基本信息:
- 专利标题： 有機半導体膜の製造方法
- 专利标题（英）：JPWO2017134990A1 - Method of producing an organic semiconductor film
- 申请号：JP2017000589 申请日：2017-01-11
- 公开(公告)号：JPWO2017134990A1 公开(公告)日：2018-11-08
- 发明人： 中村 誠吾 , 前原 佳紀 , 板井 雄一郎 , 宇佐美 由久 , 竹谷 純一
- 申请人： 富士フイルム株式会社 , 国立大学法人 東京大学
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社,国立大学法人 東京大学
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社,国立大学法人 東京大学
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 渡辺 望稔; 伊東 秀明; 三橋 史生
- 优先权： JP2016019101 2016-02-03
- 主分类号： H01L51/05
- IPC分类号： H01L51/05 ; H01L21/336 ; H01L29/786 ; H01L51/40
While supplying the organic semiconductor solution between the blade surface and the substrate surface of the coated blades spaced opposite the substrate surface of the substrate, the parallel to the substrate surface in contact with the blade surface in the organic semiconductor solution 1 it is moved in the direction by a method of producing an organic semiconductor film having a manufacturing process to continue to form an organic semiconductor film in a first direction. A region coating blade is the blade surface and the organic semiconductor solution is in contact, the spacing gap with respect to the substrate surface have different sizes first and gap and the second gap first on the upstream side of the first direction a gap, are arranged with a second gap is small size of the gap than the first gap to the downstream side. The size of the second gap is the minimum distance between the substrate surface and the blade surface, and is 40μm or less.
公开/授权文献:
- JP6863748B2 遊技管理システム及び遊技管理方法 公开/授权日：2021-04-21