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    • 6. 发明专利
    • マルチゲート薄膜トランジスタ
    • 多栅薄膜晶体管
    • JP2015524618A
    • 2015-08-24
    • JP2015524306
    • 2013-07-12
    • クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド
    • ジョン・ヒュンチュル・ホンチョンホン・キムツェ−チン・フン
    • H01L29/786G09F9/30
    • H01L29/78645H01L29/78648
    • 本開示は、マルチゲートトランジスタ、構造、デバイス、装置、システム、および関連するプロセスの実装形態を提供する。一態様では、デバイスは、基板の上に配置された薄膜半導体層を含む。ドレインおよびソースは、半導体層に結合される。デバイスはまた、すべて半導体層に隣接して配置され、それぞれ第1、第2、および第3の制御信号を受信するように構成された、第1、第2、および第3のゲートを含む。誘電体層は、ゲートを半導体層から、かつ互いから絶縁する。第1のモードで、第1、第2、および第3のゲートは、電荷が第2のゲートに隣接する半導体層の領域内の電位井戸に蓄積されるように構成される。第2のモードで、第1、第2、および第3のゲート電極は、蓄積された電荷が第3のゲート電極に隣接する半導体層の領域を通り、ソースを通って、負荷に転送されるように構成される。
    • 本发明中,多栅极晶体管,结构,设备,装置,提供了系统的一个实现,以及相关进程。 在一个方面,该装置包括布置在基板上的薄膜半导体层。 漏极和源极被耦合到半导体层中。 该装置还设置所有邻近所述半导体层,所述第一分别包括第二,并且被配置为接收第三控制信号时,第一,第二和第三栅极。 电介质层,从半导体层的栅极,并相互绝缘。 在第一模式中,第一,第二和第三栅极被配置成在充电的势阱中累积在邻近所述第二栅极的半导体层的区域中。 在第二模式中,第一,第二和第三栅电极,通过半导体层中累积的电荷的区域邻近所述第三栅电极,通过源极,被传递到负载 配置。