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    • 10. 发明专利
    • 有機半導体素子及びそれを備えたCMIS半導体装置
    • 的有机半导体元件和CMIS半导体装置包括相同的
    • JPWO2015044980A1
    • 2017-03-02
    • JP2014500586
    • 2013-09-26
    • 国立大学法人東北大学
    • 忠弘 大見
    • H01L29/786H01L21/28
    • H01L51/0512H01L51/105
    • 本発明の課題の一つは、有機半導体素子のn型動作特性の改善を図ることにある。本発明の課題の中の別な課題は、ペンタセンのn型動作特性の改善を図り、ペンタセンを使用するp型動作電子素子と同等以上のn型動作特性を有する有機半導体素子並びにその素子を構成電子素子として備えたCMIS回路構成、特にCMOS回路構成を有する半導体装置を提供することである。本発明の課題解決手段の一つは、ソース電極部、ドレイン電極部、有機半導体の活性層領域、ゲート絶縁膜、ゲート電極部、を備えた有機半導体素子に於いて、前記ソース電極部が多層構造を有し、前記活性層領域に接する最下層領域から最表層領域に亘って、前記活性層領域を構成する材料の仕事関数に近い仕事関数を有する材料で順に各層が構成されている有機半導体素子にある。
    • 本发明的一个目的是改善有机半导体器件的n型操作特性。 在本发明的对象的另一个挑战,目的是提高并五苯的n型运行特性,所述有机半导体元件和具有p型操作电子设备等于或高于使用并五苯的n型操作特性的元件 作为电子设备提供CMIS电路结构,尤其是提供一种具有CMOS电路构成的半导体器件。 一个装置,用于解决本发明的问题,源电极部,漏电极部,所述有机半导体的活性层区域,栅极绝缘膜,栅电极部分,在有机半导体器件,其中所述源极电极部分是多层 具有以下结构,从底部层区域与在最外表面层区域中的有源层区接触延伸,在具有功函数接近构成有源层区中的材料的功函数的材料的顺序有机半导体层被配置 在元素。