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1. 发明专利

JP6774714B2 ワークステージ及び露光装置有权
公开(公告)号：JP6774714B2
公开(公告)日：2020-10-28
申请号：JP2016145551
申请日：2016-07-25
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：原貴之
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20

2. 发明专利

JP6637120B2 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法有权
公开(公告)号：JP6637120B2
公开(公告)日：2020-01-29
申请号：JP2018128066
申请日：2018-07-05
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：菊池浩明
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00 , H05K3/46 , H05K3/28 , G03F9/00

3. 发明专利

JP2019082612A 両面露光装置及び両面露光方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019082612A
公开(公告)日：2019-05-30
申请号：JP2017210654
申请日：2017-10-31
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：名古屋淳
IPC分类号： G03F9/00 , H05K3/00 , G03F7/20
摘要：【課題】基板のアライメント用開口を通してマスクのアライメントマークをカメラで撮影する際、マスクのアライメントマークの隠れの問題を解決する。【解決手段】搬送系1により間欠的に送られた基板Wを挟んだ位置に配置された一対の第一第二のマスク3,4を通して、露光ユニット2が光を基板Wに照射することで露光する。露光に先立ち、第一のマスク3のアライメントマーク31、第二のマスク4のアライメントマーク41及び基板Wのアライメント用開口Wmを撮影したカメラ8からの撮影データによりアライメント手段がアライメントをする。アライメント用開口Wmを通してマスクマーク31,41が捉えられずに隠れている場合、前回の露光の際のアライメント完了時のマスクマーク31,41の位置を記憶部60から読み出し、その位置を基準として隠れを解消するための移動量を算出してマスク3,4を移動させて隠れを解消する。【選択図】図6

4. 发明专利

JP6483536B2 パターン描画装置及びパターン描画方法有权
公开(公告)号：JP6483536B2
公开(公告)日：2019-03-13
申请号：JP2015114396
申请日：2015-06-05
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：大倉拓也
IPC分类号： G01B11/00 , G03F9/00

5. 发明专利

JP2018163272A 露光装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018163272A
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：JP2017060265
申请日：2017-03-26
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：名古屋淳
IPC分类号： H01L21/677 , B08B1/04 , G03F7/20
摘要：【課題】基板の品種に応じて最適化されたクリーニングが行えるようにした露光装置を提供する。【解決手段】搬入ハンド31の前端には伸縮機構42を備えたアーム41を介してクリーニングローラ4が取り付けられ、搬入ハンド31が基板Wをプラテン1に載置した後に待機位置に戻る際にクリーニングローラ4を基板Wに接触させながら水平移動して基板Wがクリーニングされる。コントローラ6の入力部64からの入力により、プラテン1に載置された基板Wの縁を含んで当該縁から内側の任意の位置をクリーニング開始点Psとして設定することができ、コントローラ6はマージンを避けてクリーニングローラ4にクリーニングを行わせる。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2018159956A 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018159956A
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：JP2018128066
申请日：2018-07-05
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：菊池浩明
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00 , H05K3/46 , G03F9/00
摘要：【課題】実装用パッドと電子部品の電極とのピッチずれを抑制しつつ、高精度な層間の位置合わせを実現することができる描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法を提供する。【解決手段】被露光基板に設けられた複数の基準マークの設計上の位置である第1の位置を示す座標データ、第1の位置を基準として定められた被露光基板に描画する描画パターンを示す座標データ、及び複数の基準マークの各々の実際の位置である第2の位置を示す座標データを取得し(S103、S107)、第1の位置及び第2の位置に基づいて被露光基板の歪みの大きさを示す物理量を導出し、かつ複数の基準マークの各々毎に、第1の位置及び第2の位置のずれに対する補正量を導出し(S113、S114)、導出した補正量の各々から、上記物理量が大きくなるほど多い量を低減し(S119)、低減した補正量に基づいて描画パターンを示す座標データを補正する(S127)。【選択図】図12

7. 发明专利

JP2018085396A 基板取り扱い装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018085396A
公开(公告)日：2018-05-31
申请号：JP2016226463
申请日：2016-11-22
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：山本欽也
IPC分类号： H01L21/677
摘要：【課題】低酸素雰囲気で基板を取り扱う基板取り扱い装置であって、比較的安価なコストで且つ全体の所要時間が長くならない実用的な装置を提供する。【解決手段】内部を閉鎖空間とするカバー1内にはパージガス導入系2によりパージガスが常時導入されてカバー1内は陽圧の低酸素雰囲気とされる。カバー1内では、チャンバーベース32がチャンバー駆動機構33により駆動されて、気密な窓板311を備えた天板31に気密に接触して真空チャンバーが形成され、真空チャンバー内でヒートステージ5が基板Sを保持する。真空チャンバー内は排気系8によって排気され、ヒートステージ5に載置された基板Sには、窓板311を通して光源7からの光が照射される。ベントガス導入系9は、真空チャンバー内を大気圧に戻す際に加え基板Sの搬入、搬出の際にも動作して酸素ガスの進入を抑制する。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2017161953A 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017161953A
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：JP2017125490
申请日：2017-06-27
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：尾崎幸久 , 佐藤淳一
IPC分类号： G03F7/20
摘要：【課題】被露光基板の両面に画像を描画する際に各面で相互に対応しない画像を描画してしまうことを防止する。【解決手段】被露光基板の第1面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが対応付けられた第1ジョブ情報60Aに基づいて第1面を露光することにより、該第1ジョブ情報60Aにより示される画像を第1面に描画し、被露光基板の第2面に描画する画像を示す画像情報と露光条件情報とが各々対応付けられた複数の第2ジョブ情報60Bを記憶し、複数の第2ジョブ情報60Aから、第1面に対する画像の描画に用いた第1ジョブ情報60Aにより示される露光条件情報と同一の露光条件情報を有する第2ジョブ情報60Bを選択し、選択した前記第2ジョブ情報60Bに基づいて該第1面に画像を描画した被露光基板の第2面を露光することにより、該第2ジョブ情報により示される画像を第2面に描画する。【選択図】図10

9. 发明专利

JP6096453B2 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法有权
公开(公告)号：JP6096453B2
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：JP2012215121
申请日：2012-09-27
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：尾崎幸久 , 佐藤淳一
IPC分类号： H05K3/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2032 , H05K2203/1545 , H05K3/00

10. 发明专利

JP5917923B2 露光光学系、露光装置および露光方法有权
标题翻译：曝光光学系统，曝光装置及曝光方法
公开(公告)号：JP5917923B2
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：JP2012011050
申请日：2012-01-23
申请人：株式会社アドテックエンジニアリング
发明人：小森一樹
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70291

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