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1. 发明专利

JP6508674B2 流量校正装置有权
公开(公告)号：JP6508674B2
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：JP2015038058
申请日：2015-02-27
申请人：株式会社TI , 株式会社フジキン , 国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：高橋善和 , 川崎正登 , 藤本良平 , 平尾圭志 , 皆見幸男 , 吉田肇
IPC分类号： G01M3/02

2. 发明专利

JP6130655B2 周期表第1、2族水素化物の製造方法、製造装置及びその使用方法有权
公开(公告)号：JP6130655B2
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：JP2012261851
申请日：2012-11-30
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男 , 奥山正己
IPC分类号： C01B6/06 , C01B6/04

3. 发明专利

JP6110088B2 水素発生装置及び水素発生方法有权
公开(公告)号：JP6110088B2
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：JP2012174877
申请日：2012-08-07
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男
IPC分类号： C01B3/10
CPC分类号： Y02E60/36

4. 发明专利

JPWO2015041115A1 ガス透過度測定装置有权
标题翻译：透气性测定装置
公开(公告)号：JPWO2015041115A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015537875
申请日：2014-09-10
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社Ti
发明人：肇吉田 , 善和高橋
IPC分类号： G01N15/08
CPC分类号： G01N15/0826
摘要：【課題】校正作業を簡素化し、正確にガス透過度を測定すること。【解決手段】ガス透過度測定装置1は、ガス暴露面側に配されるガス暴露側保持部11とガス透過面側に配されるガス透過側保持部13とでガスバリアフィルム2を保持可能とされるフィルム保持室10と、開閉自在の測定用流路25及び測定用流路25を閉状態としたとき開状態とされるように開閉自在とされ、開状態において前記測定用ガスの流量を測定可能な校正用測定部を有する校正用流路27を備えるガス上流部20と、ガス透過側保持部13と接続される真空部41、真空ポンプ42及びガスバリアフィルム2を保持しない状態の前記測定用ガスの流量と、ガスバリアフィルム2を保持した状態で透過した前記測定用ガスの流量とを校正された状態で測定可能とされるガス透過度測定部43を備えるガス下流部40と、を有する。【選択図】図1(b)
摘要翻译：甲简化校准工作，精确测量气体渗透率。一种气体渗透率测定装置1，并且可以在被设置在其上设置在气体暴露的表面侧的气体暴露的侧保持部分11和气体渗透侧的气体透过侧保持部分13保持的阻气性膜2 膜保持室10，其中，可打开测量流路25，并测量流路25被打开和关闭，从而在关闭时为可打开状态时，测量气体的处于打开状态的流动与校准通道27的气体的上游部分20具有可测量校准测量单元，真空单元41被连接到气体渗透侧保持部分13，而不是保持在真空泵42和气体阻隔性膜2的状态的测量有使用的气体的流速，具有透气性测定部43，其处于被校准并流已经通过在保持阻气性膜2通过测量气体，所述的速率的状态下可测量的气体下游部分40 。点域1（b）中

5. 发明专利

JP2016161315A 流量校正装置有权
标题翻译：流量校准装置
公开(公告)号：JP2016161315A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015038058
申请日：2015-02-27
申请人：株式会社TI , 株式会社フジキン , 国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：高橋善和 , 川崎正登 , 藤本良平 , 平尾圭志 , 皆見幸男 , 吉田肇
IPC分类号： G01M3/02
摘要：【課題】微量なガス流量を計測対象とした計測器の校正を高精度で安定的かつ効率的に実施可能な流量校正装置を提供する。【解決手段】流量校正装置は、少なくとも、流出するガスを分子流とすることが可能とされるコンダクタンス部4と、導入されるガスをコンダクタンス部4に流送する上流部2と、コンダクタンス部を通過して流出するガスが導入される下流部3とを備え、下流部3は、下流部3内に導入されるガスの流量を計測する被校正対象の計測部8a、8bを有し、上流部2は、上流部2内の圧力を計測する上流側真空計6と、上流部2内の設定圧力値に対し上流側真空計6から出力される圧力値が等しくなるように流量を電磁弁により制御してガスを上流部2内に導入する圧力制御部5とを有する。【選択図】図1(a)
摘要翻译：要解决的问题：提供一种流量校准装置，通过该流量校准装置，可以高精度地稳定高效地执行设计成测量微小气体流量的测量仪器的校准。解决方案：流量校准装置包括：能够至少将流出气体转换为分子流的电导单元4，将导入气体流入导电单元4的上游单元2和通过导电单元的气体流出的下游单元3 介绍。下游单元3具有测量单元8a，8b，该测量单元测量导入下游单元3的气体的流量。上游单元2具有用于测量上游单元2内的压力的上游侧真空计6，以及用于通过电磁阀控制流量的压力控制单元5，使得从上游侧真空计6输出的压力值等于上游单元2内的设定压力值，并将气体引入上游单元2 图1（a）

6. 发明专利

JP5925521B2 水素発生用酸化物の使用方法有权
标题翻译：使用氢生成氧化物
公开(公告)号：JP5925521B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2012038483
申请日：2012-02-24
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男
IPC分类号： C01B13/32 , C01B3/08
CPC分类号： Y02E60/36

7. 发明专利

JP5911980B2 水から水素を発生せしめる水素発生方法及び水素発生装置有权
标题翻译：生产氢的方法和氢生成装置允许生成从水中氢
公开(公告)号：JP5911980B2
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：JP2015013278
申请日：2015-01-27
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男
IPC分类号： C01B3/10
CPC分类号： Y02E60/36

8. 发明专利

JP5854424B2 アルカリ粒子同伴水素含有ガスの処理装置および処理方法有权
标题翻译：处理装置和碱性颗粒的处理方法，夹带的含氢气体
公开(公告)号：JP5854424B2
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2012010481
申请日：2012-01-20
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男
IPC分类号： C01B3/56
CPC分类号： Y02E60/36

9. 发明专利

JP2015078123A 水から水素を発生せしめる水素発生方法及び水素発生装置有权
标题翻译：氢气生成方法和氢生成装置从水中产生氢
公开(公告)号：JP2015078123A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：JP2015013278
申请日：2015-01-27
申请人：株式会社TI
发明人：石川泰男
IPC分类号： C01B3/10
CPC分类号： Y02E60/36
摘要：【課題】水から水素を採集する水素量を多くできる水素発生方法を提供する。【解決手段】水酸化ナトリウムの溶融塩にSUS304を溶かし込み、この溶融塩の液面上に微細粒子群を飛散せしめ、液面上の反応空間を無酸素状態とし、前記微細粒子群に水蒸気を衝突せしめるようにし、前記反応空間が負圧になったときに、アルゴンのような不活性ガスを自動的に注入するか、反応空間を弁操作により常に正圧として無酸素状態を維持するようにし、微細粒子発生筒と別体に水を供給する反応筒を設けるようにした。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供增加由水产生的氢气量的氢气产生方法。解决方案：不锈钢SUS304溶解在氢氧化钠的熔融盐中，一组细颗粒分散在熔融盐的表面上。使液面上的反应空间不含氧气，并使蒸汽与一组细颗粒碰撞。当反应空间达到负压时，自动注入诸如氩气的惰性气体，或者操作阀门以使反应空间保持在正压力以保持反应空间不含氧。用于供水的反应管独立于细粒生成管安装。

10. 发明专利

JP5431242B2 Deposition system 有权
公开(公告)号：JP5431242B2
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：JP2010110352
申请日：2010-05-12
申请人：株式会社Ti
发明人：善和高橋 , 由香吉沼
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10

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