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    • 8. 发明专利
    • Surface treatment and method of manufacturing the nano-particles to control the interfacial properties
    • JP2007535589A
    • 2007-12-06
    • JP2007507365
    • 2005-03-30
    • ナノフェイズ テクノロジーズ コーポレイションNanophase Technologies Corporation
    • ブロッツマン,リチャード,ダブリュ.,ジェイアール.
    • C08G77/04B06B1/20C01F7/02C01G9/02C01G23/04C09C1/04C09C1/36C09C1/40C09C3/12C23C26/00H01L21/02
    • C09C1/043B82Y30/00C01P2004/32C01P2004/64C01P2006/12C08K9/06C09C1/3684C09C1/407C09C3/12Y10S977/83Y10T428/2998
    • 複数の無機、金属、セミメタリック、および/又は金属酸化物粒子、および、粒子表面近傍における不均一重合反応により得られ、前記粒子の少なくとも一部を封入するスターグラフト共重合体上に環状および/又は直線状重合体構造を持つスターグラフト共重合体を含む表面処理された粒子。
      前記表面処理は、w、x、yおよびzはそれぞれ、四官能性、三官能性、二官能性、および単官能性のモノマー単位のモルパーセントであり、w、x、yおよびzはそれぞれ、約0〜50、0〜50、5〜99および0〜5であるSi(w、x、y、z)を含み、wはテトラエチルオルトシリケートであり;xはγ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、3−(トリメトキシシリル)プロピル無水コハク酸、ヘプタデカフルオロトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、2−(ジフェニルホスフィノ)エチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、n−(トリメトキシシリルプロピル)EDTA、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、および、これらのモノマーのトリエトキシ含有の対応物(counterparts)からなる群から選択され;yはジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジクロロシラン、n−ヘキシルメチルジクロロシラン、メチルドデシルジエトキシシラン、n−オクチルメチルジメトキシシラン、および、これらのモノマーのジエトキシ含有の対応物からなる群から選択され;zはn−オクタデシルジメチルメトキシシラン、トリエチルシラノール、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、および、これらのモノマーのエトキシ含有の対応物からなる群から選択される。 表面処理されたZnOおよび/又はTiO
      2 と定義される製品それ自体、およびパーソナルケア製剤における製品の使用それ自体は除外される。