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    • 4. 发明专利
    • 酸化物前駆体のパターン形成方法
    • 氧化铅前驱体的方法
    • JP2016170361A
    • 2016-09-23
    • JP2015051501
    • 2015-03-14
    • 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学
    • 下田 達也廣瀬 大亮永原 幸児芳本 祐樹
    • G03F7/20H05K3/06G03F7/004
    • 【課題】 フォトレジスト及びドライエッチングを用いない酸化物前駆体のパターン形成方法を提供する。 【解決手段】 本発明の酸化物前駆体のパターン形成方法は、紫外線(UV)を酸化物前駆体に照射し、酸化物前駆体の溶剤に対する溶解性を変化させるUV照射工程と、UV照射した前記酸化物前駆体を溶剤に浸漬し、非UV照射部を溶解させる溶剤浸漬工程を含むことを特徴とする。溶解性が異なる部分をパターン状に作製し、その後、溶剤に浸漬してUVが照射されない部分を溶解除去して、酸化物のパターンを得るという方法を発明した。本発明では酸化物前駆体にUVを部分的に照射し、溶剤に浸漬することによって、フォトレジスト及び、ドライエッチングを用いないパターニングを行うことができる。 【選択図】図2
    • 要解决的问题:提供氧化物前体的图案化方法,而不使用光致抗蚀剂和干蚀刻。溶液:本发明的氧化物前体的图案化方法包括:紫外线照射步骤,用紫外线照射氧化物前体 UV)以改变氧化物前体与溶剂的溶解度; 以及将紫外线照射的氧化物前体浸渍在溶剂中以溶解UV未照射部分的溶剂浸渍步骤。 该方法包括:将具有不同溶解度水平的部分制成氧化物前体中的图案,将氧化物前体浸入溶剂中以溶解并除去未被UV照射的部分,从而获得氧化物的图案。 根据本发明,可以通过用UV部分照射氧化物前体并将前体浸渍在溶剂中来进行图案化而不使用光致抗蚀剂和干蚀刻。选择的图:图2