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1. 发明专利

JPH0420142B2 失效
公开(公告)号：JPH0420142B2
公开(公告)日：1992-03-31
申请号：JP17578883
申请日：1983-09-22
申请人： OKUI DENKI KK , NAGASE SANGYO KK
发明人： TANIWAKI KENJI
IPC分类号： G01N15/06 , G01N1/14 , G01N9/24

2. 发明专利

JP2561578B2 失效
公开(公告)号：JP2561578B2
公开(公告)日：1996-12-11
申请号：JP22213091
申请日：1991-08-07
申请人： HIRAMA RIKA KENKYUSHO KK , NAGASE SANGYO KK
发明人： NAKAGAWA TOSHIMOTO , TSUKADA KOZO , OGAWA OSAMU , SHIOZU SHINICHIRO
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/30

3. 发明专利

JPH067910B2 失效
公开(公告)号：JPH067910B2
公开(公告)日：1994-02-02
申请号：JP3003787
申请日：1987-02-10
申请人： HITACHI PURANTO KENSETSU KK , HIRAMA RIKA KENKYUSHO KK , NAGASE SANGYO KK , NAGASE DENSHI KAGAKU KK
发明人： NAKAGAWA TOSHIMOTO , OGAWA OSAMU , SANO MITSUHIKO , TAKASHIMA NOBUO
IPC分类号： H01L21/30 , B01F1/00 , B01F3/08 , G03F7/00 , G03F7/30 , H01L21/027

4. 发明专利

JPS6138945A Peeling agent composition 失效
标题翻译：剥离剂组合物
公开(公告)号：JPS6138945A
公开(公告)日：1986-02-25
申请号：JP9831184
申请日：1984-05-15
申请人： Nagase Sangyo Kk
发明人： SUGITA MASARU
IPC分类号： C09D9/00 , C11D7/50 , G03C11/00 , G03F7/42
CPC分类号： G03F7/426
摘要： PURPOSE:To enable easy peeling of a positive type photoresist formed on an inorg. substrate in a short time without corroding the metals of the substrate and the like by using a compsn. composed of specified amts. of methylene chloride, metasulfonic acid, and aromatic sulfonic acid. CONSTITUTION:A compsn. used for peeling a positive type photoresist formed on the inorg. substrate is composed of 50-99wt% methylene chloride, 1-50wt% metasulfonic acid, and 1-50wt% aromatic sulfonic acid, such as monoalkylbenzenesulfonic acid or dialkylbenzenesulfonic acid, preferably, xylenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid. The inorg. substrate can be easily peeled of the photoresist film in a short time by bringing said peeling agent compsn. into contact with the resist film formed on the substrate at 10-40 deg.C, and then, washing it with methanol or the like and further washing it with water.
摘要翻译：目的：使Inorg上形成的正型光致抗蚀剂容易剥离。衬底，而不会通过使用组合物而腐蚀衬底的金属等。由指定的amts组成。的二氯甲烷，异磺酸和芳族磺酸。宪法：一个公司用于剥离在inorg上形成的正型光致抗蚀剂。底物由50-99wt％二氯甲烷，1-50wt％异磺酸和1-50wt％芳族磺酸如单烷基苯磺酸或二烷基苯磺酸，优选二甲苯磺酸和十二烷基苯磺酸组成。 inorg。通过使所述剥离剂组合，可以在短时间内使基板容易地剥离光致抗蚀剂膜。在10-40℃下与形成在基材上的抗蚀剂膜接触，然后用甲醇等洗涤，并进一步用水洗涤。

5. 发明专利

JP2952636B2 失效
公开(公告)号：JP2952636B2
公开(公告)日：1999-09-27
申请号：JP34847593
申请日：1993-12-27
申请人： NAGASE SANGYO KK
发明人： MYAZAKI TOSHITSUGU , OSANAI JUKO
IPC分类号： A61K8/96 , A61K8/00 , A61K8/34 , A61K8/97 , A61K36/53 , A61P17/00 , A61Q17/04 , A61Q19/00 , A61Q19/02 , A61K7/48 , A61K7/00 , A61K7/42 , A61K35/78

6. 发明专利

JP2884466B2 失效
公开(公告)号：JP2884466B2
公开(公告)日：1999-04-19
申请号：JP34847693
申请日：1993-12-27
申请人： NAGASE SANGYO KK
发明人： MYAZAKI TOSHITSUGU , OSANAI JUKO
IPC分类号： A61K8/96 , A61K8/00 , A61K8/34 , A61K8/97 , A61K36/53 , A61P17/00 , A61Q17/04 , A61Q19/00 , A61Q19/02 , A61K7/48 , A61K7/00 , A61K7/42 , A61K35/78

7. 发明专利

JP2859657B2 失效
公开(公告)号：JP2859657B2
公开(公告)日：1999-02-17
申请号：JP26946689
申请日：1989-10-17
申请人： NAGASE SANGYO KK
发明人： NOHIRA HIROYUKI , ARAI KAZUTAKA
IPC分类号： C07B57/00 , C07C51/487 , C07C59/84

8. 发明专利

JP2749338B2 失效
公开(公告)号：JP2749338B2
公开(公告)日：1998-05-13
申请号：JP33174088
申请日：1988-12-28
申请人： NAGASE SANGYO KK
发明人： NAGAMUNE HIDEAKI , OOTA FUSAO
IPC分类号： G01N33/569 , A61K39/395 , A61P31/04 , C12N5/10 , C12N5/20 , C12N15/02 , C12N15/06 , C12P21/08 , C12R1/91 , G01N33/577

9. 发明专利

JP2747647B2 失效
公开(公告)号：JP2747647B2
公开(公告)日：1998-05-06
申请号：JP32629893
申请日：1993-11-30
申请人： HIRAMA RIKA KENKYUSHO KK , NAGASE SANGYO KK
发明人： NAKAGAWA TOSHIMOTO , TSUKADA KOZO , OGAWA OSAMU , SHIOZU SHINICHIRO
IPC分类号： G01N27/06 , C23F1/08 , G02F1/1343 , H05K3/06

10. 发明专利

JP2732446B2 失效
公开(公告)号：JP2732446B2
公开(公告)日：1998-03-30
申请号：JP8692193
申请日：1993-03-23
申请人： NAGASE SANGYO KK
发明人： MURAKAMI KEIICHI
IPC分类号： B01D39/00 , B01D39/20

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