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1. 发明专利

JPWO2017134991A1 有機半導体膜の製造装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017134991A1
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2017000594
申请日：2017-01-11
申请人：富士フイルム株式会社 , 国立大学法人東京大学
发明人：中村誠吾 , 前原佳紀 , 板井雄一郎 , 宇佐美由久 , 竹谷純一
IPC分类号： H01L51/05 , H01L29/786 , H01L21/336 , H01L51/40
CPC分类号： B05C11/045 , B05C5/0254 , H01L29/786 , H01L51/0003 , H01L51/05 , H01L51/0512 , H01L51/105
摘要：有機半導体溶液を用いて有機半導体膜を製造する有機半導体膜の製造装置である。製造装置は、有機半導体膜を形成する基板の表面に対向して離間して配置され、基板との間に有機半導体溶液の液溜りを形成する塗布部材と、基板と塗布部材の間に有機半導体溶液を供給する供給部と、有機半導体溶液の結晶成長部を少なくとも覆うカバー部とを有する。カバー部は蒸発した有機半導体溶液の溶媒が付着し、蒸発した有機半導体溶液の溶媒で形成される付着物を有機半導体膜の未成膜領域に導くガイドを備える。基板の表面との間に供給部で有機半導体溶液を供給しながら、塗布部材を有機半導体溶液に接した状態で、基板の表面と平行な第1の方向に移動させて結晶成長部を起点として有機半導体膜を形成する。

2. 发明专利

JPWO2017134990A1 有機半導体膜の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017134990A1
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017000589
申请日：2017-01-11
申请人：富士フイルム株式会社 , 国立大学法人東京大学
发明人：中村誠吾 , 前原佳紀 , 板井雄一郎 , 宇佐美由久 , 竹谷純一
IPC分类号： H01L51/05 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L51/40
CPC分类号： H01L51/0003 , B05C11/045 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/0512 , H01L51/105
摘要：基板の基板表面に対向して離間して配置された塗布ブレードのブレード表面と基板表面との間に有機半導体溶液を供給しながら、ブレード表面を有機半導体溶液に接して基板表面と平行な第1の方向に移動させて有機半導体膜を第1の方向に形成させていく製造工程を有する有機半導体膜の製造方法である。塗布ブレードはブレード表面と有機半導体溶液が接している領域に、基板表面に対して離間ギャップの大きさが異なる第1のギャップと第2のギャップとを第1の方向の上流側に第1のギャップと、下流側に第1のギャップに比べてギャップの大きさが小さい第2のギャップを持って配置されている。第2のギャップの大きさは基板表面とブレード表面との最小距離であり、かつ40μm以下である。

3. 发明专利

JP6851511B2 光学薄膜、光学素子および光学系有权
公开(公告)号：JP6851511B2
公开(公告)日：2021-03-31
申请号：JP2019568894
申请日：2018-11-29
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：梅田賢一 , 中村誠吾 , 吉弘達矢 , 板井雄一郎
IPC分类号： G02B1/118 , G02B1/115

4. 发明专利

JP6776454B2 積層膜および積層膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6776454B2
公开(公告)日：2020-10-28
申请号：JP2019539149
申请日：2018-08-08
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：梅田賢一 , 板井雄一郎 , 中村誠吾
IPC分类号： B32B15/04 , B32B9/00

5. 发明专利

JP6615409B2 光学薄膜、光学素子、光学系および光学薄膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6615409B2
公开(公告)日：2019-12-04
申请号：JP2019508669
申请日：2018-02-01
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：園田慎一郎 , 吉弘達矢 , 梅田賢一 , 板井雄一郎 , 中村誠吾
IPC分类号： G02B1/118 , G02B15/20 , B32B15/01 , G02B1/116

6. 发明专利

JP6615407B2 透明光学膜の製造方法および透明多層膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6615407B2
公开(公告)日：2019-12-04
申请号：JP2019505759
申请日：2018-02-01
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：中村誠吾 , 梅田賢一 , 板井雄一郎 , 園田慎一郎
IPC分类号： C23C14/58 , B32B7/023 , B32B15/01 , B32B37/06 , G02B1/116 , C23C14/14

7. 发明专利

JP6581719B2 膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6581719B2
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：JP2018508799
申请日：2017-02-24
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：中村誠吾 , 前原佳紀 , 板井雄一郎 , 宇佐美由久
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L51/40

8. 发明专利

JPWO2017169398A1 膜の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017169398A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：JP2017007229
申请日：2017-02-24
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：中村誠吾 , 前原佳紀 , 板井雄一郎 , 宇佐美由久
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L51/40
摘要：膜の製造方法は基板の基板表面に対向して離間して配置された塗布ブレードのブレード表面と基板表面との間にある膜形成用の溶液に、ブレード表面が接した状態で基板表面に対して平行な面内において、第1の方向に移動させて膜を形成する製造工程を有し、溶液はブレード表面と基板表面との間の液溜で保持され、塗布ブレードの溶液と接している外周端部の少なくとも一部が、基板表面に対して平行な面内において、第1の方向に対して傾いている。これにより、良質な膜を高い生産性で形成する膜の製造方法を提供する。

9. 发明专利

JP2015189155A 機能性積層材料、機能性積層材料の製造方法、および機能性積層材料を含む有機電界発光装置、ならびに重合性組成物审中-公开
标题翻译：功能层压材料，功能层压材料的制造方法，含有功能层压材料的有机电致发光器件和可聚合组合物
公开(公告)号：JP2015189155A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014069345
申请日：2014-03-28
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：益居健介 , 板井雄一郎
IPC分类号： G02B5/00 , H01L51/50 , H05B33/02 , G02B5/02 , B32B27/30 , C08F2/44 , B32B7/02
摘要：【課題】着色が生じにくい機能性積層材料およびその製造方法、光取り出し効率のよい有機電界発光装置、ならびに上記機能性積層材料等の作製に有用な重合性組成物を提供すること。【解決手段】基板と光拡散層を含む光取り出し層とを含み、上記光拡散層は、有機光拡散粒子とバインダーとを含む光拡散層形成材料から形成された層であり、上記バインダーは、酸化チタン微粒子とイソシアヌル酸(メタ)アクリレートとを含む機能性積層材料;SP値が8.5(cal/cm 3 ) 1/2 以上13(cal/cm 3 ) 1/2 以下である溶媒を含む材料を用いる上記機能性積層材料の製造方法;上記機能性積層材料を用いた有機電界発光装置;ならびに酸化チタン微粒子とイソシアヌル酸(メタ)アクリレートとを含む重合性組成物であって、重合性化合物の総質量に対し、30質量%以上のイソシアヌル酸(メタ)アクリレートを含む重合性組成物。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供几乎不引起着色的功能层压材料及其制造方法，并提供具有优异的光提取效率的有机电致发光器件和可用于生产功能层压材料等的聚合性组合物。解决方案：提供了一种功能层压材料，其包括基板和包括光扩散层的光提取层，其中光扩散层是由含有有机光扩散粒子和粘合剂的光扩散层形成材料形成的层并且所述粘合剂含有氧化钛微粒和异氰脲酸（甲基）丙烯酸酯; 使用含有SP值为8.5（cal / cm）以上且13（cal / cm）以下的溶剂的材料制造功能层叠材料的方法; 使用该功能层叠材料的有机电致发光元件; 和包含氧化钛微粒和异氰脲酸（甲基）丙烯酸酯并且基于可聚合化合物的总质量含有30质量％以上的异氰脲酸（甲基）丙烯酸酯的可聚合组合物）。

10. 发明专利

JPWO2020066428A1 反射防止膜、光学素子、反射防止膜の製造方法および微細凹凸構造の形成方法有权
公开(公告)号：JPWO2020066428A1
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：JP2019033564
申请日：2019-08-27
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：吉弘達矢 , 板井雄一郎
IPC分类号： G02B1/118
摘要：容易に作製可能であり、かつ、より良い反射防止性を有する反射防止膜、反射防止膜を備えた光学素子、反射防止膜の製造方法および微細凹凸構造の形成方法を提供する。基材上の成膜面にアルミニウムを含む薄膜を形成する薄膜形成工程と、薄膜に対して温水処理を施すことにより、アルミナの水和物を主成分とする板状結晶からなる微細凹凸構造を形成する温水処理工程とを複数回繰り返す。これにより、表面である凸部先端から基材側に向かう厚さ方向に徐々に変化して最も基材側の界面において最大値となる屈折率プロファイルを有し、表面における屈折率が1.01以下であり、表面から厚さ方向に100nmまでの第1の屈折率勾配は、反射防止対象とする光の波長域における最も長い波長をλ max とした場合に0.4/λ max 以下である微細凹凸層を含む反射防止膜を得る。

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