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1. 发明专利

JP2018150590A 反応性スパッタリングの成膜装置、および成膜方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018150590A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017047967
申请日：2017-03-14
申请人：キヤノン株式会社
发明人：廣木珠代
IPC分类号： H05H1/46 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/0042
摘要：【課題】反応性スパッタリング法により成膜速度を制御して連続して複数の基板に成膜を行う場合でも、比較的長期間にわたり、安定した膜質を得ることができる技術を提供する。【解決手段】ターゲット3と反応性ガスを用いて、化合物モード、遷移モード、金属モードのいずれかのモードで成膜を行う反応性スパッタリングの成膜装置である。装置は、不活性ガスを導入する導入部6、反応性ガスを導入する導入部7、ターゲットに電力を供給する電力供給部8を有する。また、ターゲットへの電力の供給で発生するプラズマ発光を検出する検出部と、所定の波長の発光強度または所定の複数の波長の発光強度演算値を指定値に維持するよう反応性ガスの流量を調整する制御部14を含む。制御部は、成膜中に検出される電力供給部のカソード電圧Vと化合物モードでのカソード電圧Vcとの比V/Vcが予め設定された値に近づくように、上記指定値を修正する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2018076558A スパッタリング装置及び膜の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018076558A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2016219170
申请日：2016-11-09
申请人：キヤノン株式会社
发明人：久保朋也 , 廣木珠代
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
摘要：【課題】長期間に亘って安定して所望の膜厚及び膜質の膜を成膜対象物に形成可能なスパッタリング装置及び膜の製造方法の提供。【解決手段】推定部201は、受光部108にて受けた光の強度Iに対応する成膜速度R1を第1の周期で推定し、推定部202は、電源の出力電力P W 及び反応性ガスの流量Q O2 を取得し、シミュレーションにより、第1の周期よりも長い第2の周期で、成膜速度R2を推定し、補正部203は、成膜速度R2を推定したタイミングの後であって、次の周期で成膜速度R2を推定するタイミングの前に推定した成膜速度R1を、推定した成膜速度R2を用いて補正し、PID制御部204は、補正後の成膜速度Rが目標成膜速度R * に近づくように、反応性ガスの流量及び電源の出力を制御するスパッタリング装置100。【選択図】図1

3. 发明专利

JP5854707B2 透過型X線発生管及び透過型X線発生装置有权
标题翻译：透射型X射线发生管和透射型X射线发生器
公开(公告)号：JP5854707B2
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2011189223
申请日：2011-08-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：小倉孝夫 , 田村美樹 , 佐藤安栄 , 廣木珠代
IPC分类号： H01J35/08
CPC分类号： H01J35/08 , G01N23/04 , H01J35/16 , H01J2235/081 , H01J2235/087 , H01J2235/168 , H01J2235/186

4. 发明专利

JP6672204B2 反応性スパッタリングの成膜装置、および成膜方法有权
公开(公告)号：JP6672204B2
公开(公告)日：2020-03-25
申请号：JP2017047967
申请日：2017-03-14
申请人：キヤノン株式会社
发明人：廣木珠代
IPC分类号： H05H1/46 , C23C14/34

5. 发明专利

JP5871529B2 透過型X線発生装置及びそれを用いたX線撮影装置有权
标题翻译：透射X射线发生器及使用该X射线成像设备
公开(公告)号：JP5871529B2
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2011189112
申请日：2011-08-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：小倉孝夫 , 柳沢芳浩 , 田村美樹 , 野村一郎 , 廣木珠代 , 上田和幸 , 松谷茂樹
IPC分类号： H01J35/08
CPC分类号： H01J35/08 , G01N23/04 , H01J35/16 , H01J2235/087 , H01J2235/168 , H01J2235/186

6. 发明专利

JP5871528B2 透過型X線発生装置及びそれを用いたX線撮影装置有权
公开(公告)号：JP5871528B2
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2011189109
申请日：2011-08-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：田村美樹 , 廣木珠代 , 松谷茂樹 , 小倉孝夫 , 上田和幸 , 柳沢芳浩 , 野村一郎
IPC分类号： A61B6/00 , H05G1/52 , H01J35/08
CPC分类号： H01J35/08 , G01N23/04 , H01J35/14 , H01J35/16 , H05G1/70 , H01J2235/087 , H01J2235/168 , H01J2235/186

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