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1. 发明专利

JP6439172B2 銅−ニッケル合金電気めっき浴有权
公开(公告)号：JP6439172B2
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：JP2014162802
申请日：2014-08-08
申请人：ディップソール株式会社
发明人：桜井仁志 , 小野和則 , 橋本章 , 湯浅智志
IPC分类号： C25D3/56 , C25D3/58

2. 发明专利

JP6435546B2 銅−ニッケル合金電気めっき装置审中-公开
公开(公告)号：JP6435546B2
公开(公告)日：2018-12-12
申请号：JP2014212524
申请日：2014-10-17
申请人：ディップソール株式会社
发明人：桜井仁志 , 小野和則 , 橋本章 , 湯浅智志
IPC分类号： C25D17/00 , C25D3/56 , C25D3/58 , C25D21/14
CPC分类号： C25D21/14 , C22C9/06 , C22C19/002 , C22C19/03 , C25D3/562 , C25D3/58 , C25D5/08 , C25D17/00 , C25D17/002 , C25D17/008 , C25D21/06 , C25D21/10 , C25D21/12

3. 发明专利

JP2020029582A すず合金電気めっき浴及びそれを用いためっき方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020029582A
公开(公告)日：2020-02-27
申请号：JP2018154703
申请日：2018-08-21
申请人：ディップソール株式会社
发明人：森井豊 , 長田剛 , 湯浅智志
IPC分类号： C25D5/18 , C25D3/60
摘要：【課題】所望の合金比率の皮膜を析出できるすず合金電気めっき浴及びそれを用いためっき方法を提供すること。【解決手段】すず合金電気めっき浴であって、 (A)可溶性すず塩と、 (B)可溶性ニッケル塩及び可溶性コバルト塩の少なくとも1種と、 (C)オキシカルボン酸又はその塩と、 (D)含窒素複素環式不飽和化合物と、 (E)界面活性剤とを含み、 pHが3〜7である、すず合金電気めっき浴。【選択図】なし

4. 发明专利

JP2016079460A 銅−ニッケル合金電気めっき装置审中-公开
标题翻译：铜镍合金电镀设备
公开(公告)号：JP2016079460A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：JP2014212524
申请日：2014-10-17
申请人：ディップソール株式会社
发明人：桜井仁志 , 小野和則 , 橋本章 , 湯浅智志
IPC分类号： C25D17/00 , C25D3/56 , C25D3/58 , C25D21/14
CPC分类号： C25D3/56 , C25D17/00 , C25D21/14 , C25D3/58
摘要：【課題】被めっき物に銅とニッケルの均一な組成のめっき皮膜を安定して形成することができると共に、めっき浴を長期間使用することができる銅−ニッケル合金電気めっき装置を提供する。【解決手段】本発明は、銅−ニッケル合金電気めっき装置(1)であって、被めっき物(5)を内部に配置する陰極室(4)と、陽極室(6)と、この陽極室の内部に配置された陽極(7)と、陰極室と陽極室を隔てるように配置された、通電可能な隔膜(14)と、陰極室内のめっき液の酸化還元電位を調整するための陰極室酸化還元電位調整槽(8)と、陽極室内のめっき液の酸化還元電位を調整するための陽極室酸化還元電位調整槽(10)と、被めっき物と陽極の間に電流を流す電源部(36)と、を有することを特徴としている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种铜镍合金电镀设备，其可以在待镀物体上稳定地形成具有均匀组成的铜和镍的镀膜，以及其中可以使用电镀浴时间段。解决方案：提供一种铜镍合金电镀设备（1），其特征在于包括：用于将待镀物体（5）放置在内部的阴极室（4）阳极室（6）; 放置在阳极室内部的阳极（7）; 放置以分离阴极室和阳极室的导电隔膜（14）; 用于调节阴极室中电镀液的氧化还原电位的阴极室氧化还原电位调节槽（8）; 阳极室氧化还原电位调节槽（10），用于调节所述阳极室中的电镀液的氧化还原电位; 以及用于在被镀物体和阳极之间提供电流的电源单元（36）。选择的图：图1

5. 发明专利

JP2016037649A 銅−ニッケル合金電気めっき浴审中-公开
标题翻译：铜镍合金电镀浴
公开(公告)号：JP2016037649A
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2014162802
申请日：2014-08-08
申请人：ディップソール株式会社
发明人：桜井仁志 , 小野和則 , 橋本章 , 湯浅智志
IPC分类号： C25D3/56 , C25D3/58
CPC分类号： C25D3/56 , C25D3/58
摘要：【課題】本発明は、被めっき物に銅とニッケルを任意の合金比率で析出させ、しかも均一な組成のめっき皮膜を幅広い電流密度範囲で得ることができ、浴安定性に優れ、長期間連続使用可能である銅−ニッケル合金電気めっき浴を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、(a)銅塩及びニッケル塩、(b)金属錯化剤、(c)導電性付与塩、(d)含硫黄有機化合物、及び(e)酸化還元電位調整剤を含有する銅−ニッケル合金電気めっき浴を提供する。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供以合金比例将铜和镍沉淀到待镀物体上的铜 - 镍合金电镀浴，还能够在宽电流密度范围内获得具有均匀组成的镀膜，浴的优异稳定性和长期可持续使用。解决方案：提供一种铜镍合金电镀浴，其包括：（a）铜盐和镍盐; （b）金属络合剂; （c）赋予盐的导电性; （d）含硫有机化合物; 和（e）氧化还原电位控制器。选择图：无

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