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1. 发明专利

JP2016509566A 再帰反射性に優れた高屈折率のガラスビード及びその製造方法审中-公开
标题翻译：玻璃珠和制造具有优异的后向反射的高折射率的方法
公开(公告)号：JP2016509566A
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：JP2015552577
申请日：2014-01-09
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd. , オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd.
发明人：リュ・ヘヨン , チョ・ソンジェ
IPC分类号： C03C12/02 , C03B19/10 , G02B1/00 , G02B5/128
CPC分类号： C03C12/02 , C03B19/102 , C03C3/062 , C03C3/064 , C03C3/127 , C03C3/14 , C03C3/145 , C03C3/155 , G02B5/126 , Y10T428/2982
摘要：本発明は、再帰反射性ガラスビードに関し、TiO2、BaO、La2O及びBi2O3からなる群から選択された1種以上の高屈折酸化物;及び、MgO、CaO、ZnO、ZrO2、Al2O3、K2O、Na2O、Li2O及びSrOからなる群から選択された1種以上の添加剤;を含むことを特徴とし、本発明によると、光学特性による再帰反射性に優れながらも、単純な構造によって耐久性及び生産性に優れ、化学的安定性が高くて様々な色にも製造され得るガラスビードを利用することができ、従って、本発明に係るガラスビードを含む再帰反射性集合体は、雨天や乾燥等の様々な状況でも視認性が非常に高い。また、前記ガラスビードの製造方法は、生産原価を減らすことができ、かつ生産性に顕著に優れている。【選択図】図3
摘要翻译：本发明涉及回射玻璃珠，二氧化钛，的BaO，La2O和选自的Bi O3的组中选择的一种或多种高折射率氧化物;以及，氧化镁，氧化钙，氧化锌，氧化锆，氧化铝，K 2 O，的Na 2 O，选自Li 2 O和SrO的组中选择的一种或多种添加剂;其特征在于它包括，根据本发明，当回射优良光学性能，耐久性和生产率结构简单优异，高化学稳定性，也可以利用其可以以各种颜色，因此产生玻璃珠，回射组件，其包括根据本发明，各种雨或干燥的玻璃珠这是即使在形势相当高的知名度。此外，玻璃珠的制造方法，可降低生产成本，并且在生产率显着优异。点域

2. 发明专利

JP2015037074A 陰極活物質用シリコンスラリー及び炭素—シリコン複合体有权
标题翻译：用于阴极电极活性材料和碳 - 硅复合物的硅浆
公开(公告)号：JP2015037074A
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2014046972
申请日：2014-03-10
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd. , Oci Co Ltd , オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd.
发明人： KIM YO-SEOP , JEONG EUN-HYE , JUNG SUNG-HO , KIM HYUNG-RAK
IPC分类号： H01M4/38 , H01M4/36 , H01M4/587
CPC分类号： H01M4/386 , H01M4/0404 , H01M4/0471 , H01M4/13 , H01M4/364 , H01M4/587
摘要：【課題】本発明は、二次電池の容量及び寿命特性を向上させ得る二次電池陰極活物質用シリコンスラリーを提供する。【解決手段】シリコン粒子及び分散媒を含むスラリーであって、前記シリコン粒子の粒子分布で90%累積粒子サイズ分布の粒径をD90とし、50%累積粒子サイズ分布の粒径をD50とするとき、1≦̸D90/D50≦̸2.5で、2nm
摘要翻译：要解决的问题：提供二次电池负极活性物质的硅浆料，其能够提高二次电池的容量和寿命性质。解决方案：二次电池负极活性物质的硅浆料包括：硅颗粒; 和分散剂。假设在硅粒子的粒子分布中，90％的累积粒径分布的粒径为D90，50％的累积粒径分布的粒径为D50，D90，D50满足下列条件：1 ≤D90/D50≤2.5，2

3. 发明专利

JP2014224028A 体積変化を緩和できるＳｉ—ブロック共重合体コア—シェルナノ粒子及びこれを用いたリチウム二次電池用負極活物質有权
标题翻译：硅嵌段共聚物核壳纳米材料用于缓冲体积变化和阳极活性材料用于锂二次电池
公开(公告)号：JP2014224028A
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：JP2014038716
申请日：2014-02-28
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd. , Oci Co Ltd , オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd.
发明人： KIM YO-SEOP , JEONG EUN-HYE , JUNG SUNG-HO , KIM HYUNG-RAK
IPC分类号： C01B33/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08F293/00 , C08J3/20 , H01M4/36 , H01M4/38 , H01M4/587
CPC分类号： H01M4/628 , C08J3/11 , C08J2353/00 , H01M4/0402 , H01M4/0457 , H01M4/0471 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/366 , H01M4/386 , H01M4/602
摘要：【課題】リチウム二次電池の充放電時、Siによる体積変化を緩和できる膜を分散及びコーティング工程中に形成するためのものであって、本発明は、Siコア;及びSiとの親和度が高いブロック及びSiとの親和度が低いブロックを含み、前記Siコアを中心に球状のミセル(micelle)構造を形成するブロック共重合体シェル;を含むSi—ブロック共重合体コア—シェルナノ粒子及びこれを用いたリチウム二次電池用負極活物質を提供する。【解決手段】Siコア;及びSiとの親和度が高いブロック及びSiとの親和度が低いブロックを含み、前記Siコアを中心に球状のミセル構造を形成するブロック共重合体シェル;を含むSi—ブロック共重合体コア—シェルナノ粒子を構成する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在分散和涂布步骤中在锂二次电池充放电期间形成膜以缓冲由于Si引起的体积变化的硅嵌段共聚物核 - 壳纳米颗粒，其包括： Si核; 以及包含对Si具有高亲和力的嵌段的嵌段共聚物壳和对Si具有低亲和性并在Si芯周围形成球形胶束结构的嵌段，以及提供使用其的锂二次电池的负极活性材料。构建了一种Si-嵌段共聚物核 - 壳纳米颗粒，其包括：Si核; 以及包含对Si具有高亲和力的嵌段的嵌段共聚物壳和对Si具有低亲和力并在Si核周围形成球形胶束结构的嵌段。

4. 发明专利

JP2017511295A 粒子の大きさの均一度を向上させた連続式窒化珪素の製造装置及び製造方法有权
公开(公告)号：JP2017511295A
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016562851
申请日：2015-04-13
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd. , オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd.
发明人：ク・チェホン , チョン・ヨンクォン , キム・シンア , チ・ウンオク
IPC分类号： C01B21/068
CPC分类号： C01B21/068
摘要：【課題】連続式工程を通して窒化珪素を製造することができる製造装置及び製造方法を提供すること。【解決手段】本発明は、横方向に配列された円筒状を有し、四塩化珪素(SiCl4)ガスとアンモニア(NH3)ガスをそれぞれのノズルを通して水平方向に供給を受けて、生成物のシリコンジイミド(Si(NH)2)と副産物の塩化アンモニウム(NH4Cl)を製造する合成反応器;前記合成反応器から前記生成物と前記副産物の混合粉末の供給を受けて第1領域で塩化アンモニウムを熱分解し、第2領域でシリコンジイミドを熱分解して非晶質塩化珪素を生成するが、前記第1領域と前記第2領域が連続に連結されて形成された熱分解反応器;及び前記熱分解反応器から排出される非晶質窒化珪素を1200〜1700℃温度で加熱して結晶型窒化珪素(Crystal Si3N4)に結晶化する結晶化反応器;を含む連続式窒化珪素の製造装置を提供する。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2015535802A トリアルコキシシランを用いたモノシランの製造方法有权
标题翻译：制造单硅烷与三烷氧基硅烷的方法
公开(公告)号：JP2015535802A
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：JP2015535561
申请日：2013-10-02
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッド , オーシーアイカンパニーリミテッド , インスティテュートオブイオン‐プラズマアンドレーザーテクノロジーズ , インスティテュートオブイオン‐プラズマアンドレーザーテクノロジーズ
发明人：キム・テッチュン , キム・ヨンイル , キム・キョンヨル , キム・ドギュン , カタム・アシュロフ , シャヴカト・サリクフ , ヴラディミル・ロシュティン , キカヤ・アシュロバ , アジズ・クルバノフ , イルヤス・アドビサイドフ , スルタン・アジゾフ , ルスタム・アシュロフ
IPC分类号： C01B33/04
CPC分类号： C01B33/043 , B01J23/72
摘要：【課題】トリアルコキシシランを用いて高純度と高収率でモノシランを製造することにより、薄い半導体構造の組成および多目的の高純度多結晶シリコンに有用なモノシランを経済的に製造する方法を提供すること。【解決手段】(a)液状溶剤環境内でシリコン粒子の大きさが30μmないし100μmになるまで湿式粉砕工程を行うステップ;(b)前記(a)ステップから得た粉砕されたシリコンと溶剤を含む懸濁液を連続して反応器に入れ、銅基盤の触媒を使用して前記の粉砕されたシリコンと無水エチルアルコールを反応させてトリエトキシシランとテトラエトキシシランのアルコキシシランを合成するステップ;および(c)収得されたトリエトキシシランに対して、ナトリウムエトキシド(sodium ethoxide)を触媒として使用してモノシランガスを合成するステップ;を含むモノシランの製造方法。【選択図】図1
摘要翻译：阿通过使用三烷氧基硅烷制备高纯度和高产率的单硅烷为在组成和多用途薄的半导体结构的高纯度多晶硅经济地生产有用的甲硅烷的方法它。（A）的尺寸在液体溶剂环境第一步硅颗粒进行湿法研磨过程，直到不为30μm变为100微米;包括粉碎的硅和从步骤（b）得到的溶剂（a）中将悬浮液连续地加入到反应器中，使用铜基底的催化剂的工序中反应研磨硅和无水乙醇所述合成的烷氧基硅烷三乙氧基硅烷和四乙氧基硅烷;和（C）相对于修德是三乙氧基硅烷，通过使用乙醇钠（乙醇钠）作为催化剂合成甲硅烷气体的步骤;制造方法包括甲硅烷。点域1

6. 发明专利

JP2015059271A 表面品質に優れた多段階金属複合体の製造方法有权
标题翻译：制备具有超级表面质量的多金属复合材料体的方法
公开(公告)号：JP2015059271A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：JP2014188539
申请日：2014-09-17
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd. , Oci Co Ltd , オーシーアイカンパニーリミテッドOCI Company Ltd.
发明人： KIM KI-HOON , KANG SUNG-KOO , OH MIN-KYUNG , KIM HYUNG-RAK
IPC分类号： C23C18/44
CPC分类号： C23C18/44 , C23C18/1635 , C23C18/1651 , C23C18/166 , C23C28/023 , Y10T428/12028
摘要：【課題】低価金属の溶融抑制を通じて低価金属—コア/貴金属—シェル間の密着度を向上させ、表面品質及び分散性に優れた多段階金属複合体の製造方法を提供する。【解決手段】第1の金属の還元電位より高い還元電位を有する第2の金属を前記第1の金属粒子の表面にコーティングする方法において、a)第1の金属を含む粒子と還元剤が混合された第1の混合溶液に、第2の金属を含む前駆体と錯化剤が混合された第2の混合溶液を添加し、前記第1の金属粒子の表面に前記第2の金属の1次コーティング層を形成するステップ;及びb)前記第2の金属のコーティング層が形成された前記第1の金属粒子を含む前記a)ステップの最終混合物に、前記第2の金属を含む前駆体と前記錯化剤が混合された第3の混合溶液を添加し、再び第1の金属粒子の表面に前記第2の金属の2次コーティング層を形成するステップ;を含む多段階金属複合体の製造方法を構成する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供通过低价金属的熔融抑制来提高低价金属芯和贵金属壳之间的粘附程度而具有优异表面质量和分散性的多步金属复合体的制造方法解决方案：在制造多步金属复合体的方法中，用具有比第一金属的还原电位高的还原电位的第二金属涂覆第一金属颗粒的表面的方法包括以下步骤：a）将第二金属的表面上的第二金属的涂层添加到第一混合溶液中，第二混合溶液将包含第二金属和络合剂的前体彼此混合，还原剂彼此混合; 以及b）通过将第三混合溶液加入到第一金属颗粒的表面上再次形成第二金属的第二涂层，其中将包含第二金属和络合剂的前体彼此混合到得到的最终混合物中步骤a）包括其上形成有第二金属的涂层的第一金属颗粒。

7. 发明专利

JP2020120109A シリコン基板エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020120109A
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：JP2020002723
申请日：2020-01-10
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッド , OCI Company Ltd.
发明人：ユ・ホソン , キム・ミョンヒョン , イ・ジュンウン , チャン・ピョンファ
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/308
摘要：【課題】シリコン酸化膜に対するエッチング速度を低くし、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。【解決手段】シリコン基板エッチング溶液は、溶液中のシラン化合物(シリコン)の濃度を調節することにより、シラン化合物(シリコン)窒化膜をエッチングする際、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。【選択図】なし

8. 发明专利

JP2020004965A シリコン基板エッチング溶液审中-公开
公开(公告)号：JP2020004965A
公开(公告)日：2020-01-09
申请号：JP2019116521
申请日：2019-06-24
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッド , OCI Company Ltd.
发明人：ユ・ホソン , ムン・ヨンスン , イ・ジュンウン , チャン・ピョンファ
IPC分类号： H01L21/308 , H01L21/306
摘要：【課題】本発明は、シリコン添加剤を使用することにより、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対する選択比を上げることができるシリコン基板エッチング溶液を提供することを目的とする。また、本発明は、高温安全性の高いシリコン添加剤を使用することで、高温でシリコン添加剤が分解されて変色することを防止できるシリコン基板エッチング溶液を提供することを目的とする。【解決手段】リン酸及び所定の第1の化学式(明細書中の化1)及び所定の第2の化学式(明細書中の化2)で表される化合物のうち少なくとも一つを含むシリコン添加剤を含むシリコン基板エッチング溶液が提供される。【選択図】なし

9. 发明专利

JP6283123B2 粒子の大きさの均一度を向上させた連続式窒化珪素の製造装置及び製造方法有权
公开(公告)号：JP6283123B2
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：JP2016562851
申请日：2015-04-13
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッド , OCI Company Ltd.
发明人：ク・チェホン , チョン・ヨンクォン , キム・シンア , チ・ウンオク
IPC分类号： C01B21/068
CPC分类号： C01B21/068

10. 发明专利

JP2016121061A 黄リンの精製方法有权
标题翻译：净化黄磷的方法
公开(公告)号：JP2016121061A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：JP2015241460
申请日：2015-12-10
申请人：オーシーアイカンパニーリミテッド , OCI Company Ltd.
发明人：ハン・スンヒョン , チャン・ウク , イ・ヨニ
IPC分类号： C01B25/047
CPC分类号： C01B25/047
摘要：【課題】リン酸の原料である黄リンからアンチモン、鉄、アルミニウムなどの金属不純物を効果的に除去すること。【解決手段】黄リンに酸化剤を入れ攪拌して黄リンから不純物を除去する段階と、前記不純物が除去された黄リンに化学式構造内の特定の官能基を有する添加剤を含む溶液を入れ攪拌して不純物を除去する段階と、を含むことにより、リン酸の原料として使用される黄リンから不純物を効果的に除去して、リン酸の純度を高める方法。なお、前記酸化剤は、原料黄リンと混合されて酸化力を有することができる物質であり、過酸化水素水、有機系過酸化物、強酸を含むことができる。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：从用作磷酸的原料的黄磷中有效地除去诸如锑，铁和铝的杂质。解决方案：本发明涉及一种有效去除作为原料的黄磷杂质的方法的磷酸，以提高磷酸的纯度，包括以下步骤：通过向黄磷中加入氧化剂从磷酸中除去杂质; 并将包含化学结构中具有特定官能团的添加剂的溶液加入除去杂质的黄磷，然后搅拌。氧化剂是通过与黄磷作为原料混合可以显示其氧化能力的材料，并且可以包括含氧水，有机过氧化物和强酸。选择图：无

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