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热词
    • 1. 发明专利
    • 真空浸炭処理方法
    • 真空加热方法
    • JP2014208867A
    • 2014-11-06
    • JP2013116142
    • 2013-05-31
    • 大同特殊鋼株式会社Daido Steel Co Ltd
    • ANDO TOMOHIROUMEMORI NAOKIMORITA TOSHIYUKISHIMOMURA TETSUYAMATSUMURA KOJI
    • C23C8/32C21D1/06C22C38/00C22C38/38
    • C21D1/06C22C38/00C22C38/38C23C8/32
    • 【課題】浸炭処理中における結晶粒粗大化因子の変動に応じて必要且つ適正量での処理炉への窒化性ガスの導入を可能とする真空浸炭処理方法を提供する。【解決手段】ピン止め粒子形成元素として、Al:0.020〜0.100%,Nb:0.01〜0.20%,Ti:0.005〜0.20%の1種以上を含有する鋼を、処理炉内でA3点以上の温度に加熱して保持し、浸炭性ガスにて真空浸炭処理するに際し、AlN,NbN,TiNの1種若しくは2種以上から成る窒化物粒子の総量V(質量%)が、浸炭処理中に以下の式(1)の値以上を維持するように浸炭処理中に処理炉内に窒化性ガスを導入し窒化雰囲気制御する。(3.33?10−5?C+7.33?10−5)?T−(3.58?10−2?C+7.37?10−2)・・・式(1)【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供一种真空渗碳方法,其能够响应于渗碳过程中晶粒粗化因素的变化,以适当的量将氮化气体引入到处理炉中。解决方案:在含有一种或多种的钢的真空渗碳 通过在等于或高于A的温度下加热并保持在处理炉中并且用渗碳气体进行真空渗碳,作为钉扎晶粒形成元素的0.020-0.100%的Al,0.01-0.20%的Nb和0.005-0.20%的Ti 在氮化气体被控制的同时,在渗碳过程中将氮化气体引入处理炉中,使得NlN,NbN和TiN中的一种或多种氮化物颗粒的总量V,质量%保持等式(1 )或更高。 式(1):(3.33×10×C + 7.33×10)×T(3.58×10×C + 7.37×10)。
    • 2. 发明专利
    • 金型の割れ発生防止方法
    • 模具裂缝生成预防方法
    • JP2015016489A
    • 2015-01-29
    • JP2013145205
    • 2013-07-11
    • 大同特殊鋼株式会社Daido Steel Co Ltd
    • UMEMORI NAOKI
    • B22D17/22B21D37/20B21J13/02B22C9/06C23C24/02C23F15/00
    • 【課題】手間がかかることなく、しかも必要最低限の材料で水冷孔に生じ得る錆を起因とした割れの発生を防止する。【解決手段】ダイカスト金型や鍛造金型等の金型に形成された冷却用の水冷孔に、鉄よりもイオン化傾向が高い元素から構成される投射材を投射して、水冷孔の表面に投射材の一部を付着させることを特徴とする金型の割れ発生防止方法とした。また、投射材は、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、チタンから選択される1種または2種以上を含有することが望ましい。【選択図】図1
    • 要解决的问题:防止在无需劳动的情况下在水冷却孔上产生由于锈蚀产生的裂缝,并且材料必须最小化。解决方案:模具裂纹产生防止方法的特征在于,由化学元素形成的突起材料 其电离倾向高于铁的电离倾向投影到形成在诸如压铸模和锻造模的模具上的水冷却用水冷却孔,用于将突出材料的一部分接合到水冷却孔的表面 。 此外,投影材料优选含有选自锌,铝,镁和钛中的一种或多种。
    • 3. 发明专利
    • Heat treatment method of steel material
    • 钢材热处理方法
    • JP2011157598A
    • 2011-08-18
    • JP2010020895
    • 2010-02-02
    • Daido Steel Co Ltd大同特殊鋼株式会社
    • UMEMORI NAOKIMORITA TOSHIYUKISHIMOMURA TETSUYA
    • C23C8/80C21D1/06C21D1/76C21D3/06C23C8/32C23C8/34
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat treatment method of a steel material in which an improvement in the strength of the steel material is achieved.
      SOLUTION: When ammonia gas is used as a nitriding gas in vacuum carbonitriding treatment, hydrogen produced by the decomposition of the ammonia gas permeates into the steel material and inhibits the improvement in the strength. Therefore, in the heat treatment method of the steel material in which vacuum nitriding treatment is performed after vacuum carburizing treatment, a dehydrogenation treatment to reduce the partial pressure of hydrogen in the atmosphere to 10 Pa or less is performed after the completion of the vacuum nitriding treatment. Since the dehydrogenation treatment is performed by feeding nitrogen gas into the atmosphere, only hydrogen can be released from the steel material by reducing the partial pressure of hydrogen without releasing the nitrogen permeated into the steel material by the vacuum nitriding treatment.
      COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
    • 要解决的问题:提供钢材的强度提高的钢材的热处理方法。 解决方案:当在真空碳氮共渗处理中使用氨气作为氮化气体时,由氨气分解产生的氢气渗透到钢材中并抑制强度的提高。 因此,在真空渗碳处理后进行真空氮化处理的钢材的热处理方法中,在真空氮化完成后,进行将氢气在大气中的分压降低至10Pa以下的脱氢处理 治疗。 由于通过向大气中进料氮气进行脱氢处理,因此通过减少氢气的分压而不会通过真空氮化处理而释放渗透到钢材中的氮,从钢材释放氢。 版权所有(C)2011,JPO&INPIT
    • 5. 发明专利
    • 耐摩耗性及びピッチング強度に優れた歯車を形成するためのショットピーニング方法
    • 用于形成耐磨损和切割强度的齿轮的发射方法
    • JP2014210294A
    • 2014-11-13
    • JP2013086314
    • 2013-04-17
    • 大同特殊鋼株式会社Daido Steel Co Ltd
    • UMEMORI NAOKIISHIKURA RYOHEI
    • B24C1/10B23F19/00B24C11/00C21D7/06C23C8/22C23C10/60
    • Y02P10/212
    • 【課題】歯車の歯面疲労強度を良好に向上させ得るショットピーニング方法を提供する。【解決手段】本発明のショットピーニング方法では、700HV以上の硬さの投射材を、投射エア圧力0.2〜0.6MPaの条件下で、1段目の投射材の粒径としてφ0.3〜1.0mmの範囲内のものを用い、2段目の投射材の粒径としてφ0.05〜0.2mmの範囲内のものを用いて浸炭処理後の歯車に投射する2段ショットピーニングを行うことにより、歯車の歯面の表層から30μm深さ位置までの最大圧縮残留応力が1500MPa以上、歯面の表層から75μm深さ位置での圧縮残留応力が600MPa以上、かつ歯面の表面粗さRaが0.8μm以下に設定される。【選択図】図3
    • 要解决的问题:提供一种能够极大地提高齿轮的齿面疲劳强度的喷丸硬化方法。解决方案:在本发明的喷丸硬化方法中,进行两级喷丸处理以投影 通过在喷射空气压力为0.2〜0.6MPa的条件下使用硬度为700HV以上的砂粒进行渗碳处理后的齿轮。 在第一阶段,具有粒径& 使用在0.3-1.0mm的范围内,在第二阶段中,具有粒径& 在0.05-0.2mm的范围内使用。 结果,从齿轮的齿面的表面层到深度位置为30μm的最大压缩残余应力被设定为1500MPa以上,从表面层到达深度位置为75μm的压缩残余应力 的齿面的角度设定为600MPa以上,齿面的表面粗糙度Ra也设定为0.8μm以下。