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2. 发明专利

JP2018506618A 化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018506618A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017536539
申请日：2016-01-12
申请人：バーサムマテリアルズユーエス,リミティドライアビリティカンパニー
发明人：ジョウホーンジュン , ジョ−アンテリーサシュワルツ , マルコルムグリーフ , シャオボーシ , クリシュナピー.ムレッラ , スティーブンチャールズウィンチェスター , ジョンエドワードクインシーヒューズ , マークレオナルドオニール , アンドリュージェイ.ドッド , ドンヤネシュチャンドラカントタンボリ , レイナルドマリオマチャド
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , B24B37/24 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/30625 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , H01L21/31053
摘要：セリアコートシリカ粒子等の複合粒子を含む化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、低いディッシング、低欠陥、及び酸化物膜を研磨する高い除去速度を提供する。化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、軟らかい研磨パッドを用いて卓越した性能を示した。

3. 发明专利

JP6130316B2 研磨組成物及び研磨方法並びに研磨組成物の製造方法有权
公开(公告)号：JP6130316B2
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：JP2014047399
申请日：2014-03-11
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：野島義弘
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/3212

4. 发明专利

JP2016196632A 金属化合物が化学的に固定されたコロイド粒子、その製造方法及びその使用有权
标题翻译：金属化合物化学沉积胶体颗粒，其生产方法及其用途
公开(公告)号：JP2016196632A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2016058913
申请日：2016-03-23
申请人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED
发明人：ホーンジュンジョウ , シャオボーシー , ジョ−アンテリーサシュワルツ
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , C07F15/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：【課題】低いディッシング及びプラグ凹部の作用を提供する1つ又は複数のタングステン化学機械平坦化(CMP)プロセス及びスラリーに用いられるコロイド粒子の提供。【解決手段】コロイド粒子と、化学結合により前記コロイド粒子の表面に均一に固定された金属化合物とを含み、金属化合物が分子の形態である、金属化合物が化学的に固定されたコロイド粒子。コロイド粒子のサイズが5〜1000nmであり、金属化合物が、Fe化合物、Cu化合物、Ag化合物、Cr化合物、Mn化合物、Co化合物、Ni化合物、Ga化合物、及びそれらの組み合わせから選択され、金属化合物が、有機結合剤を通じて、化学結合によりコロイド粒子の表面に固定されているコロイド粒子。有機結合剤が、アミン、カルボン酸、及びそれらの組み合わせから選択される官能基を含有する有機シラン化合物であるコロイド粒子。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供用于一种或多种提供低凹陷和塞子凹陷效应的钨CMP工艺和浆料中的胶体颗粒。解决方案：金属化合物化学锚定的胶体颗粒包括：胶体颗粒; 金属化合物通过化学键合均匀地锚定到胶体颗粒的表面，金属化合物是分子形式。胶体颗粒的大小为5-1000nm; 金属化合物选自Fe化合物，Cu化合物，Ag化合物，Cr化合物，Mn化合物，Co化合物，Ni化合物，Ga化合物及其组合。通过有机连接剂的化学键合将金属化合物锚定到胶体颗粒的表面。有机连接剂是含有选自胺，羧酸及其组合的官能团的有机硅烷化合物。选择的图：图1

5. 发明专利

JPWO2014069457A1 研磨用組成物审中-公开
标题翻译：抛光剂组合物
公开(公告)号：JPWO2014069457A1
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2014544520
申请日：2013-10-29
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：正悟大西 , 正悟大西 , 康登石田 , 康登石田 , 平野　達彦 , 達彦平野
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：金属配線層(14)を有する研磨対象物の研磨に適しており、高い研磨速度を維持したまま段差欠陥を低減できる研磨用組成物を提供する。金属配線層(14)を有する研磨対象物の研磨に用いられる研磨用組成物であって、金属防食剤と、錯化剤と、界面活性剤と、水とを含み、前記研磨用組成物を用いて前記研磨対象物を研磨した後の研磨対象物表面の固体表面エネルギーが30mN/m以下となる研磨用組成物。前記界面活性剤は、陰イオン性界面活性剤であることが好ましい。
摘要翻译：它适用于抛光具有金属布线层（14）的对象，是提供一种能够降低步骤中的缺陷，同时保持高抛光速率的抛光组合物。用于抛光具有金属布线层（14）的抛光对象的抛光组合物，和金属腐蚀抑制剂，络合剂，表面活性剂，和水，其中所述磨料组合物所述物体的表面的抛光组合物的固体表面能以抛光工件已抛光后被抛光小于30mN / m时使用。表面活性剂优选为阴离子表面活性剂。

6. 发明专利

JP2016056215A 研磨材の製造方法审中-公开
标题翻译：生产磨料的方法
公开(公告)号：JP2016056215A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2013020227
申请日：2013-02-05
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：溝口啓介 , 伊藤奈津紀 , 高橋篤 , 乾智恵 , 前澤明弘
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1445 , C23C18/1216 , C23C18/1229
摘要：【課題】本発明の課題は、酸化セリウムの使用量を抑制し、より硬質なガラス基板に対して高い研磨速度を得ることができ、被研磨物の表面粗さを小さくすることができる研磨材の製造方法を提供することである。【解決手段】本発明の研磨材の製造方法は、コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、イットリウム(Y)、チタン(Ti)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、サマリウム(Sm)、ユーロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)及びテルビウム(Tb)から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記8種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム(Ce)の塩を含有するシェル2を有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、500〜1200℃の範囲内の温度で1〜5時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种研磨材料的制造方法，通过该方法可以抑制氧化铈的使用量，可以获得更硬的玻璃基板的高速抛光以及待抛光材料的表面粗糙度可以减少。解决方案：提供含有核 - 壳型无机颗粒的研磨材料的制造方法，其包括煅烧步骤，其中核 - 壳型无机颗粒的前体在500至1200℃的温度下煅烧所述前体包含：至少含有至少一种选自钇（Y），钛（Ti），锶（Sr），钡（Ba），钐（Sm），铕（Eu），钆（Gd）和铽（Tb）; 和含有选自上述八元素中的至少一种元素的盐和铈（Ce）的盐的壳2。选择的图：图1

7. 发明专利

JP2016055352A 研磨材スラリー审中-公开
标题翻译：磨砂浆
公开(公告)号：JP2016055352A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2013019999
申请日：2013-02-05
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：乾智恵 , 前澤明弘 , 伊藤奈津紀 , 溝口啓介 , 高橋篤
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00
CPC分类号： C09G1/02 , C01F17/0043 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/32 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/80 , C01P2004/84
摘要：【課題】研磨材粒子が長期間にわたる保存で凝集を起こすことなく、分散安定性、研磨時の耐傷性に優れ、かつ研磨速度が速い研磨材スラリーを提供する。【解決手段】コアとシェルで組成が異なるコア・シェル型研磨材粒子を含有する研磨材スラリーであって、コア・シェル型研磨材粒子のコアは、特定の金属元素群から選ばれる少なくとも一種の金属元素の酸化物を主成分として含有し、記シェルは、主成分として酸化セリウムと、副成分として特定の金属元素群から選ばれる少なくとも一種の金属元素の酸化物とを含有し、コアとシェルとは、同一の金属元素の酸化物(酸化セリウムを含む)を少なくとも一種含有し、コア・シェル型研磨材粒子の粒子径分布の変動係数が20%以下で、かつ、前記コア・シェル型研磨材粒子のゼータ電位の平均値が、−120〜−30mVの範囲内であることを特徴とする研磨材スラリー。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供在磨料颗粒的长期储存中不引起聚集的磨料浆料，在研磨时的分散稳定性和耐擦伤性优异且具有高研磨速度。溶解性：磨料浆料包括核壳其中核和壳具有彼此不同的组成的磨料颗粒。核 - 壳型研磨剂颗粒的核心包括选自特定金属元素组中的至少一种金属元素的氧化物，壳包含氧化铈作为主要成分，并且至少一种氧化物选自特定金属元素组的金属元素作为辅助成分。核和壳包括彼此相同金属元素的氧化物（包括氧化铈）中的至少一种。此外，芯壳型研磨粒子的粒度分布的变动系数为20％以下，上述核 - 壳型研磨粒子的ζ电位的平均值在-120〜 30 mV。选择图：图1

8. 发明专利

JP5809053B2 固定研磨粒子及びそれから作製される物品有权
标题翻译：由其制成的固定磨粒和文章
公开(公告)号：JP5809053B2
公开(公告)日：2015-11-10
申请号：JP2011516702
申请日：2009-06-26
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ラグ, ポール, エス. , オックスマン, ジョエル, ディー. , スヴェンテック, ブルース, エー. , ドローネン, ブレイク, アール.
IPC分类号： B24D3/00 , B24D11/00 , C09K3/14
CPC分类号： B24B37/245 , B24D3/00 , C09K3/1445 , Y10T428/2982

9. 发明专利

JP2015071715A 研摩材、その製造方法及びそれを含む研摩スラリー有权
标题翻译：抗生素及其生产方法，以及包括不饱和脂肪酸的磨砂浆
公开(公告)号：JP2015071715A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：JP2013208660
申请日：2013-10-03
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：尾形純和 , 徳地成紀 , 丸山陽兵 , 大鹿元己
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , C01G45/02 , C09C3/063 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C23C18/1212 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , H01L21/02024 , C01P2004/03 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/84
摘要：【課題】デンドライト状の酸化マンガンの結晶の生成を効果的に防止することができ、かつ研摩レートが向上した研摩材を提供すること。【解決手段】芯材に金属酸化物を含有し、前記芯材の表面に該芯材とは異なる金属又は半金属の酸化物を含む被覆層が存在する研摩砥粒を含む研摩材である。前記研摩砥粒は、該研摩砥粒を含むスラリーを5時間煮沸した後に、該研摩砥粒を走査型電子顕微鏡により観察したとき、縦軸と横軸との比が1.0以上1.5未満である。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够有效地防止产生枝晶状氧化锰晶体并提高研磨速度的研磨剂。溶解性：提供了包括在芯材中具有金属氧化物的磨粒和涂层层包括与芯材的表面上的芯材的金属或准金属不同的氧化物。当将包含磨粒的浆料煮沸5小时时，磨粒的垂直轴和横轴的比例为1.0以上且小于1.5，然后通过扫描型电子显微镜观察磨粒。

10. 发明专利

JP5278631B1 Composite particle for glass polishing 有权
公开(公告)号：JP5278631B1
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2013504045
申请日：2012-09-12
申请人：堺化学工業株式会社
发明人：勇児川▲崎▼ , 弘享川岸 , 務山本 , 勝見上 , 敦樹寺部
IPC分类号： C03C19/00 , B24B37/24 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1409 , C09K3/1445 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , C23C18/1245
摘要： Provided are oxide particles for polishing glass which have a low cerium content, and which can be used as an alternative to conventional polishing materials using cerium oxide. The present invention relates to oxide particles for polishing glass which consist of: a base particle selected from spherical or plate-shaped titanium oxide particles, zirconium oxide particles, barium sulphate particles, synthetic mica, zinc oxide particles, and calcium carbonate particles; and cerium oxide particles supported on the surface of the base particle.

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