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41. 发明专利

JP6942117B2 チャック面から汚染を除去するための方法有权
公开(公告)号：JP6942117B2
公开(公告)日：2021-09-29
申请号：JP2018507639
申请日：2016-08-09
申请人：エムキューブドテクノロジーズ, インコーポレイテッド
发明人：グラトリックス,エドワードジェイ.
IPC分类号： H01L21/677

42. 发明专利

JP2021525960A 基板搬送装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021525960A
公开(公告)日：2021-09-27
申请号：JP2020566636
申请日：2019-05-31
申请人：ブルックスオートメーションインコーポレイテッド
发明人：ビュシエール、クリストファーエー , キャベニー、ロバートティー
IPC分类号： B25J9/06 , H01L21/677
摘要：基板処理装置は、フレームと、フレームに接続される搬送装置とを含む。搬送装置は、アッパーアームリンク、アッパーアームリンクに肘軸の周りで回転可能に連結されるフォアアームリンク、フォアアームリンクに手首軸の周りで回転可能に連結される少なくとも第3アームリンク、および第3アームリンクに指関節軸の周りで回転可能に連結されるエンドエフェクタを有する。2自由度の駆動システムは、エンドエフェクタの伸縮をもたらすために、アッパーアームリンク、フォアアームリンク、および第3アームリンクのうちの少なくとも1つに動作可能に接続され、エンドエフェクタの高さは、エンドエフェクタおよび手首軸の総スタック高さが、スロットバルブの通過口内に適合するようにサイズ決めされるように、手首軸のスタック高さプロファイル以内である。

43. 发明专利

JPWO2020100381A1 基板処理装置及び基板搬送方法有权
公开(公告)号：JPWO2020100381A1
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：JP2019034577
申请日：2019-09-03
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：遠藤栄幾 , 金丸秀忠 , 斉藤泰宏 , 長久保啓一 , 坂本儀秀 , 岩崎智徳
IPC分类号： H01L21/677
摘要：基板処理装置であって、ロードポートと、ロードロック室と、処理モジュールと、基板搬送機構と、制御部と、を有し、基板搬送機構は、複数の基板保持部を有し、各基板保持部は、1つの基板を保持するように構成され、制御部は、処理モジュールが基板を1つずつ処理する場合は、第1の基板保持部はロードポートと処理モジュールとの間で基板を搬送し、第2の基板保持部はロードロック室及び処理モジュールとの間で基板を搬送するように基板搬送機構を制御し、処理モジュールが複数の基板を同時に処理する場合は、複数の基板保持部がロードポート、ロードロック室及び処理モジュールの間で複数の基板を同時に搬送するように基板搬送機構を制御する。

44. 发明专利

JP2021145017A 基板搬送システム、真空基板搬送モジュール、および基板搬送方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021145017A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：JP2020041800
申请日：2020-03-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：網倉紀彦 , 北正知
IPC分类号： H01L21/677
摘要：【課題】基板処理システムの設置面積を削減する。【解決手段】基板搬送システムは、基板処理モジュール、大気基板搬送モジュール、第1の真空基板搬送モジュール、第2の真空基板搬送モジュール、ロードロックモジュール、および真空基板搬送ロボットを備える。第1の真空基板搬送モジュールは、大気基板搬送モジュールおよび基板処理モジュールの隣に配置され、第1の搬送空間を有する。第2の真空基板搬送モジュールは、第1の真空基板搬送モジュールの上または下に配置され、第1の搬送空間と連通する第2の搬送空間を有し、平面視において第1の真空基板搬送モジュールよりも小さい外形寸法を有する。ロードロックモジュールは、大気基板搬送モジュールと第2の真空基板搬送モジュールとの間に配置される。真空基板搬送ロボットは、第1の搬送空間内または第2の搬送空間内に配置され、基板を搬送する。【選択図】図2

45. 发明专利

JP2021141215A 基板処理装置及び基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021141215A
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：JP2020038218
申请日：2020-03-05
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：酒田洋司 , 土山正志 , 渡邊剛史
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：【課題】基板処理装置において高いスループットを得ると共に占有床面積を小さくする【解決手段】第1の基板搬送領域と、第1の基板搬送領域の左右の一方側、他方側に夫々面して設けられる第1の処理モジュール4C、第2の処理モジュール4Dと、第1の基板搬送領域の左右の一方側、他方側に夫々設けられ、第1の処理モジュール4C、第2の処理モジュール4Dに夫々基板Wを受け渡すための第1の搬送機構F1、第2の搬送機構F7と、を備える第1の単位ブロックE1と、第2の基板搬送領域と、第3の搬送機構と、を備え、第1の単位ブロックE1に積層される第2の単位ブロックと、単位ブロックの積層体に対して左右の一方側に設けられ、第1の搬送機構F1、第3の搬送機構に各々基板を受け渡す基板搬入出ブロックD1、D2と、第2の搬送機構F7、第3の搬送機構に各々基板をW受け渡す中継ブロックD4と、備える装置とする。【選択図】図1

46. 发明专利

JP2021141136A 基板搬送システムおよび大気搬送モジュール审中-公开
公开(公告)号：JP2021141136A
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：JP2020035931
申请日：2020-03-03
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：網倉紀彦 , 豊巻俊明
IPC分类号： B65G49/07 , B65G1/00 , B25J13/00 , H01L21/677
摘要：【課題】基板処理システムの設置面積を削減する。【解決手段】基板搬送システムは、第1の側壁と第1の側壁の反対側にある第2の側壁とを有する大気搬送モジュールと、第1の側壁に取り付けられたロードロックモジュールと、記第2の側壁に取り付けられたロードポートと、大気搬送モジュール内に設けられた基板搬送ロボットとを備える。基板搬送ロボットは、基台と、基板搬送アームと、整流部とを有する。基台は、第1の側壁に沿って往復移動する。基板搬送アームは、基台上に設けられている。整流部は、基台を取り囲み、基台が移動する際に、基台の移動方向と反対方向に対して斜め下の方向への空気の流れを作る。【選択図】図5

47. 发明专利

JP2021524668A ワークの半導体層の一面をエッチングするための装置及び方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021524668A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020564481
申请日：2019-05-06
申请人：ネックスヴァーフェ・ゲー・エム・ベー・ハー , NEXWAFE GMBH
发明人：レーバー,シュテファン , シリンガー,カイ , ライヒハルト,ベンヤミン , ミレンコヴィッチ,ネーナ
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/677 , H01L21/3063
摘要：本発明は、ワークの半導体層の一面をエッチングするための装置に関し、当該装置は電解質を収容するための少なくとも一つのエッチングタンクと、使用時に当該エッチングタンク内に位置する当該電解質の電気接触のために配置される第一の電極と、当該半導体層の直接又は間接的な電気接触のために配置される、少なくとも一つの第二の電極と、エッチング電流を生成するために当該第一の電極と当該第二の電極とに対して導電性を有するように連結されている、少なくとも一つの電源と、さらには当該半導体層のエッチングされるエッチング面が使用時に当該エッチングタンク内に位置する当該電解質によって湿潤可能であるように当該ワークを当該エッチングタンクに対して搬送するための少なくとも一つの搬送装置と、を有する。本発明は、当該搬送装置が当該ワークのための陰圧保持要素を有し、当該陰圧保持要素は、当該ワークの当該エッチング面と反対側の保持面において当該ワークを配置するために陰圧が形成されており、当該第二の電極は当該ワークが当該陰圧保持要素に配置された場合、当該第二の電極によって当該ワークの当該保持面の接触が生じるように当該陰圧保持要素に配置されていることを特徴とする。さらに本発明は、ワークの半導体層の一面をエッチングするための方法に関する。

48. 发明专利

JP2021136407A 搬出方法及び搬出装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021136407A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020034026
申请日：2020-02-28
申请人：株式会社ディスコ
发明人：杉山智瑛
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/301 , H01L21/677
摘要：【課題】搬出時にワークを損傷してしまうおそれを低減することができること。【解決手段】保持テーブルはテープを介してワークを保持する保持面を含む保持部と、保持部の外周側でテープを吸引保持する吸引部と、吸引部の外周側でフレームを支持する支持面を含むフレーム支持部と、を備える。搬出方法は、吸引部の外周側のテープを保持テーブルに密着させて、保持面と吸引部とを包含する閉鎖空間を形成するテープ密着ステップ1001と、テープ密着ステップ1001を実施し閉鎖空間を形成した状態で吸引部から気体を噴射し気体をテープと保持面の間に進入させてテープの保持面への貼り付きを解除する吸引保持解除ステップ1002と、吸引保持解除ステップ1002を実施した後、フレームの支持面への密着を解除して保持テーブル上からワークユニットを搬出する搬出ステップ1003とを備える。【選択図】図9

49. 发明专利

JP2021136359A 部品運搬装置および処理システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021136359A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020032566
申请日：2020-02-28
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：茂山和基 , 永関一也 , 松田俊也
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/31 , H01L21/677
摘要：【課題】消耗部品の交換を容易にする。【解決手段】消耗部品を運搬する部品運搬装置であって、部品収容部と、容器と、ロボットアームと、移動機構とを備える。部品収容部は、使用前の消耗部品および使用後の消耗部品を収容する。容器は、処理装置に接続される開口部と開口部を開閉するゲートバルブとを有し、部品収容部を収容する。ロボットアームは、容器内に設けられ、先端にエンドエフェクタを有し、処理装置から開口部を介して使用後の消耗部品を搬出して部品収容部内に収容し、使用前の消耗部品を部品収容部から取り出して開口部を介して処理装置内に搬入する。移動機構は、動力源を有し、部品運搬装置を移動させる。【選択図】図9

50. 发明专利

JP6933269B2 搬送車有权
公开(公告)号：JP6933269B2
公开(公告)日：2021-09-08
申请号：JP2019567894
申请日：2018-12-07
申请人：村田機械株式会社
发明人：小林誠
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677 , B61B3/02

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