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1. 发明专利

JP2015159202A フォーカスリング有权
标题翻译：聚焦环
公开(公告)号：JP2015159202A
公开(公告)日：2015-09-03
申请号：JP2014033529
申请日：2014-02-25
申请人：コバレントマテリアル株式会社
发明人：久保田真弘 , 島敬明
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32642
摘要：【課題】プラズマ処理装置内で用いられた際に、異常放電を抑制し、円周方向でのプラズマ環境の均一性が得られるフォーカスリングを提供する。【解決手段】接着剤を用いることなく、複数の円弧状部材10を複数の連結部材20によって連結し、リング状に構成されるシリコン製のフォーカスリングであって、前記連結部材20上面から前記凹状嵌合部23の底面23aまでの厚さ寸法d2が、前記円弧状部材10上面から第2の凹部底面13aまでの厚さ寸法d1より、大きな寸法で形成されている。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过在等离子体处理装置中使用时通过抑制异常放电来获得等离子体环境的均匀性的聚焦环。解决方案：由硅制成的聚焦环通过将多个具有多个联接构件20的弧形构件10，而不使用粘合剂。从联接构件20的上表面到凹形配件23的底面23a的厚度d2形成为比从弧形构件10的顶表面到第二凹陷底部的厚度d1大的尺寸表面13a。

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