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1. 发明专利

JP2021088756A 銅粒子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021088756A
公开(公告)日：2021-06-10
申请号：JP2020152019
申请日：2020-09-10
申请人：三井金属鉱業株式会社 , 国立大学法人東北大学
发明人：上郡山洋一 , 今村大志 , 尾▲崎▼ 英樹 , 丸山陽兵 , 村松淳司 , 蟹江澄志
IPC分类号： C22C9/06 , B22F1/00 , B22F9/20
摘要：【課題】不純物が少なく、且つ粒子径が小さい銅粒子の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の銅粒子の製造方法は、銅化合物、水溶性ニッケル塩及び還元性化合物を、銅元素の含有モル量に対するニッケル元素の含有モル割合が25mol%以下となるように混合し、該銅化合物を有機分散剤の非存在下で還元して銅粒子を得る工程を備える。銅化合物は、亜酸化銅又は酸化銅であることが好適である。水溶性ニッケル塩は、塩化ニッケル、硝酸ニッケル、又は酢酸ニッケルであることも好適である。【選択図】なし

2. 发明专利

JP6033750B2 研摩材、その製造方法及びそれを含む研摩スラリー有权
标题翻译：研磨剂，其制造方法及含有该磨料浆
公开(公告)号：JP6033750B2
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：JP2013208660
申请日：2013-10-03
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：尾形純和 , 徳地成紀 , 丸山陽兵 , 大鹿元己
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , C01G45/02 , C09C3/063 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C23C18/1212 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , H01L21/02024 , C01P2004/03 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/84

3. 发明专利

JP2015065232A 研摩材スラリー及びそれを用いた基板の製造方法有权
标题翻译：抛光材料浆料和使用其制造基材的方法
公开(公告)号：JP2015065232A
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：JP2013197232
申请日：2013-09-24
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：徳地成紀 , 丸山陽兵 , 大鹿元己
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：【課題】良好なエピタキシャル成長膜を形成することが可能な基板の製造方法に用いられる研摩材スラリーを提供すること。【解決手段】本発明の研摩材スラリーは、結晶子径が10nm以上150nm以下でかつ平均粒径が0.05μm以上3.0μm以下である酸化セリウムからなる研摩砥粒を含み、第13族元素窒化物の単結晶からなる基板の研摩に用いられる。この研摩材スラリーを用いて、第13族元素窒化物の単結晶の表面を研摩することで、表面に、一方向に延びる多条の原子ステップを有する基板を製造する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供在其上形成有利的外延生长膜的基板制造方法中使用的抛光材料浆料。溶液：本发明的抛光材料浆料含有结晶直径为10nm的抛光磨粒以上且150nm以下，平均粒径为0.05μm以上且3.0μm以下，并且包含氧化铈，并且用于研磨包含13族元素的氮化物的单晶的衬底。通过使用抛光材料浆料研磨13族元素的氮化物的单晶的表面，制造了在其表面上沿一个方向延伸的多线原子台阶的基板。

4. 发明专利

JP6576787B2 脱酸素剤及びその製造方法有权
公开(公告)号：JP6576787B2
公开(公告)日：2019-09-18
申请号：JP2015206181
申请日：2015-10-20
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：木下和也 , 丸山陽兵 , 田代健悟 , 田平泰規 , 障子口隆 , 高橋憲之
IPC分类号： B01J20/06 , B01J20/28 , B01J20/30 , A23L3/3436 , B01D53/14

5. 发明专利

JP6348560B2 研摩材スラリー及び研摩方法有权
公开(公告)号：JP6348560B2
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：JP2016226583
申请日：2016-11-22
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：佐藤龍一 , 丸山陽兵 , 小池淳
IPC分类号： C09G1/02 , H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/02527 , H01L29/1608 , H01L29/2003

6. 发明专利

JP2021161002A マグネタイト粒子及びε−Fe2O3の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021161002A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2020065851
申请日：2020-04-01
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：上郡山洋一 , 尾▲崎▼ 英樹 , 今村大志 , 丸山陽兵
IPC分类号： C01G49/06 , H01F1/11 , C01G49/08
摘要：【課題】粒子どうしの分散性が高く、且つε−Fe 2 O 3 相の構成割合が高いFe 2 O 3 粒子を容易に製造できるマグネタイト粒子を提供すること。【解決手段】本発明のマグネタイト粒子は、マグネタイトを含むコア粒子と、コア粒子の表面を被覆する被覆層とを備える。マグネタイト粒子における被覆層がケイ素化合物を含み、鉄元素に対するケイ素元素の質量比であるSi/Feの値が0.5以上4.0以下である。透過型電子顕微鏡による観察で測定されたコア粒子の粒子径が5nm以上50nm以下である。ケイ素化合物がSiO 2 であることも好適である。また本発明は、マグネタイト粒子の製造方法も提供する。【選択図】図1

7. 发明专利

JP6927964B2 脱酸素剤有权
公开(公告)号：JP6927964B2
公开(公告)日：2021-09-01
申请号：JP2018519150
申请日：2017-04-21
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：木下和也 , 丸山陽兵 , 田代健悟 , 高橋憲之 , 障子口隆 , 田平泰規 , 織田義仁
IPC分类号： B01J20/08 , B01J20/28 , B01D53/14 , B65D81/26 , B32B27/18 , B01J20/10

8. 发明专利

JP6088953B2 研摩材スラリー及びそれを用いた基板の製造方法有权
标题翻译：使用磨料浆和它的制造衬底的方法
公开(公告)号：JP6088953B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2013197232
申请日：2013-09-24
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：徳地成紀 , 丸山陽兵 , 大鹿元己
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304

9. 发明专利

JP2021004167A 分散液审中-公开
公开(公告)号：JP2021004167A
公开(公告)日：2021-01-14
申请号：JP2020100734
申请日：2020-06-10
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：栗原正人 , 石▲崎▼ 学 , 上郡山洋一 , 尾▲崎▼ 英樹 , 今村大志 , 丸山陽兵
IPC分类号： C08G73/00 , C09C1/44 , C09D17/00 , C01B21/082
摘要：【課題】バンドギャップが小さい窒化炭素の分散液を提供すること。【解決手段】本発明の分散液は、バンドギャップが0eV超2.7eV未満である窒化炭素の粒子が分散媒に分散してなるものである。分散媒は極性化合物からなることが好適である。分散媒がカルボキシル基、アミド基、チオール基、水酸基及びアミノ基のうちの少なくとも一種を有する有機化合物からなることも好適である。分散媒がα−テルピネオール又はモノエタノールアミンからなることも好適である。窒化炭素の粒径が500nm以下であることも好適である。窒化炭素中における窒素の割合が、0質量%超61質量%未満であることも好適である。【選択図】なし

10. 发明专利

JPWO2017203912A1 脱酸素剤审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017203912A1
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：JP2017016077
申请日：2017-04-21
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：木下和也 , 丸山陽兵 , 田代健悟 , 高橋憲之 , 障子口隆 , 田平泰規 , 織田義仁
IPC分类号： B01J20/08 , B01J20/28 , B01D53/14 , B65D81/26 , B32B27/18 , B01J20/10
摘要：脱酸素剤は、CeO x (xは2未満の正数を表す。)で表される可逆的な酸素欠損を有する蛍石型の酸化セリウムの粒子を含み、該粒子の表面が無機酸化物で覆われている。無機酸化物がM y O z (Mは価数変化を起こさない元素を表し、y及びzは正数を表す。)及び元素Mと酸化セリウムとの複合酸化物から選択される少なくとも一種からなることが好適である。無機酸化物がSiO 2 、Al 2 O 3 、SiとCeとの複合酸化物及びAlとCeとの複合酸化物から選択される少なくとも一種からなることも好適である。

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