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1. 发明专利

JP2010090412A Pd-cr-w-based sputtering target and method of manufacturing the same 有权
标题翻译：基于PD-CR-W的喷射目标及其制造方法
公开(公告)号：JP2010090412A
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：JP2008259086
申请日：2008-10-03
申请人： Tanaka Holdings Kk , Tanakaホールディングス株式会社
发明人： YAMAMOTO TOSHIYA , MIYASHITA TAKASHI , GOTO YASUYUKI , HIGUCHI KIYOSHI
IPC分类号： C23C14/34 , C22C1/04 , C22C5/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive sputtering target alternative for a ruthenium target, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: The Pd-Cr-W-based sputtering target contains Pd, Cr and W as main components. In the structure of the target, at least one of the Cr phase and the W phase is dispersed in an alloy matrix containing at least one of Cr and W, and the balance Pd with inevitable impurities. The content of Cr to the entire target is 5-50 at%, and the content of W is 5-40 at%. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供钌靶的廉价溅射靶替代物及其制造方法。解决方案：Pd-Cr-W基溅射靶包含Pd，Cr和W作为主要成分。在靶的结构中，Cr相和W相中的至少一个分散在含有Cr和W中的至少一种的合金基体中，余量Pd分散在不可避免的杂质中。 Cr对整个靶的含量为5-50原子％，W的含量为5-40原子％。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP4426418B2 Nozzle for molten metal spray 有权
公开(公告)号：JP4426418B2
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：JP2004302618
申请日：2004-10-18
申请人： Tanakaホールディングス株式会社
发明人：重雄塩田 , 美和高木
IPC分类号： B22D41/50 , B22D41/02 , B22D41/54 , B22F9/08

3. 发明专利

JP4426158B2 Screw manufacturing method of the (cyclopentadienyl) ruthenium 有权
公开(公告)号：JP4426158B2
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：JP2002227084
申请日：2002-08-05
申请人： Tanakaホールディングス株式会社
发明人：威元寒江
IPC分类号： C07B61/00 , C07F17/02 , C07F15/00 , C23C16/18
CPC分类号： C07F17/02

4. 发明专利

JP2010040585A Lid for package sealing and its manufacturing method 有权
标题翻译：用于包装密封及其制造方法
公开(公告)号：JP2010040585A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：JP2008198658
申请日：2008-07-31
申请人： Tanaka Holdings Kk , Tanakaホールディングス株式会社
发明人： IRIBE TSUYOSHI , IWATANI TAKUNARI , MIYAZAKI KENICHI , SHIMADA TOMOHIRO
IPC分类号： H01L23/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lid for package sealing, which improves sealing characteristics and hardly causes flow-in to a case during sealing and a creep-up phenomenon.
SOLUTION: In the lid for package sealing for which a brazing filler material in a frame shape is fused to a lid body, an Au-plated layer in the frame shape having a prescribed width along four sides on the inner side of the brazing filler material and an Ni alloy layer containing Au for 3 wt.% or less at the opening part of the Au-plated layer in the frame shape are provided. The surface roughness of the Ni alloy layer is 0.01-0.20 μm by the surface roughness stipulated by JIS B0601. For the lid, it is preferable that the side face and back surface of the lid body are also covered with the Ni alloy layer.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于封装密封的盖，其改善了密封特性，并且几乎不会导致在密封期间的流入和蠕变现象。解决方案：在框体形状的钎焊材料与盖体熔合的封装密封用盖中，形成框状的镀金层，沿着四边形状具有规定的宽度提供钎焊填充材料和在框架形状的Au镀层的开口部分含有3重量％以下的Au的Ni合金层。根据JIS B0601规定的表面粗糙度，Ni合金层的表面粗糙度为0.01-0.20μm。对于盖子，优选的是，盖体的侧面和背面也被Ni合金层覆盖。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2010019786A Development solution for immunochromatography and measuring method using the same 有权
标题翻译：用于免疫印迹的发展解决方案和使用该方法的测量方法
公开(公告)号：JP2010019786A
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：JP2008182630
申请日：2008-07-14
申请人： Tanaka Holdings Kk , Tanakaホールディングス株式会社
发明人： ITO DAISUKE
IPC分类号： G01N33/543 , G01N33/531 , G01N33/553
CPC分类号： G01N33/533 , Y10T436/107497
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a development solution used for accurate and highly sensitive immunochromatography for sufficiently detecting even a low concentration of substances to be detected while suppressing pseudo-positive reaction caused by the nonspecific adsorption of components except the substances to be detected contained in a sample. SOLUTION: In the immunochromatography using a detection reagent labeled with an insoluble carrier, the development solution contains a vinyl-based water-soluble polymer having a polar group containing oxygen atoms and nitrogen atoms and a non-ionic surface-active agent. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供用于精确和高度灵敏的免疫层析的显影溶液，用于充分检测即使是低浓度的待检测物质，同时抑制由除非物质以外的成分的非特异性吸附引起的假阳性反应检测包含在样品中。解决方案：在使用用不溶性载体标记的检测试剂的免疫色谱法中，显影溶液含有具有含氧原子和氮原子的极性基团的乙烯基类水溶性聚合物和非离子表面活性剂。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2010194428A Method of manufacturing surface-supported catalyst 有权
标题翻译：制备表面支持的催化剂的方法
公开(公告)号：JP2010194428A
公开(公告)日：2010-09-09
申请号：JP2009040395
申请日：2009-02-24
申请人： Tanaka Holdings Kk , Tanakaホールディングス株式会社
发明人： KUBO HITOSHI , OSHIMA YUSUKE , ISHIKAWA TOMOKO , YANAI JUNICHI
IPC分类号： B01J37/02 , B01J35/02 , B01J35/08 , B01J37/08 , B01J37/16
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a supported catalyst having a high catalytic activity by controlling the state of supporting catalytic components to prevent the dispersion of the catalytic components into a carrier.
SOLUTION: The method where a catalytic metal salt aqueous solution is brought into contact with a porous carrier to support catalytic metal on the surface of the carrier comprises a process where the carrier is impregnated in a liquid having a freezing point of -20 to 20°C before being brought into contact with the catalytic metal salt aqueous solution, and the carrier is brought into contact with the catalytic metal salt aqueous solution after cooling the impregnated liquid to the freezing point or lower to freeze the liquid inside the carrier, a process of reducing the catalytic metal salt on the carrier surface, and a process of removing the liquid frozen inside the carrier. This method enables closely arranging and supporting the catalytic metal on the carrier surface.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供一种通过控制支持催化组分的状态来制备具有高催化活性的负载型催化剂的方法，以防止催化组分分散在载体中。解决方案：使催化金属盐水溶液与多孔载体接触以支持载体表面上的催化金属的方法包括将载体浸渍在冰点为-20℃的液体中的方法在与催化金属盐水溶液接触之前，使其与催化金属盐水溶液接触，然后将浸渍液冷却至凝固点或更低以使载体内的液体冷冻，减少载体表面上的催化金属盐的方法，以及除去在载体内冻结的液体的方法。该方法能够在载体表面上紧密地布置和支撑催化金属。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP4428670B2 Immunoassay, kit and developing solvent 有权
公开(公告)号：JP4428670B2
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：JP2008056180
申请日：2008-03-06
申请人： Tanakaホールディングス株式会社
发明人：大輔伊藤 , 久彦岩本 , 一芳望月 , 佳子木谷 , 理公柘植
IPC分类号： G01N33/531 , G01N33/543
CPC分类号： G01N33/54393 , G01N33/558 , G01N2400/00

8. 发明专利

JP4427058B2 Sealed AC load for the relay and Ag-based contact element material used to it 有权
公开(公告)号：JP4427058B2
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：JP2006514794
申请日：2005-06-17
申请人： Tanakaホールディングス株式会社
发明人：理坂口 , 俊哉山本 , 宣仁柳原
IPC分类号： H01H1/023 , C22C5/06 , H01H1/02 , H01H1/0237 , H01H50/54
CPC分类号： C22C5/06 , H01H1/0237

9. 发明专利

JPWO2008059582A1 反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体审中-公开
公开(公告)号：JPWO2008059582A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008544044
申请日：2006-11-17
申请人： Tanakaホールディングス株式会社
发明人：智和小幡 , 智和小幡 , 浩柳原 , 浩柳原
IPC分类号： G11B7/258 , C23C14/06 , C23C14/34 , G02B5/08 , G11B7/24 , G11B7/259 , G11B7/26
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/0688 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0808 , G11B7/259 , Y10T428/21
摘要：本発明は、銀又は銀合金からなるマトリックスに、アルミニウム、マグネシウム、錫、亜鉛、インジウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、シリコンの窒化物、酸化物、複合酸化物、窒酸化物、炭化物、硫化物、塩化物、珪化物(シリコンを除く)、弗化物、硼化物、水素化物、リン化物、セレン化物、テルル化物の少なくとも1種よりなる化合物相が分散してなる反射膜又は半透過反射膜用の薄膜である。この薄膜はアルミニウム等に加え、銀、ガリウム、パラジウム、銅の窒化物、酸化物、複合酸化物、窒酸化物、炭化物、硫化物、塩化物、珪化物、弗化物、硼化物、水素化物、リン化物、セレン化物、テルル化物の少なくとも1種が分散しても良い。本発明に係る薄膜は、長期使用によっても反射率の低下が少なく、光記録媒体、ディスプレイ等の反射膜が適用される各種装置の寿命を長期化でき、光記録媒体で適用される半反射・半透過膜についても適用できる。

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