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1. 发明专利

JPWO2014196052A1 粒子線治療装置および線量校正係数の設定方法有权
标题翻译：在粒子射线治疗装置及剂量校正系数的设定
公开(公告)号：JPWO2014196052A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015521230
申请日：2013-06-06
申请人：三菱電機株式会社
发明人：久原田 , 昌広池田 , 理高橋 , 信彦伊奈 , 越虎蒲 , 高明岩田
IPC分类号： A61N5/10 , G01T7/00 , G21K5/04
CPC分类号： A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N2005/1076 , A61N2005/1087
摘要：粒子線を層ごとに成形して照射する照射装置(10)と、線量をリアルタイムで計測する線量モニタ(12)と、線量モニタ(12)が計測した計測値(Ci)と層ごとに設定された線量校正係数に基づいて、層ごとの照射線量を評価する線量評価部(70)と、線量評価部(70)の評価結果に基づき、層ごとの照射を制御する照射制御部(60)と、校正線量計(82)を設置した模擬ファントム(81)に粒子線を照射することによって得られた実測線量校正係数(αi)を用いて、線量校正係数の補間値もしくは推定値(βi)を生成する補間値生成部(74)と、を備え、補間値生成部(74)は、補間値もしくは推定値(βi)の対象となる層ごとに、当該層の照射条件に基づいて、実測線量校正係数(αi)ごとの重みづけを行う。
摘要翻译：用于通过为每个层（10）模制的粒子射线照射的照射装置，以及用于测量在实时剂量的剂量监视器（12），剂量监控器（12）被设置用于测量每一层作为测量值（Ci）的它是基于剂量校准系数，剂量评估单元，其评估的照射剂量为每一层（70），所述剂量评估单元（70），照射控制器，其控制每一层的照射的评价结果的基础上，上（60），使用通过照射粒子束校准剂量计（82）获得的（.alpha.i），内插值测量剂量校正系数，以安装模拟体模（81）或估计值剂量校正系数（.beta.i）用于产生（74），设置有内插值生成单元（74），对于每个层的内插值生成单元将被内插的值或推定值（.beta.i），基于该层的照射条件，测量剂量对于每个校准因子（.alpha.i）进行加权。

2. 发明专利

JPWO2013065139A1 粒子線治療装置有权
标题翻译：粒子射线治疗装置
公开(公告)号：JPWO2013065139A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013541524
申请日：2011-11-02
申请人：三菱電機株式会社
发明人：昌広池田 , 昌広池田 , 原田　久 , 久原田 , 和之花川 , 和之花川 , 利宏大谷 , 利宏大谷 , 雅片寄 , 雅片寄 , 泰三本田 , 泰三本田 , 由希子山田 , 由希子山田 , 越虎蒲 , 越虎蒲
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1049 , A61N5/1069 , A61N2005/1087
摘要：本発明は、治療台(30)の位置を制御する治療台制御部(61)と、この治療台制御部と加速器(1)と走査電磁石(7)とを制御するための指令を出力する照射制御部(60)とを備えた粒子線治療装置において、治療台制御部は、患者の患部基準位置である患者アイソセンタを、照射ノズル(4)と治療台との位置関係の基準である機器アイソセンタ(IC1)よりも照射ノズルに近い位置に設定された照射アイソセンタ(IC2)の位置まで移動させるように治療台を制御した後、照射制御部は患者へ粒子線を照射するための指令を出力するようにした。
摘要翻译：本发明包括治疗台控制单元，用于控制所述床（30）（61）的位置，用于控制所述治疗台控制器和所述促进剂（1）和扫描电磁铁（7）的照射输出的命令在粒子射线治疗装置和一个控制单元（60），治疗台控制单元，所述患者的等角点，其是患者的（4）患病的参考位置，这是照射喷嘴之间的位置关系的基准和治疗床装置等角点从照射控制单元（IC1）控制所述治疗台也靠拢组的位置的位置处照射喷嘴后照射等角点（IC 2）的指令输出用于照射粒子射线对患者它是如此。

3. 发明专利

JPWO2012147149A1 粒子線エネルギー変更装置、それを備えた粒子線治療装置、および粒子線エネルギー変更方法有权
公开(公告)号：JPWO2012147149A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013511809
申请日：2011-04-25
申请人：三菱電機株式会社
发明人：越虎蒲 , 越虎蒲 , 泰三本田 , 泰三本田 , 高明岩田 , 高明岩田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1042 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10
摘要：高速にエネルギーを変更でき、騒音が少ない粒子線エネルギー変更装置を提供する。粒子線のエネルギーを減衰させる減衰体の厚みを変化させることにより、通過する粒子線のエネルギーを変更する第一エネルギー変更器および第二エネルギー変更器が、粒子線が第一エネルギー変更器と第二エネルギー変更器とを通過するよう配置されるとともに、第一エネルギー変更器の減衰量の最大値を、第二エネルギー変更器の減衰量の最大値よりも小さく設定した。

4. 发明专利

JP5438826B2 Beam position monitoring device and a particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP5438826B2
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：JP2012516402
申请日：2012-01-20
申请人：三菱電機株式会社
发明人：泰三本田 , 久原田 , 越虎蒲 , 昌広池田 , 和之花川 , 利宏大谷 , 雅片寄 , 由希子山田
IPC分类号： G01T1/29 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G01T1/29 , G21K5/00 , G21K5/02

5. 发明专利

JPWO2012008274A1 粒子線照射装置およびこれを備えた粒子線治療装置有权
公开(公告)号：JPWO2012008274A1
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2012524507
申请日：2011-06-22
申请人：三菱電機株式会社
发明人：越虎蒲 , 越虎蒲 , 原田　久 , 久原田 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： G21K1/046 , A61N5/1043 , A61N5/1045 , A61N5/1048 , A61N2005/1052 , A61N2005/1054 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10 , G21K5/00
摘要：簡単な構成で走査機構などの動作をチェックでき、より信頼性の高い粒子線照射装置を提供することを目的とする。走査された粒子ビーム(4)の一部を遮蔽する粒子ビーム遮蔽体(6)と、この粒子ビーム遮蔽体(6)に走査された粒子ビーム(4)が当たった時に発生する即信号を検出する即信号検出器(11)と、予め決められた走査パターンによって発生する即信号の発生パターンを予測して求めて比較用信号時間パターンとして格納する信号比較装置(12)とを備え、この信号比較装置(12)は、予め決められた走査パターンに従って粒子ビームを走査して標的に粒子ビームを照射した時に即信号検出器(11)で検出された信号の時間パターンである検出信号時間パターンと、格納された比較用信号時間パターンと、を比較して、粒子ビームの走査または粒子ビーム遮蔽体(6)の異常を検出するようにした。

6. 发明专利

JPWO2010140236A1 粒子線照射装置有权
公开(公告)号：JPWO2010140236A1
公开(公告)日：2012-11-15
申请号：JP2010501297
申请日：2009-06-03
申请人：三菱電機株式会社
发明人：越虎蒲 , 越虎蒲 , 克久吉田 , 克久吉田 , 雄一山本 , 雄一山本 , 豪信坂本 , 豪信坂本 , 泰三本田 , 泰三本田 , 原田　久 , 久原田 , 高明岩田 , 高明岩田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N2005/1087
摘要：荷電粒子ビームの最大利用可能飛程の減少を抑えながら、ビームスポットの線量分布を拡大する粒子線照射装置を得る。粒子線加速手段1、粒子線輸送手段2、荷電粒子ビーム走査電磁石と走査電源11とを有する走査装置、並びに照射制御手段14を備える粒子線照射装置において、前記走査装置は荷電粒子ビームを走査して疑似拡大スポットを形成する第一走査手段3と、前記疑似拡大スポットの位置を前記標的領域に合わせて走査する第二走査手段4とを有する。

7. 发明专利

JP4123097B2 Electron gun for a high-frequency signal transmission equipment 有权
公开(公告)号：JP4123097B2
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：JP2003279878
申请日：2003-07-25
申请人：三菱電機株式会社
发明人：哲也中西 , 博文田中 , 越虎蒲
IPC分类号： G21K5/00 , H05H7/08 , G21K5/04 , H01J37/06

8. 发明专利

JPWO2015155868A1 粒子線照射装置有权
公开(公告)号：JPWO2015155868A1
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2016512539
申请日：2014-04-10
申请人：三菱電機株式会社
发明人：裕介坂本 , 裕介坂本 , 越虎蒲 , 越虎蒲 , 原田　久 , 久原田 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1071 , A61N5/10 , A61N5/1044 , A61N5/1067 , A61N5/1077 , A61N2005/1087
摘要：粒子線照射装置(50)は、一つの照射位置(12)につき複数回、粒子線(10)を照射する。記憶部(3)は、各回に照射されるべき線量(分割目標線量)を記憶する。線量モニタ(5)は照射位置(12)に照射される粒子線(10)の線量を測定する。1回目の照射では、線量モニタ(5)によって測定される線量が分割目標線量に達すると、制御部(4)は遮断信号(15)を発する。線量モニタ(5)は、遮断信号(15)後、実際に粒子線(10)が遮断されるまでの間に照射される線量(過剰線量)(14)を測定する。そして、補正線量値=分割目標線量−過剰線量と置く。代わりに、補正線量値=分割目標線量−過剰線量予測値と置いてもよい。2回目の照射では、線量モニタ(5)によって測定される線量が補正線量値に達すると、制御部(4)は遮断信号(15)を発する。この補正により、スポットスキャニング法において、計画された線量を超えて照射される線量が減少される。

9. 发明专利

JPWO2013171820A1 粒子線スキャニング照射システム有权
标题翻译：粒子束扫描照射系统
公开(公告)号：JPWO2013171820A1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：JP2014515364
申请日：2012-05-14
申请人：三菱電機株式会社
发明人：越虎蒲 , 越虎蒲 , 昌広池田 , 昌広池田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/103 , A61N5/1044 , A61N2005/1087 , F04C2270/0421
摘要：粒子線スキャニング照射システムは、患者の腫瘍領域に対する粒子線の照射順を確定する計算機と、確定された粒子線の照射順に従って粒子線を患者の腫瘍領域に照射する粒子線照射装置を備えている。計算機は、腫瘍領域に配置された複数個の照射スポットの中から考えられる全ての照射スポットのペアの組み合わせを選択し、選択されたペアを構成する2個の照射スポットの間を粒子線が移動する際に粒子線の移動経路に臓器領域との交差点が有るか無いかを判断するステップと、該判断結果をもとに、移動経路に臓器領域との交差点が有るか無いかを行列要素で表現したペナルティ行列を決めるステップと、移動経路の評価関数を最適化アルゴリズムに基づいて評価し、この評価から得られる評価関数の最適化解から粒子線の照射順を確定するステップを実行する。
摘要翻译：粒子束扫描照射系统包括用于确定所述粒子束的照射，以便患者的肿瘤区域的计算机，用于照射根据所确定的粒子束照射顺序患者粒子束的肿瘤区域中的粒子射线照射装置。计算机选择一对从多个设置在肿瘤区域辐射光点的中考虑的所有照射点的组合，构成选择的一对移动两个辐射点之间的粒子束以及确定的情况下，确定结果的基础上，判断是否与器官区域没有交点的运动路径有在矩阵元素的交点是否没有存在粒子束的移动路径上的内脏器官区域确定处罚矩阵表示的步骤，并且评价基于移动路由优化算法的评价函数，执行确定从这一评价所得的优化解决方案评价函数粒子束的照射顺序的步骤。

10. 发明专利

JPWO2013065163A1 粒子線照射装置及び粒子線治療装置有权
标题翻译：粒子束辐照设备和粒子束治疗系统
公开(公告)号：JPWO2013065163A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013541554
申请日：2011-11-03
申请人：三菱電機株式会社
发明人：昌広池田 , 昌広池田 , 原田　久 , 久原田 , 和之花川 , 和之花川 , 利宏大谷 , 利宏大谷 , 雅片寄 , 雅片寄 , 泰三本田 , 泰三本田 , 由希子山田 , 由希子山田 , 越虎蒲 , 越虎蒲
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要：荷電粒子ビームが低エネルギーであっても小さなビームサイズで照射対象に照射することを目的とする。本発明の粒子線照射装置(58)は、荷電粒子ビーム(1)が通過する真空領域を形成する真空ダクト(6,7)と、荷電粒子ビーム(1)が真空領域から放出される真空窓(8)と、荷電粒子ビーム(1)をビーム軸に垂直な方向に走査する走査電磁石(2,3)と、荷電粒子ビーム(1)の通過位置及びビームサイズを検出する位置モニタ(5)を有するモニタ装置(67)と、真空窓(8)を覆い、下流側にモニタ装置(67)が配置された低散乱ガス充填室(39)と、荷電粒子ビーム(1)の照射を制御する照射管理装置(20)と、を備え、低散乱ガス充填室(39)は、モニタ装置(67)と真空窓(8)とのビーム軸方向における相対位置が所望の位置に変更可能に配置され、荷電粒子ビーム(1)が照射される際に、空気よりも散乱が小さい低散乱ガスが充填されることを特徴とする。
摘要翻译：带电粒子束旨在照射的照射目标，即使在低能量在小光束尺寸。本发明（58），一真空窗口和真空导管的粒子射线照射装置，以形成一个真空区域带电粒子束（1）通过（6,7），带电粒子束（1）从真空区域释放和（8），垂直于带电粒子束和扫描磁体用于扫描的方向（1）到光束轴（2,3），用于检测通过位置和带电粒子束的束尺寸的位置监测器（1）（5）监视装置具有（67）覆盖所述真空窗口（8），向下游监视器装置（67）被布置在低散射气体填充室（39），以控制带电粒子束的照射（1）照射管理装置（20）包括一个低散射气体填充室（39），在监视器单元（67）和真空窗口的光束轴方向上的相对位置（8）被布置成被改变为期望的位置被施加带电粒子束（1）的情况下，低散射气体散射比空气小，其特征在于，它被填充。

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