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1. 发明专利

JP2017037989A レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：的抗蚀剂图案形成装置和抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：JP2017037989A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2015158946
申请日：2015-08-11
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：細田浩 , 稲尾吉浩 , 佐藤晶彦 , 小西清孝
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：【課題】光透過性および耐熱性を両立させた信頼性の高いパターンが得られる、レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】基板上にレジスト膜を塗布する塗布装置と、レジスト膜の現像処理を行うことでプレパターンを形成する現像装置と、常温雰囲気下で現像後のプレパターンに光照射することで該プレパターンを脱色する第1の光照射装置と、脱色後のプレパターンに光照射することで該プレパターンを硬化させる第2の光照射装置と、を備えるレジストパターン形成装置に関する。【選択図】図1
摘要翻译：的光传输和高可靠性模式，结合可以得到耐热性，提供了一种抗蚀剂图案形成装置和用于形成抗蚀剂图案的方法。和用于在衬底上涂敷抗蚀剂膜，显影装置用于通过执行对抗蚀剂膜的显影处理形成预图案的涂覆设备，所述由常温气氛下显影后的光照射于预图案第一漂白预图案的光照射装置，以及用于通过漂白后照射光到所述预图案固化所述预图案的第二光照射装置，抗蚀剂设置有图案形成装置。点域1

2. 发明专利

JP6600566B2 紫外線照射装置及び紫外線照射方法有权
公开(公告)号：JP6600566B2
公开(公告)日：2019-10-30
申请号：JP2016007724
申请日：2016-01-19
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：稲尾吉浩 , 佐藤晶彦 , 小西清孝 , 小針倫 , 細田浩
IPC分类号： H01L21/027

3. 发明专利

JP2018152438A 紫外線照射装置及び紫外線照射方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018152438A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046793
申请日：2017-03-10
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：佐藤晶彦 , 細田浩 , 小西清孝
IPC分类号： B01J19/12 , H01L21/027
摘要：【課題】紫外線を効率良く照射できる紫外線照射装置及び紫外線照射方法を提供する。【解決手段】基板を密閉空間で収容可能な基板収容部と、所定の波長域の紫外線を基板に照射する照射部と、基板収容部に設けられ、照射部から照射された紫外線を透過させる透光性部材と、透光性部材を基板収容部に保持する保持部材と、基板収容部と照射部とを相対移動させる駆動装置と、を備え、保持部材と透光性部材とが平面的に重なる割合は、透光性基板における面積の10%以下である紫外線照射装置に関する。【選択図】図1

4. 发明专利

JP6596257B2 紫外線照射装置及び紫外線照射方法有权
公开(公告)号：JP6596257B2
公开(公告)日：2019-10-23
申请号：JP2015153347
申请日：2015-08-03
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：細田浩 , 佐藤晶彦 , 稲尾吉浩 , 小西清孝
IPC分类号： H01L21/027

5. 发明专利

JP6518548B2 紫外線照射装置、レジストパターン形成装置、紫外線照射方法及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6518548B2
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：JP2015158021
申请日：2015-08-10
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：稲尾吉浩 , 小西清孝 , 佐藤晶彦 , 細田浩
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/30 , H01L21/027 , G03F7/20

6. 发明专利

JP2020027919A 基板加熱装置および基板処理システム审中-公开
公开(公告)号：JP2020027919A
公开(公告)日：2020-02-20
申请号：JP2018153499
申请日：2018-08-17
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：小西清孝 , 末兼大輔 , 細田浩 , 加藤茂
IPC分类号： H01L21/027 , F27B9/24 , H05K3/00 , H01L21/677
摘要：【課題】基板の加熱温度が制限されにくくするとともに、チャンバ内部への昇華物の付着を抑制する。【解決手段】実施形態の基板加熱装置は、溶液を塗布した基板を収容可能な収容空間が内部に形成されたチャンバと、前記収容空間に配置されるとともに、前記基板を加熱可能な基板加熱部と、前記基板における前記溶液の塗布面と、前記チャンバにおいて前記塗布面と対向する対向面との間に少なくとも配置されたガラスと、を含む。【選択図】図2

7. 发明专利

JP2017130511A 紫外線照射装置及び紫外線照射方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017130511A
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：JP2016007724
申请日：2016-01-19
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：稲尾吉浩 , 佐藤晶彦 , 小西清孝 , 小針倫 , 細田浩
IPC分类号： H01L21/027
摘要：【課題】照射部の熱を排出する配管の寿命を向上できる紫外線照射装置を提供する。【解決手段】基板に紫外線を照射可能な照射部40と、前記照射部の熱を排出可能な配管を有する排気部6と、前記照射部及び前記配管を同期させて移動可能な移動部5と、を含み、搬送機構5は、チャンバ2の外部からチャンバ2の内部に収容されている基板10に紫外線が照射されるように照射ユニット4をチャンバ2の外部で移動させ、照射ユニット4に配管60を同期させて移動させる。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2017034118A 紫外線照射装置及び紫外線照射方法审中-公开
标题翻译：法紫外线照射装置和紫外辐射
公开(公告)号：JP2017034118A
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：JP2015153347
申请日：2015-08-03
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：細田浩 , 佐藤晶彦 , 稲尾吉浩 , 小西清孝
IPC分类号： H01L21/027
摘要：【課題】紫外線を照射してキュアする紫外線照射装置において、基板収容部内のパーティクルの発生を抑制し、基板を清浄に保つ装置及び方法を提供する。【解決手段】基板10を密閉空間で収容可能な収容部2と、前記収容部の外部に設けられ、前記基板に紫外線を照射可能な照射部40と、前記収容部の外部に設けられ、前記収容部の外部から前記収容部の内部に収容されている前記基板に前記紫外線が照射されるように前記照射部を前記収容部の外部で移動させる移動部5と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：公开了一种用于通过紫外线照射固化，为了抑制基板接收部分内的颗粒的产生，提供一种装置和方法保持在基板清洁UV照射装置。和甲壳体2能够在封闭空间中容纳在基板10的，接收部，照射部40能够照射紫外线到所述基板的，外部提供的所述接收部的外侧，其中从包括，使得紫外线包含在其中的基板在容纳部照射移动照射单元的壳体部分的外部的移动单元5的壳体部分的外部。点域1

9. 发明专利

JP6866193B2 紫外線照射装置及び紫外線照射方法有权
公开(公告)号：JP6866193B2
公开(公告)日：2021-04-28
申请号：JP2017046793
申请日：2017-03-10
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：佐藤晶彦 , 細田浩 , 小西清孝
IPC分类号： B01J19/12 , H01L21/027

10. 发明专利

JP6605876B2 レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6605876B2
公开(公告)日：2019-11-13
申请号：JP2015158946
申请日：2015-08-11
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：細田浩 , 稲尾吉浩 , 佐藤晶彦 , 小西清孝
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027

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