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81. 发明专利

JP2009137918A Nonionic photosensitive compound, acid generator, resist composition, and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：非光敏化合物，酸发生器，耐蚀组合物和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：JP2009137918A
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：JP2007318941
申请日：2007-12-10
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： UTSUMI YOSHIYUKI , HANEDA HIDEO
IPC分类号： C07D307/33 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new nonionic photosensitive compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator, a resist composition, and a method for forming resist pattern. SOLUTION: The nonionic photosensitive compound has a cyclic group containing an ester linkage in the cyclic skeleton in the structure. The acid generator comprises the above nonionic photosensitive compound. The resist composition comprises (A) a base component exhibiting the solubility into an alkaline developing solution which changes by the action of an acid and (B) an acid generator component which generates an acid by the irradiation with a radial ray, wherein the component B includes, in its structure, an acid generator (B1) comprising a nonionic photosensitive compound having a cyclic group containing an ester bond in the ring skeleton. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供用作抗蚀剂组合物的酸发生剂，酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法的新型非离子光敏化合物。解决方案：非离子光敏化合物在结构中具有在环状骨架中含有酯键的环状基团。酸产生剂包含上述非离子型光敏化合物。抗蚀剂组合物包含（A）显示出对通过酸的作用而变化的碱性显影液的溶解度的碱成分和（B）通过放射线照射产生酸的酸产生剂成分，其中，组分B 在其结构中包括在环骨架中包含具有含有酯键的环状基团的非离子光敏化合物的酸发生剂（B1）。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

82. 发明专利

JP2017081990A 化合物有权
公开(公告)号：JP2017081990A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2017004431
申请日：2017-01-13
申请人：東京応化工業株式会社 , Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
发明人： TAKAGI DAICHI , SHIONO HIROHISA , UTSUMI YOSHIYUKI , KAIHO TAKAAKI
IPC分类号： C07C233/92
摘要：【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(1)’で表される化合物。式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。R1は硫黄原子又は酸素原子である。R2は単結合、−Y21−O−Y22−で表される基、−[Y21−C(=O)−O]m’−Y21−で表される基、−C(=O)−O−Y22−で表される基、又は−Y21−O−C(=O)−Y22−で表される基である。Y21及びY21は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい2価の炭化水素基である。m’は0〜3の整数である。Yはパーフルオロ芳香族炭化水素基である。[化1]【選択図】なし

83. 发明专利

JP2014235248A レジスト組成物、化合物、高分子化合物及びレジストパターン形成方法有权
标题翻译：耐蚀组合物，化合物，聚合物复合材料和电阻图案形成方法
公开(公告)号：JP2014235248A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2013115542
申请日：2013-05-31
申请人：東京応化工業株式会社 , Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
发明人： KOMURO YOSHITAKA , KAIHO TAKAAKI , NAMITO TOSHIAKI , KAWAKAMI AKINARI , TSUCHIYA JUNICHI , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C59/125 , C07C69/14 , C07C69/753 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D307/00 , C07D307/93 , C07D327/04 , C07D493/18 , C08F20/38 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/65 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041
摘要：【課題】レジスト組成物、化合物、高分子化合物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】下記化合物(m0)を含むレジスト組成物。[式(m0)中、Rb1は電子吸引性基であり、Rb2、Rb3はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、アルキル基またはアルケニル基を表し、Rb2とRb3は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。X0−は1価の対アニオンである。][化1]【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供抗蚀剂组合物，化合物，高分子化合物和抗蚀剂图案形成方法。解决方案：抗蚀剂组合物含有化合物（m0）。 [式（m0）中，Rb是吸电子基团; Rband Rbeach独立地表示可以具有取代基的芳基，烷基或烯基; R带Rb可以相互结合形成式中具有硫原子的环; X0为一价抗衡阴离子。]

84. 发明专利

JP2014191061A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2014191061A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013064408
申请日：2013-03-26
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： NAKAMURA TAKESHI , TANNO KAZUISHI , MOTOIKE NAOTO , HIRANO TOMOYUKI , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , G03F7/039
CPC分类号： Y02P20/55
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition from which a resist pattern with decreased roughness can be formed.SOLUTION: The resist composition comprises: a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0) derived from an acrylate in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom at an α-position can be replaced by a substituent, the structural unit having a lactone-containing cyclic group including an electron withdrawing group at a side chain terminal; an acid generator component (B) that generates an acid by exposure; and a photo-disintegrating base (D1) that is decomposed by exposure to lose acid diffusion controllability.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以形成具有降低的粗糙度的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物包含：具有衍生自丙烯酸酯的结构单元（a0）的聚合化合物（A1），其中氢与α-位上的碳原子键合的原子可以被取代基取代，所述结构单元在侧链末端具有含有含有内酯的环状基团，具有吸电子基团; 通过暴露产生酸的酸发生剂组分（B）; 和通过曝光分解的光分解碱（D1），失去酸扩散控制性。

85. 发明专利

JP2014153686A Resist composition, method for forming resist pattern, compound, radical polymerization initiator, production method of compound, and polymer 有权
标题翻译：耐蚀组合物，形成耐蚀图案的方法，化合物，自由基聚合引发剂，化合物的生产方法和聚合物
公开(公告)号：JP2014153686A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：JP2013026074
申请日：2013-02-13
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： DAZAI NAOHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI , TAKAGI DAICHI , KAIHO TAKAAKI
IPC分类号： G03F7/039 , C07C253/30 , C07C255/65 , C08F220/26 , G03F7/038 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition excellent in lithography characteristics and a pattern profile, a polymer useful for the resist composition, and an easy production method for obtaining the polymer.SOLUTION: The resist composition comprises a base component (A) which shows changes in the solubility with a developer by an action of an acid; and the base component (A) comprises a polymer having a group expressed by general formula (I-1) in at least one terminal of the main chain. In formula (I-1), Rrepresents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms; Z represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a cyano group, and Rand Z may be bonded to each other to form a ring; X represents a single bond or a divalent connecting group which may include -O-C(=O)-, -NH-C(=O)- or -NH-C(=NH)-; and Rrepresents a tertiary ester type acid dissociable group having 4 to 20 carbon atoms (excluding a tert-butyl group).
摘要翻译：要解决的问题：提供光刻特性和图案轮廓优异的抗蚀剂组合物，可用于抗蚀剂组合物的聚合物和获得聚合物的容易制备方法。溶胶：抗蚀剂组合物包含基础组分（A）通过酸的作用显示与显影剂的溶解度的变化; 碱性成分（A）在主链的至少一个末端含有具有通式（I-1）表示的基团的聚合物。式（I-1）中，R表示碳原子数1〜10的烃基， Z表示碳原子数1〜10的烃基或氰基，兰可以相互结合形成环， X表示可以包括-O-C（= O） - ， - NH-C（= O） - 或-NH-C（= NH） - ）的单键或二价连接基团。 R表示具有4〜20个碳原子的叔酯型酸解离基（不包括叔丁基）。

86. 发明专利

JP2014130308A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2014130308A
公开(公告)日：2014-07-10
申请号：JP2013041066
申请日：2013-03-01
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： DAZAI NAOHIRO , ARAI MASATOSHI , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which is improved in lithography characteristics by improving solubility in a developer, and to provide a method for forming a resist pattern.SOLUTION: The resist composition, which generates an acid upon exposure and whose solubility in a developer changes by the action of an acid, contains a base component (A) whose solubility in a developer changes by the action of an acid. The base component (A) contains a polymer compound (A1) which has a constituent unit (a0) represented by formula (a0-1), a constituent unit (a2) containing a lactone-containing cyclic group, an -SO--containing cyclic group, or a carbonate-containing cyclic group, and a constituent unit (a1) containing an acid-decomposable group whose polarity increases by the action of an acid. The weight-average molecular weight of the polymer compound (A1) is 6,000 or less.
摘要翻译：要解决的问题：提供通过改善在显影剂中的溶解性而提高光刻特性的抗蚀剂组合物，以及提供形成抗蚀剂图案的方法。溶液：曝光后产生酸的抗蚀剂组合物，其在显影剂通过酸的作用而改变，含有其在显色剂中的溶解度随酸的作用而变化的碱成分（A）。碱成分（A）含有具有由式（a0-1）表示的构成单元（a0）的高分子化合物（A1），含有含内酯的环状基团的构成单元（a2），含有-SO 环状基团或含碳酸酯的环状基团，以及含有通过酸的作用使极性增加的酸分解基团的构成单元（a1）。高分子化合物（A1）的重均分子量为6000以下。

87. 发明专利

JP2014129501A Polymerization method of polymeric compound, resist composition, method for forming resist pattern 有权
标题翻译：聚合化合物的聚合方法，耐蚀组合物，形成耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2014129501A
公开(公告)日：2014-07-10
申请号：JP2013041067
申请日：2013-03-01
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： DAZAI NAOHIRO , ARAI MASATOSHI , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： C08F20/28 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C08F2/06 , C08F220/28 , C08F228/06 , C08F2220/282 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , C08F2220/283 , C08F220/18 , C08F220/38
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerization method of a polymeric compound excellent in lithographic characteristics and useful as a resist composition, and a resist composition using a polymeric compound produced by the above polymerization method, and a method for forming a resist pattern.SOLUTION: The polymerization method of a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0) derived from a compound expressed by general formula (a0-1) below comprises a step of polymerizing the polymeric compound (A1) by using a mixture solvent containing 10 mass% or more of at least one solvent selected from a group consisting of a cyclic ketone solvent, an ester solvent and a lactone solvent. In the formula (a0-1), Rarepresents a monovalent substituent having a polymerizable group; and n is an integer of 0 to 5.
摘要翻译：要解决的问题：提供平版印刷特性优异且用作抗蚀剂组合物的聚合化合物的聚合方法，以及使用通过上述聚合方法制备的聚合化合物的抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。具有由下述通式（a0-1）表示的化合物衍生的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）的聚合方法包括使用含有10 质量％以上的选自环酮溶剂，酯溶剂和内酯溶剂的至少一种溶剂。在式（a0-1）中，Rare表示具有可聚合基团的一价取代基; n为0〜5的整数。

88. 发明专利

JP2014115665A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2014115665A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：JP2014001274
申请日：2014-01-07
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： SESHIMO TAKEHIRO , UTSUMI YOSHIYUKI , KAWAKAMI AKINARI , HANEDA HIDEO , SHIMIZU HIROAKI , NAKAMURA TAKESHI
IPC分类号： G03F7/004 , C07D327/04 , C08F2/50 , C08F220/10 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the above compound, an acid generator, a resist composition, and a method for forming a resist pattern.SOLUTION: A compound expressed by a general formula (I), and a compound expressed by a general formula (b1-1) are disclosed. In the formulae, Qrepresents a divalent linkage group or a single bond; Yrepresents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has a -SO- bond in the cyclic structure thereof; Mrepresents an alkali metal ion; and Arepresents an organic cation.
摘要翻译：要解决的问题：提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新化合物，可用作上述化合物的前体的化合物，酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。解决方案：公开了由通式（I）表示的化合物和由通式（b1-1）表示的化合物。在该式中，Q表示二价连接基团或单键; Y表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; X表示可以具有取代基的具有3〜30个碳原子的环状基团，并且在其环状结构中具有-SO-键; M表示碱金属离子; 并表示有机阳离子。

89. 发明专利

JP2014015433A Production method of ammonium salt compound, production method of compound, compound, polymeric compound, acid generator, resist composition, and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：铵盐化合物的生产方法，化合物，化合物，聚合物，酸发生剂，耐蚀组合物的生产方法和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：JP2014015433A
公开(公告)日：2014-01-30
申请号：JP2012155039
申请日：2012-07-10
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： ARAI MASATOSHI , UTSUMI YOSHIYUKI
IPC分类号： C07C381/12 , C07C303/22 , C07C309/17 , C07D327/04 , C08F20/38 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C209/68 , C07C381/12 , C08F220/22 , C08F220/24 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C07C211/63
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method for obtaining an acid generator with little impurities in a high yield.SOLUTION: A production method of an ammonium salt compound is provided, which comprises allowing a nitrogen-containing compound having a lone electron pair to react with a first ammonium salt compound to produce a second ammonium compound. The first ammonium salt compound includes a primary, secondary or tertiary first ammonium cation, while a conjugate acid of the nitrogen-containing compound has an acid dissociation constant (pKa) larger than that of the above first ammonium cation. A production of a compound is provided, which includes a step of salt exchange between the ammonium salt compound produced by the above method and a sulfonium cation or an iodonium cation having higher hydrophobicity than that of a conjugate acid of the nitrogen-containing compound.
摘要翻译：要解决的问题：提供以高产率获得少量杂质的酸发生剂的制备方法。溶液：提供了一种铵盐化合物的制备方法，其包括使具有单一电子对的含氮化合物与第一种铵盐化合物反应以产生第二种铵化合物。第一种铵盐化合物包括伯，仲或叔一级铵阳离子，而含氮化合物的共轭酸具有比上述第一铵阳离子更大的酸解离常数（pKa）。提供化合物的生产，其包括通过上述方法制备的铵盐化合物与锍阳离子之间的盐交换步骤或具有比含氮化合物的共轭酸更高的疏水性的碘鎓阳离子的步骤。

90. 发明专利

JP2013235115A Resist composition, method for forming resist pattern, and compound 有权
标题翻译：耐蚀组合物，形成耐火图案的方法和化合物
公开(公告)号：JP2013235115A
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：JP2012107031
申请日：2012-05-08
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： UTSUMI YOSHIYUKI , KOMURO YOSHITAKA , HIRANO TOMOYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound which is useful for acid generation in a resist composition, a resist composition containing the compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.SOLUTION: A resist composition includes: a base material component (A) whose solubility in a developing solution changes by the action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure. The acid generator component (B) includes an acid generator (B1) that includes a compound (e.g., the formula (b1-1)) containing, in the same molecule, nitrogen atoms with proton acceptor properties and sites capable of generating an acid upon exposure, the number of the sites being larger than the number of the nitrogen atoms.
摘要翻译：要解决的问题：提供可用于抗蚀剂组合物中的酸产生的化合物，含有该化合物的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。溶胶：抗蚀剂组合物包括：基材在显影液中的溶解度随酸的作用而变化的组分（A）和在曝光时产生酸的酸发生剂组分（B）。酸产生剂组分（B）包括酸产生剂（B1），其包含在相同分子中含有质子受体性质的氮原子和能够产生酸的位置的化合物（例如，式（b1-1））暴露，位点的数量大于氮原子数。

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