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1. 发明专利

JP2018178022A 多孔質膜の形成に用いられる分散液、多孔質膜、蓄電素子、及び多孔質膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP2018178022A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017082398
申请日：2017-04-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博 , 引間武
IPC分类号： H01M2/16 , H01M4/139 , D21H13/02 , C08J9/28
CPC分类号： C08J3/095 , B01D71/12 , C08J9/28 , C08J2201/0502 , C08J2301/04 , H01M2/145 , H01M2/1626 , H01M2/1673 , H01M10/0525
摘要：【課題】良好且つ安定に分散された(A)繊維材料を含み、且つ、空孔率が高い多孔質膜を形成できる分散液と、前述の分散液を用いて形成される多孔質膜と、前述の多孔質膜を備える蓄電素子と、前述の分散液を用いる多孔質膜の製造方法とを提供すること。【解決手段】塗布及び乾燥による多孔質膜の形成に用いられる、(A)繊維材料と(B)有機溶剤とを含む分散液において、(A)繊維材料に、所定の範囲内の量のカルボキシ基、又はその金属塩を含む変性セルロース繊維を含有させ、且つ分散液中の水分量を5質量%以下とする。【選択図】なし

2. 发明专利

JP6180196B2 ガラス加工用感光性樹脂組成物及びガラス加工方法有权
公开(公告)号：JP6180196B2
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：JP2013126378
申请日：2013-06-17
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博 , 土居香織
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/40 , G03F7/004

3. 发明专利

JP6109506B2 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、スペーサ、及び表示装置有权
公开(公告)号：JP6109506B2
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：JP2012174371
申请日：2012-08-06
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：塩田大 , 野田国宏 , 植松照博
IPC分类号： C08K5/17 , G03F7/033 , G03F7/004 , G02F1/1339 , C08F2/50 , C08L33/02

4. 发明专利

JP2016053185A ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法有权
标题翻译：用于黑色柱间隔件，黑色色谱柱间隔件，显示装置和用于形成黑色色谱柱间隔物的方法的感光性树脂组合物
公开(公告)号：JP2016053185A
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：JP2015252114
申请日：2015-12-24
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博 , 舘野功 , 高橋香織 , 山口尚人
IPC分类号： G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/027 , G02F1/1339 , C08F2/44 , C08F265/06 , C08F2/50
摘要：【課題】ハーフトーンマスクを介して露光を行う場合に、十分に高さの差があるブラックカラムスペーサを形成できる感光性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたブラックカラムスペーサ、該ブラックカラムスペーサを備える表示装置、及び該組成物を用いたブラックカラムスペーサの形成方法を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び遮光剤を含有する、ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂として、カルド構造を有する樹脂とアクリル系樹脂とを含む樹脂を用いる。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种感光性树脂组合物，通过使用该组合物而形成的黑色柱状间隔物，可以通过半色调掩模曝光而形成具有足够高度差的黑色柱状间隔物，具有黑色柱状间隔物的显示装置，以及使用上述组成形成黑色柱状间隔物的方法。解决方案：黑色柱状间隔物的感光性树脂组合物包含碱溶性树脂，光聚合性单体，光聚合引发剂和遮光剂，其中，使用包含具有卡状结构的树脂和丙烯酸树脂的树脂作为碱溶性树脂。选择图：无

5. 发明专利

JP2021077768A 保護膜形成剤、半導体チップの製造方法、及び(メタ)アクリル樹脂の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021077768A
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2019203316
申请日：2019-11-08
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博
IPC分类号： C08F20/58 , C08F220/58 , H01L21/301
摘要：【課題】固形分濃度を高めても過度に粘度が高くなりにくい保護膜形成剤と、当該保護膜形成剤を用いる半導体チップの製造方法と、前述の保護膜形成剤の成分として好適に使用し得る(メタ)アクリル樹脂の製造方法とを提供すること。【解決手段】水溶性樹脂(A)と、吸光剤(B)と、溶媒(S)とを含む保護膜形成剤において、水溶性樹脂(A)として、脂環式構造を含む特定の構造の(メタ)アクリルアミド誘導体に由来する構成単位を含む(メタ)アクリル樹脂を用いる。【選択図】なし

7. 发明专利

JP2016108172A エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法审中-公开
标题翻译：用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的预处理方法
公开(公告)号：JP2016108172A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014245113
申请日：2014-12-03
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博 , 田上勝弥
IPC分类号： G06F3/041 , G03F7/09 , G03F7/26 , C03C23/00 , C03C15/00 , C03C17/28
摘要：【課題】金属配線と非導電性の被膜とを表面に備えるガラス基板上にエッチングマスクを形成する際に、エッチングマスク中の開口部のガラス基板の面方向についての断面積に関して、ガラス基板表面側の断面積と、エッチングマスク表面における開口部の断面積との差を小さくでき、且つ、ガラス基板全面から速やかに剥離可能なエッチングマスクの形成を可能とするガラス基板の前処理方法と、当該前処理方法を施されたガラス基板上にエッチングマスクを形成する方法と、当該方法により形成されたエッチングマスクを備えるガラス基板のエッチングによる加工方法と、を提供すること。【解決手段】金属配線と、有機又は無機材料からなる非導電性の被膜とを表面に備えるガラス基板上にエッチングマスクを形成する前に、ガラス基板の表面に対して、ガラス基板の表面と化学的に結合し得る官能基を持たないアミンを含む処理液によるアミン処理を施す。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种玻璃基板的预处理方法，当玻璃基板在蚀刻掩模的开口中的表面方向上的横截面积可以减小横截面积当在具有金属布线和形成在表面上的非导电涂层的玻璃基板上形成蚀刻掩模时，在玻璃基板表面的一侧和蚀刻掩模表面上的开口的横截面积，并且可以形成蚀刻掩模可以立即从整个玻璃基板表面剥离，在经过预处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模的方法以及具有根据该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的处理方法，通过蚀刻。在由金属布线和非导电涂层形成的有机或无机材料的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，形成在苏在玻璃基板的表面上使用含有不具有能够与玻璃基板的表面进行化学偶合的官能团的胺的处理液进行胺处理。选择图：无

8. 发明专利

JP2015101500A 化学強化ガラス基板の加工方法有权
标题翻译：用于化学加强玻璃基材的加工方法
公开(公告)号：JP2015101500A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：JP2013242339
申请日：2013-11-22
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博
IPC分类号： G03F7/42 , C03C15/00
摘要：【課題】化学強化ガラス基板の表面に感光性樹脂組成物を用いてエッチングマスクを形成した後に、化学強化ガラス基板の表面にエッチング加工を施す方法であって、エッチングマスクの残渣を殆ど発生させることなく化学強化ガラス基板の表面から速やかにエッチングマスクを除去できる化学強化ガラス基板の加工方法と、当該加工方法に供される化学強化ガラス基板とを提供すること。【解決手段】感光性樹脂組成物を用いて形成されるエッチングマスクを備える化学強化ガラス基板をエッチング加工する際に、エッチングを施される面の、表面から深さ10μmまでの表層のナトリウムとカリウムの元素成分比率合計が13質量%以下である化学強化ガラス基板を用いる。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供化学强化玻璃基板的处理方法，作为在化学强化玻璃基板的表面上施加蚀刻工艺的方法之后，使用感光性树脂组合物在化学表面上形成蚀刻掩模该加工方法能够从化学强化玻璃基板的表面快速除去蚀刻掩模，同时几乎不产生蚀刻掩模的残留物，并且还提供用于该处理方法的化学强化玻璃基板。解决方案：当对具有使用感光性树脂组合物形成的蚀刻掩模的化学强化玻璃基板进行蚀刻处理时，使用化学强化玻璃基板，其中被蚀刻表面具有钠和从表面到深度10μm的表面层中的钾为13 质量％以下。

9. 发明专利

JP6931280B2 多孔質膜形成用組成物、セパレータ、電気化学素子、及び電極複合体の製造方法有权
公开(公告)号：JP6931280B2
公开(公告)日：2021-09-01
申请号：JP2016218419
申请日：2016-11-08
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：植松照博 , 引間武
IPC分类号： H01M10/052 , H01M10/0583 , H01M4/04 , H01G11/52 , H01G9/02 , C08J9/28

10. 发明专利

JP2019125485A 非水電解質二次電池、及び非水電解質二次電池の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019125485A
公开(公告)日：2019-07-25
申请号：JP2018005185
申请日：2018-01-16
申请人：東京応化工業株式会社 , 日産自動車株式会社
发明人：植松照博 , 引間武 , 小瀬村透 , 垣内孝宏
IPC分类号： H01M4/13 , H01M2/16 , H01M4/74 , H01M4/80 , H01M4/139 , H01M10/058
摘要：【課題】凹凸構造を有する電極間に皺や破れなくセパレータが挟み込まれることによって、高容量化、繰り返し使用性及び高速充電性能が改良された非水電解質二次電池と、当該非水電解質二次電池の製造方法とを提供すること。【解決手段】本発明者らは、凹凸構造を有する正極層と、セパレータと、凹凸構造を有する負極層とをこの順で積層させた積層構造を有する非水電解質2次電池において、前述の積層構造の断面を観察した場合の、正極層又は負極層の凹凸構造の輪郭線の長さと、正極層又は負極層に対向するセパレータの輪郭線の長さとの比率を所定の範囲内に制限する。【選択図】図1

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