专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2010199072A Forming method and forming device of image contrast by phase shift 有权
标题翻译：通过相位移动形成图像对比的方法和形成装置
公开(公告)号：JP2010199072A
公开(公告)日：2010-09-09
申请号：JP2010041184
申请日：2010-02-26
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： ZACH JOACHIM , ROSE HARALD
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/153
CPC分类号： H01J37/263 , H01J2237/2614
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To further improve an image contrast without causing an unallowable error during its improving process. SOLUTION: A quadrupole field (Q 2 ', Q 4 ', Q 12 ', Q 14 ') arranged in front of and in rear side of an anamorphic image (6, 6') for forming and compensating at least one anamorphic image (6, 6') is used so that a widening of the quadrupole filed in its optical axis (10) may become at least two times of a focal distance, and at least one of axial rays (x α , y β ) is made incident into the quadrupole field (Q 2 '; Q 12 ') by a suitable selection of a magnification M of an intermediate image (5) at a gradient of 1/M in front of the at least one anamorphic image (6, 6'), and a length (7) of the anamorphic image (6, 6') is made to remain within an allowable error region. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了进一步提高图像对比度而不会在其改进过程中引起不可容忍的错误。
解决方案：四极场（Q 2 '，Q 4 '，Q 12 布置在用于形成和补偿至少一个变形图像（6,6'）的变形图像（6,6'）的前侧和后侧的“>”）被使用，使得四极杆在其光轴上的加宽（10）可以变为焦距的至少两倍，并且轴向射线（x α，y β）中的至少一个入射到四极场（通过适当选择中间图像（5）的放大倍数M以至少至少在前面1 / M的梯度来选择Q 2 '; Q 12 使一个变形图像（6,6'）和变形图像（6,6'）的长度（7）保持在允许的误差区域内。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP4271037B2 Particle optical corrector 有权
公开(公告)号：JP4271037B2
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：JP2003550246
申请日：2002-12-03
申请人：ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人：ヘイコミューラー , ハラルドローセ
IPC分类号： H01J37/153 , G01Q30/00 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1534

3. 发明专利

JP2008293977A Monochromator and radiation source equipped with monochromator 有权
标题翻译：单色器和放射源配有单色显示器
公开(公告)号：JP2008293977A
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：JP2008135745
申请日：2008-05-23
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： UHLEMANN STEPHAN
IPC分类号： H01J37/05
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/26 , H01J49/48 , H01J2237/057 , H01J2237/1534 , H01J2237/1538
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a monochromator used for an electron microscope. SOLUTION: The monochromator for a charged particle optics, in particular, used for the electron microscope, comprises at least one first deflection element (2, 3) with an electrostatic deflection field (2', 3') for generating a dispersion (4) in the plane (5) of a selection aperture (6) for selecting the charged particles of the desired energy width (7), and at least one second deflection element (8, 9) with an electrostatic deflection field (8', 9') which eliminates the dispersion (4) of at least one first deflecting field (2', 3'). COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供用于电子显微镜的单色仪。特别是用于电子显微镜的带电粒子光学器件的单色仪包括至少一个具有静电偏转场（2'，3'）的第一偏转元件（2,3），用于产生分散体（6）中的用于选择所需能量宽度（7）的带电粒子的平面（5）中的至少一个第二偏转元件（8）和具有静电偏转场（8'）的至少一个第二偏转元件（8,9），9'），其消除了至少一个第一偏转场（2'，3'）的色散（4）。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2007266008A Correction method of image aberration of electron optical system 审中-公开
标题翻译：电子光学系统图像去除的校正方法
公开(公告)号：JP2007266008A
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：JP2007182485
申请日：2007-07-11
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハー
发明人： HAIDER MAXIMILIAN , UHLEMANN STEPHAN
IPC分类号： H01J37/153 , G01Q30/06
CPC分类号： H01J37/153
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of removing the image aberration of the axis of an electron optical system, in which the image aberration of a first, second, third, and n-th dimensional order axis are removed, and a method of removing the image aberration of the electron optical system provided with a hexapole field. SOLUTION: The image aberration of an axis is removed by shifting or inclining a beam path using the aberration α and γ of the higher order image of the outside of an axis, wherein α n is the image aberrations on the axis of the electron optical system. The first and second order image aberrations in the electron optical system provided with the hexapole field are removed by superimposing a quadrupole field or the hexapole field on the hexapole field. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供去除第一，第二，第三和第n维次级轴的像差被去除的电子光学系统的轴的像差的方法，以及一种去除具有六极场的电子光学系统的像差的方法。解决方案：通过使用轴的外部高阶图像的像差α和γ移动或倾斜光束路径来消除轴的像差，其中α n 是电子光学系统的轴上的像差。通过将六极场或六极场叠加在六极场上来除去具有六极场的电子光学系统中的一阶和二阶像差。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2021034375A 6次の軸上収差のない粒子光学補正器および補正器を備えた電子顕微鏡有权
公开(公告)号：JP2021034375A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2020136977
申请日：2020-08-14
申请人：ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハー , CEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人：シュテファンウーレマン
IPC分类号： H01J37/153
摘要：【課題】6次の軸上収差のない補正器を備えた電子顕微鏡を提供する。【解決手段】補正器5は、対称面6に6重極場Ψ HP2 を生成する長さLの中央多重極素子2と、同一の強さの6重極場Ψ HP1 、Ψ HP3 を生成する長さL’の同一の2つの外側多重極素子1、3と、円形レンズ7’、7’’、8’、8’’を備えた2つの円形レンズダブレット7、8とを有し、中央多極子2と外側多極子1、3のそれぞれの6重極場の強さや極子の長さ、および、補正器5全体は、3回軸上非点収差A 2 、6回軸上非点収差A 5 、4次の軸上スリーローブ収差(D 4 )、および、6次の軸上スリーローブ収差(D 6 )が消滅するように選択される。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2009529777A Phase plate, imaging methods and electron microscope 有权
公开(公告)号：JP2009529777A
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：JP2008558735
申请日：2007-10-26
申请人：ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人：ツァックヨアヒム
IPC分类号： H01J37/295
CPC分类号： H01J37/263 , H01J2237/226 , H01J2237/2614
摘要：本発明は、電子光学的な画像形成のための位相板に関する。本発明では０次ビーム（４）の位相がシフトされ、これによって、回折された電子ビーム（５、５'）との干渉によって、できる限りコントラストの高い画像が得られる。回折された電子ビーム（５、５'）の陰影部分はできるだけ少なく保たれるべきであり、得られた画像データから復元されない陰影部分は阻止されるべきである。これは次のことによって実現される。すなわち、電極（１'）が遮蔽された導体（７）として構成され、この導体が固定部（８）から実質的に放射状に０次ビーム（４）の領域へ延在して配置さることによって実現される。ここで遮蔽された導体（７）は、０次ビーム（４）の領域前に終端部（９）を有しており、これによって導体（７）と当該導体を取り囲んでいる遮蔽部（１０）との間に電界（６）が形成される。ここでこの電界は当該領域を検出する。本発明はさらに、画像を完全に復元する結像方法並びに、位相板（１）が備えられた電子顕微鏡（１２）に関する。

9. 发明专利

JP2009140924A Corrector for axial and off-axial beam paths 有权
标题翻译：轴向和离轴光束校正器
公开(公告)号：JP2009140924A
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：JP2008297643
申请日：2008-11-21
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
发明人： ZACH JOACHIM , ROSE HARALD
IPC分类号： H01J37/153
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/26 , H01J2237/1534
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the astigmatism of third-order without introducing disturbing aberrations of higher-order. SOLUTION: The present invention relates to a corrector for the axial and off-axial beam paths of a particle-optical system. The corrector includes a first and a second correction piece, which are disposed one behind the other in the beam path on an optical axis. Each correction piece includes four successive multipole elements disposed symmetrically with respect to a center plane and with the following fields. The first and the fourth multipole elements of the multipole elements are used to generate quadrupole fields and the second and third are used to generate octupole fields and quadrupole fields, wherein the latter are superposed magnetic and electric fields, wherein the quadrupole fields of all four multipole elements are rotated from one to the next through 90°. An astigmatism of third-order is corrected by a central multipole element disposed in the center plane and generating an octupole field. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：消除三阶散光，不引入高阶干扰像差。解决方案：本发明涉及一种用于粒子 - 光学系统的轴向和离轴光束路径的校正器。校正器包括第一和第二校正片，其在光轴上在光束路径中一个接一个地设置。每个校正件包括四个连续的多极元件，其相对于中心平面和随后的场对称设置。多极元件的第一和第四多极元件用于产生四极场，第二和第三多极元件用于产生八极场和四极场，其中后者是叠加的磁场和电场，其中所有四个多极的四极场元件从一个到另一个旋转90°。通过设置在中心平面中的中心多极元件来校正三阶散光并产生八极场。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2007280966A Electrooptic lens system 审中-公开
标题翻译：电光镜系统
公开(公告)号：JP2007280966A
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：JP2007187439
申请日：2007-07-18
申请人： Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハー
发明人： SPEHR RAINER DR
IPC分类号： H01J37/12 , G02B21/00 , H01J37/14 , H01J37/145
CPC分类号： H01J37/145
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lens system with an aperture for an electron beam in an arbitrary length dimension, and forming aplanatic images.
SOLUTION: A cylindrical lens is combined with a magnetic lens with which a quadrupole field can be produced. The lenses are arranged with little or no distance between them and their optical axes run parallel to one another. The quadrupole lens has a slot-shaped aperture which is oriented parallel to an opening of the cylindrical lens. The focusing plane of the quadrupole lens, which surrounds the optical axis, is oriented parallel to the longitudinal axes of the aperture and its defocusing plane perpendicular to the longitudinal axes. The refractive power of the cylindrical lens can be set at twice that of the quadrupole lens.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有任意长度尺寸的电子束孔径的透镜系统，并形成平面图像。解决方案：一个柱面透镜与可以产生四极场的磁性透镜组合。这些透镜被布置成它们之间很少或没有距离，并且它们的光轴彼此平行地延伸。四极透镜具有平行于柱面透镜的开口定向的槽形孔。围绕光轴的四极透镜的聚焦平面平行于孔的纵向轴线及其垂直于纵向轴线的散焦平面定向。柱面透镜的屈光度可以设定为四极透镜的屈光度的两倍。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式