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51. 发明专利

JP4782037B2 Method and apparatus for manufacturing a magneto-resistance effect element 有权
公开(公告)号：JP4782037B2
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：JP2007034686
申请日：2007-02-15
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：ジャヤプラウィラダビッド , 大樹前原 , 孝二恒川 , 佳紀永峰
IPC分类号： H01L43/12 , G01R33/09 , G11B5/39 , H01F10/30 , H01L21/8246 , H01L27/105 , H01L43/08 , H01L43/10
CPC分类号： H01L43/08 , C23C14/081 , C23C14/16 , C23C14/568 , H01J37/32458 , H01J37/32633 , H01J37/34 , H01J37/3429 , H01J37/3447 , H01L43/12

52. 发明专利

JP2011179120A Apparatus and method of physical vapor deposition with multi-point clamp 有权
标题翻译：具有多点夹的物理蒸气沉积的装置和方法
公开(公告)号：JP2011179120A
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：JP2011038895
申请日：2011-02-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： BIRKMEYER JEFFREY , LI YOUMING , DEMING STEVE , OTTOSSON MATS G
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/50 , H01J37/32495 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J37/34 , H01J37/3405
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method of physical vapor deposition with a multi-point clamp.
SOLUTION: The physical vapor deposition apparatus includes a vacuum chamber having side walls, a cathode inside the vacuum chamber, wherein the cathode is configured to include a sputtering target, a radio frequency power supply configured to apply power to the cathode, an anode inside and electrically connected to the side walls of the vacuum chamber, a chuck inside and electrically isolated from the side walls of the vacuum chamber, the chuck configured to support a substrate, a clamp configured to hold the substrate to the chuck, wherein the clamp is electrically conductive, and a plurality of conductive electrodes attached to the clamp, each electrode configured to compress when contacted by the substrate.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供具有多点夹具的物理气相沉积的装置和方法。解决方案：物理气相沉积设备包括具有侧壁的真空室，真空室内的阴极，其中阴极被配置为包括溅射靶，被配置为向阴极施加电力的射频电源，阳极内部并电连接到真空室的侧壁，卡盘内部并与真空室的侧壁电隔离，卡盘被配置为支撑基板，夹具构造成将基板保持在卡盘上，其中，夹具是导电的，并且多个导电电极附接到夹具，每个电极构造成在与衬底接触时压缩。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

53. 发明专利

JP2011179119A Apparatus and method of physical vapor deposition with heat diffuser 审中-公开
标题翻译：具有热扩散器的物理蒸气沉积装置和方法
公开(公告)号：JP2011179119A
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：JP2011038894
申请日：2011-02-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： LI YOUMING , BIRKMEYER JEFFREY
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/3407 , C23C14/541 , H01J37/32467 , H01J37/32522 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J37/34 , H01J37/347 , H01J37/3488
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method of physical vapor deposition with a heat diffuser. SOLUTION: The physical vapor deposition apparatus includes a vacuum chamber having side walls, a cathode inside the vacuum chamber, wherein the cathode is configured to include a sputtering target, a radio frequency power supply configured to apply power to the cathode, an anode inside and electrically connected to the side walls of the vacuum chamber, and a chuck 110 inside and electrically isolated from the side walls of the vacuum chamber, the chuck configured to support a substrate 116, and a heater 601 to heat the substrate supported on the chuck. The chuck includes a body 605 and a graphite heat diffuser supported on the body and configured to contact the substrate. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有散热器的物理气相沉积的装置和方法。解决方案：物理气相沉积设备包括具有侧壁的真空室，真空室内的阴极，其中阴极被配置为包括溅射靶，被配置为向阴极施加电力的射频电源，阳极内部并电连接到真空室的侧壁，以及卡盘110，其位于真空室的侧壁内部并与之隔离，卡盘构造成支撑基板116，加热器601加热支撑在基板116上的基板卡盘卡盘包括主体605和支撑在主体上并被配置为接触基板的石墨热散射器。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

54. 发明专利

JP4717186B2 Sputtering device 有权
公开(公告)号：JP4717186B2
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：JP2000223195
申请日：2000-07-25
申请人：株式会社アルバック
发明人：和彦斎藤 , 典明谷 , 紅コウ鄒
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/08 , H01J37/34 , H01L21/203 , H01L21/31
CPC分类号： H01J37/3438 , C23C14/088 , H01J37/34

56. 发明专利

JP4691498B2 Deposition system 有权
公开(公告)号：JP4691498B2
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：JP2006532680
申请日：2005-08-29
申请人：株式会社アルバック
发明人：稔土城 , 秀幸小田木 , 鉄也島田 , 昌弘松本
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/50
CPC分类号： H01J37/34 , C23C14/3464 , C23C14/505 , C23C14/541 , H01J37/32752

57. 发明专利

JPWO2009078094A1 プラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2009078094A1
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：JP2009546108
申请日：2007-12-18
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：池田　真義 , 真義池田 , 田中　洋 , 洋田中 , 勉廣石 , 勉廣石
IPC分类号： H05H1/46 , C23C14/34 , C23C14/35 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/34 , H01J37/32091 , H01J37/3266
摘要：本発明に従ったプラズマ装置は、真空排気可能なチャンバーと、チャンバー内に配置された第1の電極と、第1の電極上に離れて設けられたマグネットを具備する磁石機構と、第1の電極と対向して設けられた第2の電極と、第1の電極と磁石機構との間又は第1の電極と第2の電極との間の少なくとも一方に設けられた磁気遮蔽部材とを備えたことを特徴とする。

58. 发明专利

JP4625787B2 Method of operation of the coating machine and coating machine 有权
公开(公告)号：JP4625787B2
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：JP2006160125
申请日：2006-06-08
申请人：アプライドマテリアルズゲーエムベーハーウントツェーオーカーゲー
发明人：ハイメルオリヴァー
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/35 , H01L21/31
CPC分类号： H01J37/3405 , C23C14/3407 , C23C14/35 , C23C14/564 , H01J37/34 , H01J37/3408

59. 发明专利

JP4619450B2 Vacuum thin-film formation processing equipment 有权
公开(公告)号：JP4619450B2
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：JP2009535932
申请日：2007-10-04
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：貫人中村 , 孝二恒川 , 佳紀永峰
IPC分类号： C23C14/44 , G11B5/39 , H01L43/08 , H01L43/12
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/081 , C23C14/345 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/32706 , H01J37/34 , H01L43/12

60. 发明专利

JP2010219354A Mounting stand structure and plasma film forming device 有权
标题翻译：安装结构和等离子体膜形成装置
公开(公告)号：JP2010219354A
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：JP2009065236
申请日：2009-03-17
申请人： Tokyo Electron Ltd , 東京エレクトロン株式会社
发明人： FUJISATO TOSHIAKI , RONALD NASMAN
IPC分类号： H01L21/683 , C23C14/50
CPC分类号： H01L21/67109 , C23C14/50 , H01J37/34 , H01L21/68785
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting stand structure which is put in a high-vacuum state by sufficiently performing degassing treatment in a treatment container, and has endurance for high temperature. SOLUTION: A mounting stand structure 32 for mounting a work W in order to form a thin film containing metal with respect to the work is provided with: a ceramic mounting stand 38 with an electrode 34 for chucking and a heater 36 embedded inside; a metallic flange 100 connected to the lower surface of a circumferential part of the mounting stand; a metallic base 42 which is joined with the flange by screws 126 and also has cooling passages 40 inside for allowing a cooling medium to flow; and a metallic sealing member 130 held between the flange and the base. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过在处理容器中充分进行脱气处理而处于高真空状态的安装架结构，并且具有耐高温性。
解决方案：用于安装工件W以形成相对于工件的金属薄膜的安装架结构32设置有：具有嵌入的电极34的陶瓷安装架38和嵌入在内部的加热器36 ; 连接到安装台的周向部分的下表面的金属法兰100; 金属底座42，其通过螺钉126与凸缘接合，并且还具有内部的冷却通道40，用于允许冷却介质流动; 以及保持在凸缘和基座之间的金属密封构件130。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

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