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1. 发明专利

JP2015509662A 光学系の少なくとも１つの欠陥を補償する方法及び装置有权
标题翻译：用于补偿光学系统中的至少一个缺陷的方法和装置
公开(公告)号：JP2015509662A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：JP2014558009
申请日：2012-02-21
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド , カールツァイスエスエムエスリミテッド , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ウラジミールドミトリエフ , ウラジミールドミトリエフ , インゴゼンガー , インゴゼンガー , フランクシュレゼナー , フランクシュレゼナー , マルクスメンゲル , マルクスメンゲル , ヨハネスルオッフ , ヨハネスルオッフ
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70591 , G01M11/0242 , G02B5/3091 , G02B27/0043 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70566
摘要：本発明は、少なくとも1つの欠陥が少なくとも部分的に補償されるように光学系の少なくとも1つの光学要素内に局所持続性修正配置を導入する段階を含む光学系の少なくとも1つの欠陥を補償する方法に関する。超短レーザパルスを使用して、局所偏光変化を補償するための歪み誘起複屈折を生成し、又は強度変化を補償するための局所散乱分布を生成する。【選択図】図3
摘要翻译：本发明中，用于补偿光学系统中的至少一个缺陷包括引入设置在光学系统的至少一个光学元件内的局部持续修改的步骤，使得至少一个缺陷是至少部分地补偿上。利用超短激光脉冲，以产生应变引起的双折射，以补偿本地偏振变化，或产生局部散射分布以补偿强度变化。点域

2. 发明专利

JP2017517759A 光学構成要素及び／又はウェーハの予め決められた３次元輪郭を発生させる方法及び装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017517759A
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2016559363
申请日：2015-03-24
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド , カールツァイスエスエムエスリミテッド , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ウラディミルドミトリエフ , ウラディミルドミトリエフ , ベルントゲー , ベルントゲー
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G03F1/24 , G03F1/60
CPC分类号： G03F7/70283 , B82Y40/00 , G03F1/60 , G03F1/72 , G03F7/0002 , G03F7/70316 , G03F7/70591 , G21K1/062 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要：本発明は、(a)構成要素及び/又はウェーハの予め決められた3次元輪郭からの現存3次元輪郭の偏差を決定する段階と、(b)予め決められた3次元輪郭からの3次元輪郭の決定された現存偏差を補正するためのレーザパルスを定める1又は2以上のパラメータセットを有する少なくとも1つの3次元レーザパルスの配置を計算する段階と、(c)予め決められた3次元輪郭を発生させるために、計算された少なくとも1つの3次元レーザパルスの配置を構成要素及び/又はウェーハ上に適用する段階とを含む構成要素及び/又はウェーハの予め決められた3次元輪郭を発生させる方法に関する。【選択図】図6

3. 发明专利

JP5684688B2 レーザ補正ツールパラメータを決定する方法及び装置有权
标题翻译：用于确定所述激光矫正工具参数的方法和装置
公开(公告)号：JP5684688B2
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：JP2011230160
申请日：2011-09-30
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド , カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人：ドミトリエフウラディミル , ドミトリエフウラディミル
IPC分类号： G03F1/60 , G03F1/42 , G03F1/68 , G03F1/72 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/60 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/72 , G03F7/0002 , H01S3/0014

4. 发明专利

JP5883249B2 フォトリソグラフィマスクの誤差を補正する方法及び装置有权
标题翻译：用于校正光刻掩模的错误的方法和装置
公开(公告)号：JP5883249B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2011167641
申请日：2011-07-12
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人：ウラディミルドミトリエフ
IPC分类号： G03F1/50 , G03F1/72 , G03F7/20 , G03F1/24
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G03F7/70466 , G03F7/70625

5. 发明专利

JP2020528578A マスクブランクの欠陥を補償する方法及び装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020528578A
公开(公告)日：2020-09-24
申请号：JP2020503924
申请日：2018-07-23
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人：ヴェルテヨアヒム
IPC分类号： G03F1/84 , G03F1/24 , H01L21/66 , G03F1/70
摘要：マスクブランク(800、900、1000)の少なくとも1つの欠陥(820、920、1020)を補償する方法であって、本方法は、(a)マスクブランク(800、900、1000)の少なくとも1つの欠陥(820、920、1020)の位置に関するデータを取得する段階と、(b)マスクブランク(800、900、1000)上に生成されるパターン要素(2470)に関する設計データを取得する段階と、(c)生成されるパターン要素(2470)が設けられたマスクブランク(800、900、1000)を用いてウェーハを露光する時に少なくとも1つの欠陥(820、920、1020)が効果を持たないように生成されるパターン要素(2470)に対して当該欠陥(820、920、1020)が配置されるかを決定する段階と、(d)そうでない場合に、生成されるパターン要素(2470)が設けられたマスクブランク(800、900、1000)を用いてウェーハを露光する時に少なくとも1つの欠陥(820、920、1020)が効果を持たないようにマスクブランク(800、900、1000)上で当該欠陥(820、920、1020)を変位させる段階(2530)とを含む。【選択図】図25

7. 发明专利

JP2016095536A フォトリソグラフィマスクの誤差を補正する方法及び装置有权
标题翻译：用于校正光刻掩模误差的方法和装置
公开(公告)号：JP2016095536A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：JP2016021010
申请日：2016-02-05
申请人：カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人：ウラディミルドミトリエフ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/72
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G03F7/70466 , G03F7/70625
摘要：【課題】フォトリソグラフィマスクの誤差を補正する分野に関する技術を提供する。【解決手段】本発明は、フォトリソグラフィマスクの複数の誤差を補正する方法に関連し、本方法は、フォトリソグラフィマスクの結像変換の第1のパラメータと、フォトリソグラフィマスク上に局所的に向けられるレーザビームの第2のパラメータとを最適化する段階と、最適化された第1のパラメータを用いて結像変換を適用し、かつ最適化された第2のパラメータを用いてレーザビームをフォトリソグラフィマスク上に局所的に向けることによって複数の誤差を補正する段階とを含み、第1及び第2のパラメータは、共同の最適化工程において同時に最適化される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供与光刻掩模的误差校正有关的技术。解决方案：一种用于校正光刻掩模的多个误差的方法，包括优化光刻掩模的成像变换的第一参数和第二参数局部地定向到光刻掩模上的激光束，并且通过使用优化的第一参数应用成像变换并且使用优化的第二参数将激光束局部地引导到光刻掩模上来校正多个误差，其中第一和第二参数被同时优化在联合优化过程中。选择图：图1

8. 发明专利

JP2012088712A Method and device for determining laser correction tool parameter 有权
标题翻译：用于确定激光校正工具参数的方法和装置
公开(公告)号：JP2012088712A
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：JP2011230160
申请日：2011-09-30
申请人： Carl Zeiss Sms Ltd , カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人： VLADIMIR DMITRIEV
IPC分类号： G03F1/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/60 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/72 , G03F7/0002 , H01S3/0014
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for determining a laser correction tool parameter.SOLUTION: A method of determining at least one unknown laser beam parameter of a laser beam which is used to correct an error of a transmissive material includes the stages of: inducing a first persistent correction of a material through interaction with a laser beam having a first set of laser beam parameters; measuring the first persistent correction of the induced material; calculating a second persistent correction of the material using a model representing a persistent correction of the material using a second set of laser beam parameters when the first set of laser beam parameters includes the second set of laser beam parameters and at least one unknown laser beam parameter; setting a target functional including the first persistent correction and second persistent correction; and determining the at least one unknown laser beam parameter by minimizing the target functional.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于确定激光校正工具参数的技术。解决方案：确定用于校正透射材料的误差的激光束的至少一个未知激光束参数的方法包括以下阶段：通过与激光束的相互作用来诱导材料的第一持续校正具有第一组激光束参数; 测量诱导材料的第一次持续校正; 当所述第一组激光束参数包括所述第二组激光束参数和至少一个未知激光束参数时，使用表示所述材料的持续校正的模型来计算所述材料的第二持续校正，所述第二组激光束参数 ; 设置包括第一持续校正和第二持续校正的目标功能; 以及通过使目标功能最小化来确定所述至少一个未知激光束参数。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2012022323A Method and apparatus for correcting error of photolithographic mask 有权
标题翻译：用于校正光刻掩模误差的方法和装置
公开(公告)号：JP2012022323A
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：JP2011167641
申请日：2011-07-12
申请人： Carl Zeiss Sms Ltd , カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人： VLADIMIR DMITRIEV
IPC分类号： G03F1/72 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G03F7/70466 , G03F7/70625
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique relating to the field of correcting errors of a photolithographic mask.SOLUTION: A method for correcting a plurality of errors of a photolithographic mask comprises: a step of optimizing first parameters of an imaging transformation of the photolithographic mask and second parameters of a laser beam locally directed onto the photolithographic mask and; a step of correcting the plurality of errors by applying an imaging transformation using the optimized first parameters and locally directing the laser beam onto the photolithographic mask using the optimized second parameters, wherein the first and the second parameters are simultaneously optimized in a joint optimization process.

10. 发明专利

JP5821100B2 フォトリソグラフィマスクによって処理されるウェーハ上の誤差を補正する方法及び装置有权
标题翻译：用于在晶片上校正误差的方法和装置通过光刻掩模被处理
公开(公告)号：JP5821100B2
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：JP2013543632
申请日：2011-12-02
申请人：カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハー , カールツァイスエスエムエスリミテッド
发明人：バイアーディルク , ドミトリエフウラジミール , シャロニオフィア , ワーツマンナダフ
IPC分类号： G03F1/84 , G03F9/00 , G03F1/72
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G03F7/70466 , G03F7/70625 , G03F7/70633

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