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4. 发明专利

JP2016149480A 基板処理装置及び基板処理方法有权
标题翻译：基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：JP2016149480A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：JP2015026205
申请日：2015-02-13
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：鈴木啓之 , 田中満雄 , 大塚貴久
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】チャンバーの内部で空気が滞留するのを抑制して、基板を良好に処理することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。【解決手段】本発明では、基板(9)を囲むチャンバー(19)と、前記チャンバー(19)の内部に上方から下方へ向けて流れる気流(46)を形成する給気部(43,44)と、前記チャンバー(19)から前記気流を排出する排気口(34,49,50)と、前記チャンバー(19)の内側に設けられ、上方から下方へ向けて傾斜させた整流体(39)とを有する基板処理装置(1)において、前記チャンバー(19)の内部に上方から下方へ向けて流れる気流(46)を形成するとともに、前記チャンバー(19)の内側に前記整流体(39)に沿って上方から下方へ向けて傾斜状に流れる気流(51,52)を形成することにした。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制室内的空气积聚以有利地处理基板的基板处理装置和基板处理方法。解决方案根据本实施方式，基板处理装置（1）包括：围绕基板（9）的室（19）; 用于在腔室（19）中形成从顶部到底部流动的气流（46）的空气供应部件（43,44）用于从所述腔室（19）排出气流的空气出口（34,49,50）; 以及设置在所述室（19）内并且从上到下倾斜的整流器（39）。在室（19）内部形成从顶部向底部流动的气流（46），并且在室（19）内部形成有沿着整流器（39）以倾斜方式从顶部向底部流动的气流（51,52）图4

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