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1. 发明专利

JP2015038469A 平面視試料の調製审中-公开
标题翻译：计划样本准备
公开(公告)号：JP2015038469A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014122959
申请日：2014-06-16
申请人：エフ・イ−・アイ・カンパニー , Fei Co
发明人： RICHARD J YOUNG
IPC分类号： G01N1/28 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/317 , G01N1/32 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01J37/3178 , H01J2237/2802 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要：【課題】荷電粒子ビームを用いたTEM試料の作成において、試料の向きを変える方法および装置を提供する。【解決手段】試料ステージ上に第1の加工物を配置するステップを含み、第1の加工物は、第1の向きに配向した薄片面を含む。第1の加工物から試料800が切り離されるように、試料は、イオン・ビームを使用して第1の加工物からミリングされる。試料を取り付けるプローブ802のシャフト軸は、試料ステージ平面に対して垂直ではない、あるシャフト角で配向する。シャフト軸を軸にプローブを回転させて、薄片面が第2の向きを向くようにする。試料を、試料がそこからミリングされた加工物である第1の加工物に取り付け、もしくは第1の加工物上に置く。または試料がそこからミリングされなかった加工物である第2の加工物に取り付け、もしくは第2の加工物上に置く。イオン・ビームを使用して、薄片面に沿った配向を有する試料薄片を形成する。【選択図】図12
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于改变为使用带电粒子束的样品制备的TEM样品的取向的方法和装置。解决方案：一种方法包括在样品台上提供第一工件的步骤，第一工件包括在第一方向上的薄片平面。使用离子束从第一工件碾磨样品800，使得样品不含第一工件。附接到样品的探针802包括轴，轴的轴线以与样品台平面成非正交角的轴角取向。探针围绕轴线旋转，使得薄片平面处于第二方向。样品在第一工件上附接或放置在样品上，第一工件是样品被研磨的工件，或在第二工件上，第二工件是工件，样品未研磨。使用离子束形成在薄片平面中取向的样品薄片。

2. 发明专利

JP2014032189A Sequencer for combining automated and manual-assistance jobs in charged particle beam device 有权
标题翻译：用于组合充电颗粒光束装置中的自动和手动辅助工作的序列
公开(公告)号：JP2014032189A
公开(公告)日：2014-02-20
申请号：JP2013156204
申请日：2013-07-27
申请人： Fei Co , エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人： RICHARD J YOUNG , TANNER RYAN , RAINIER LOUIS WARSHAW
IPC分类号： G01N23/225 , G01N23/04 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/317 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/31749
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for imaging and processing a workpiece having nanometric features through the use of at least one charged particle beam, by both fully automated procedures and manual assistance procedures.SOLUTION: The device includes: a user interface, including a schedule input entry device and a human operator ready input that can be placed in a first state or a second state; and a procedure scheduler, accepting a schedule of procedures, including fully automated procedures and manual assistance procedures, from the schedule input entry device. Additionally included is a procedure sequencer; when the human operator ready input is in the second state, the procedure sequencer sequences the fully automated procedures until the human operator ready input is placed into the first state; and when the human operator ready input is placed in the first state, the procedure sequencer begins sequencing the manual assistance procedures after reaching a safe termination point for the fully automated procedures being performed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过使用至少一个带电粒子束来进行成像和处理具有纳米特征的工件的装置，通过全自动程序和手动辅助程序。解决方案：该装置包括：用户界面，包括可以放置在第一状态或第二状态的时间表输入输入装置和人操作者就绪输入; 以及程序调度器，从时间表输入输入设备接收包括完全自动化过程和手动辅助过程的过程调度。另外包括一个程序排序器; 当操作人员准备好的输入处于第二状态时，程序定序器将完全自动化的过程排序，直到人操作者就绪输入被置于第一状态; 并且当人操作者准备输入被置于第一状态时，程序定序器在达到完全自动化程序的安全终止点之后开始对手动辅助程序进行排序。

3. 发明专利

JP2012255774A High accuracy beam placement for local area navigation 有权
标题翻译：用于当地区域导航的高精度光束放置
公开(公告)号：JP2012255774A
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：JP2012113991
申请日：2012-05-18
申请人： Fei Co , エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人： RAINIER LOUIS WARSHAW , RICHARD J YOUNG , RUE CHAD , PETER D CARLSON
IPC分类号： G01B15/00 , G01B15/04 , H01J37/22 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： H01L22/12 , G06T7/73 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/3045 , H01J2237/31749 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved method of high accuracy beam placement for local area navigation in the field of semiconductor chip manufacturing.SOLUTION: Preferred embodiments of the present invention can be used to rapidly navigate to one single bit cell in a memory array or similar structure, for example to characterize or correct a defect in individual bit cells in the memory array or similar structure. High-resolution scanning is used to scan a "strip" of cells on the one edge of the array (along either the X axis and the Y axis) to locate a row containing the desired cell followed by a similar high-speed scan along the located row (in the remaining direction) until the desired cell location is reached. This allows pattern-recognition tools to be used to automatically "count" the cells necessary to navigate to the desired cell, without the large expenditure of time required to image the entire array.
摘要翻译：要解决的问题：为半导体芯片制造领域的局域导航提供高精度光束放置的改进方法。解决方案：本发明的优选实施例可以用于快速导航到存储器阵列或类似结构中的一个单个位单元，例如以表征或校正存储器阵列或类似结构中的各个位单元中的缺陷。高分辨率扫描用于扫描阵列的一个边缘（沿着X轴和Y轴）上的单元格的“条带”，以便定位包含所需单元格的行，然后沿着与之相似的高速扫描（在剩余方向上），直到到达所需的单元格位置。这允许使用模式识别工具来自动“计数”导航到所需单元格所需的单元格，而无需大量花费整个阵列成像所需的时间。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2015038509A 加工終点検出方法有权
标题翻译：处理端点检测方法
公开(公告)号：JP2015038509A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014228898
申请日：2014-11-11
申请人：エフイーアイカンパニFei Company , Fei Co , エフイーアイカンパニFei Company
发明人： RICHARD J YOUNG , BRENNAN PETERSON , MICHAEL MORIARTY , SCHAMPERS RUDOLF JOHANNES PETER GERARDUS
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , H01J37/22 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3056 , G01N1/286 , H01J37/304 , H01J2237/24455 , H01J2237/30466 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要：【課題】TEM試料作成のための改善された方法。【解決手段】FIB/SEMデュアルビームにおいてSEM−STEM検出器を使用することにより、STEM信号で試料膜厚を観察しながら、FIBを用いて試料を薄膜化することができる。本発明の好ましい一つの実施形態では、再現性があって自動化に適している正確なエンドポイント検出の方法を使用することによって、S/TEM試料の膜厚を測定し、S/TEM試料を作成することができる。また、好ましい実施形態では、TEM薄膜作成中に自動的なエンドポインティングを実現することができ、手動による薄膜化中に使用者に試料膜厚に関する直結フィードバックを提供することができる。したがって、本発明の好ましい実施形態では、試料を薄膜化する際にエンドポイントを決定するための改善された方法、及びTEM試料作成のスループットと再現性を向上するように、部分的又は完全に自動化されたエンドポインティングの方法を提供する。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供TEM样品制备的改进方法。解决方案：在双光束FIB / SEM中使用SEM-STEM检测器允许使用FIB对样品进行稀释，而STEM信号用于监测样品厚度。本发明的一个优选实施例可以通过使用可重复且适合于自动化的精确终点检测方法来测量S / TEM样品的厚度以产生S / TEM样品。优选实施例还可以在TEM薄片创建期间实现自动终点，并且在手动稀疏期间向用户提供对样品厚度的直接反馈。因此，本发明的优选实施例提供了用于终止样品稀释的改进方法以及部分或全部自动化终点以提高TEM样品产生的产量和再现性的方法。

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