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    • 4. 发明专利
    • 誘電体薄膜、誘電体薄膜素子および薄膜コンデンサ
    • 电介质薄膜,介电薄膜元件和薄膜电容器
    • JPWO2013005468A1
    • 2015-02-23
    • JP2013522504
    • 2012-04-20
    • 株式会社村田製作所独立行政法人物質・材料研究機構
    • 貴史 岡本貴史 岡本実 長田実 長田佐々木 高義高義 佐々木
    • H01G4/12H01L21/822H01L27/04
    • H01G4/10H01G4/018H01G4/18H01G4/206H01G4/33H01L28/40H01L29/94H01L51/0037H01L51/0579
    • 【課題】漏れ電流を低減できる誘電体薄膜、誘電体薄膜素子および薄膜コンデンサを提供する。【解決手段】薄膜コンデンサ1は、基板10と、基板10上に形成された誘電体薄膜素子16と、を備えている。基板10は、Si板2と、Si板2上に形成されたSiO2膜4と、SiO2膜4上に形成されたTi膜6と、で形成されている。誘電体薄膜素子16は、下部電極8と、下部電極8上に形成された誘電体薄膜12と、誘電体薄膜12上に形成された上部電極14と、で構成されている。誘電体薄膜12は、ナノシートにより構成される薄膜であって、誘電体薄膜12の空隙部にp型導電性有機高分子が充填されている。ナノシートの主成分となる誘電体としては、Ti0.87O2、あるいは、Ca2Nb3O10などが用いられている。p型導電性有機高分子としては、ポリピロール、ポリアニリン、あるいは、ポリエチレンジオキシチオフェンなどが適している。
    • 的电介质薄膜能够降低漏电流,以提供电介质薄膜元件和薄膜电容器。 一种薄膜电容器1包括基板10,和形成在基板10中,在介电薄膜元件16。 基板10包括在Si基板2,形成在Si板2 SiO 2膜4,Ti膜6形成在SiO 2膜4,在其上形成。 电介质薄膜元件16包括下电极8,形成在该下电极8的电介质薄膜12,和形成在电介质薄膜12上的上部电极14,在被配置。 介电膜12是薄膜的纳米片,p型导电性有机聚合物填充在电介质膜12的间隙部分组成。 电介质用作纳米片,Ti0.87O2等Ca2Nb3O10的主要成分被使用。 在p型导电性有机聚合物,聚吡咯,聚苯胺,或聚乙烯二氧噻吩是合适的。