置有权
公开(公告)号：JP6793828B2
公开(公告)日：2020-12-02
申请号：JP2019523141
申请日：2019-01-16
申请人：株式会社アルバック
发明人：宮谷武尚 , 神保洋介 , 山本良明 , 江藤謙次 , 阿部洋一
IPC分类号： H05B3/06 , C23C16/46 , C23C16/458 , C23C14/50 , H01L21/683

7. 发明专利

JP6216483B2 混合器、真空処理装置有权
公开(公告)号：JP6216483B2
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2017527376
申请日：2016-10-05
申请人：株式会社アルバック
发明人：田宮慎太郎 , 神保洋介 , 阿部洋一
IPC分类号： B01F3/02 , H01L21/31 , C23C16/455
CPC分类号： B01F3/02 , C23C16/455 , H01L21/31

8. 发明专利

JP2021052139A 真空処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021052139A
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：JP2019175615
申请日：2019-09-26
申请人：株式会社アルバック
发明人：江藤謙次 , 神保洋介 , 山本良明 , 阿部洋一 , 宮谷武尚
IPC分类号： C23C16/509 , C23C16/455 , H05H1/46 , H01L21/31
摘要：【課題】低コストで製造可能であり、耐腐食性を得ることができ、高温のシャワープレートから電極フランジへの熱移動を抑制することができる電極枠を備えた真空処理装置を提供する。【解決手段】電極枠110は、上板部112と、縦板部113と、下板部114とを有する。縦板部113の厚さは、上板部112及び下板部114の厚さより小さい。【選択図】図3

9. 发明专利

JP2020169382A プラズマ処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020169382A
公开(公告)日：2020-10-15
申请号：JP2019073136
申请日：2019-04-05
申请人：株式会社アルバック
发明人：菊池亨 , 神保洋介
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/44
摘要：【課題】シャワープレートに着膜した膜を除去する際に、シャワープレートに入射したクリーニングガスが反応して発生するパーティクルを抑制できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】本発明のプラズマ処理装置A1は、電極フランジ4とシャワープレート5との間に設けられた空間24内へ活性化(ラジカル化)されたクリーニングガスを導入するクリーニングガス供給手段KA1を含み、前記クリーニングガス供給手段は、前記活性化されたクリーニングガスを製造する発生部23と、前記発生部において製造されたクリーニングガスが前記空間と接する前記シャワープレートの上面に沿って該空間内を流れる位置に、前記クリーニングガスの吐出部8aとを備える。【選択図】図1

10. 发明专利

JP6742849B2 基板搬送ロボット、真空処理装置有权
公开(公告)号：JP6742849B2
公开(公告)日：2020-08-19
申请号：JP2016149937
申请日：2016-07-29
申请人：株式会社アルバック
发明人：神保洋介 , 江藤謙次 , 藤井厳
IPC分类号： B65G49/07 , B65G49/06 , B25J15/00 , H01L21/677

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