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31. 发明专利

JP2015532769A プラズマを加速及び圧縮する装置有权
标题翻译：一种用于加速和压缩所述等离子体
公开(公告)号：JP2015532769A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015528820
申请日：2013-08-29
申请人：ジェネラルフュージョンインコーポレイテッド , ジェネラルフュージョンインコーポレイテッド
发明人：ミシェルジーラバージュ , ミシェルジーラバージュ , メリットレイノルズ , メリットレイノルズ
IPC分类号： H05H1/54
CPC分类号： H05H1/54 , G21B1/00 , G21B1/15 , G21B3/00 , H05H1/105 , H05H1/16 , Y02E30/122 , Y02E30/16 , Y02E30/18
摘要：プラズマ加速及び圧縮デバイスの例を説明する。デバイスは、加速器の入口から延びる高圧縮漏斗区画と、漏斗区画の端部から加速器の出口まで延びることができる高圧縮漏斗区画に接続された細長い区画とを有するプラズマ加速器を含む。漏斗区画は、急勾配のテーパ付きで円錐形にすることができるが、細長い区画は、出口の方向にその長さに沿って軽いなだらかなテーパを有することができる。デバイスは、電流パルスを加速器に提供し、押し込み磁束を発生させて加速器全体を通してプラズマトーラスを加速かつ圧縮するための電源を含む。電流パルスは、細長い区画の出口でのプラズマトーラスの背後の電流パルスが、細長い区画の第1の端部における電流パルスよりも有意に小さいが、細長い区画の出口でのプラズマトーラスの圧力が、細長い区画の開始時のプラズマトーラスの圧力よりも大きいように成形することができる。【選択図】図2
摘要翻译：示出等离子体加速和压缩装置的一个例子。装置包括从所述加速器的入口延伸高压缩漏斗部，具有一个细长的部分，并连接到高压缩漏斗隔室中的等离子体加速器可从漏斗部的端部延伸至所述加速器的出口。漏斗隔室可以是圆锥形带有锥度陡的，细长的隔室可具有沿其在所述出口的方向上长度的打火机缓坡的锥部。装置提供电流脉冲至所述加速器，包括：用于通过产生推助熔剂，以加速和整个加速器压缩等离子体环面的电源。电流脉冲，在细长室的出口处的等离子体环面的后面的电流脉冲，但比在细长室的所述第一端的电流脉冲少显著，等离子体环面的长形隔室的出口处的压力，细长它可以被模制为比等离子体环面的在所述分区的开始的压力大。 .The

32. 发明专利

JP5790990B2 ターゲット有权
标题翻译：目标
公开(公告)号：JP5790990B2
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：JP2011114577
申请日：2011-05-23
申请人：スズキ株式会社
发明人：石田英伸
IPC分类号： G21B1/15
CPC分类号： Y02E30/16

33. 发明专利

JP5629089B2 核融合ターゲット材、核融合装置、及び核融合方法有权
标题翻译：聚变靶材料，核聚变装置，以及核聚变方法
公开(公告)号：JP5629089B2
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：JP2009285383
申请日：2009-12-16
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , 学校法人光産業創成大学院大学 , 株式会社豊田中央研究所 , トヨタ自動車株式会社
发明人：尊史関根 , 尊史関根 , 利幸川嶋 , 利幸川嶋 , 菅　博文 , 博文菅 , 北川　米喜 , 米喜北川 , 芳孝森 , 芳孝森 , 東　博純 , 博純東 , 日置　辰視 , 辰視日置 , 元廣　友美 , 友美元廣 , 康司宮本 , 康司宮本 , 中村　直樹 , 直樹中村
IPC分类号： G21B1/03
CPC分类号： H05H6/00 , G21B1/19 , G21B3/006 , Y02E30/16

34. 发明专利

JP5527536B2 Laser fusion device 有权
公开(公告)号：JP5527536B2
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：JP2010143762
申请日：2010-06-24
申请人：スズキ株式会社
发明人：英伸石田
IPC分类号： G21B1/03 , G21B1/15
CPC分类号： Y02E30/14 , Y02E30/16

35. 发明专利

JP4081029B2 Fusion target and nuclear fusion ignition method 有权
公开(公告)号：JP4081029B2
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：JP2004052164
申请日：2004-02-26
申请人：匡且村上 , 浜松ホトニクス株式会社
发明人：匡且村上 , 博文菅
IPC分类号： G21B1/03 , G21B1/15 , G21B1/00
CPC分类号： Y02E30/14 , Y02E30/16

36. 发明专利

JPS57119906A Formation of smooth film on substrate 失效
标题翻译：在基底上形成平滑膜
公开(公告)号：JPS57119906A
公开(公告)日：1982-07-26
申请号：JP677381
申请日：1981-01-19
申请人： Daikin Ind Ltd
发明人： YAMANAKA CHIYOE , IEDA MASAYUKI , ISHIBASHI SHINTAROU , MORITA SHINZOU , FUJII TSUNEO
IPC分类号： C08F2/00 , C08F2/52 , C08F20/00 , C08F20/10 , C08F20/22 , C08F120/10 , C08F120/12 , C08F120/22 , G21B1/15
CPC分类号： Y02E30/16
摘要： PURPOSE: To form a smooth, homogeneous and comparatively thick film on a substrate, by carrying out a plasma plymn. of(fluoro)-alkyl (meth)acrylate on the substrate.
CONSTITUTION: A spherical, planar or fibrous substrate of metal, glass or resin is laid between two parallel plate electrodes provided in a reaction tube. Next the tube is evacuated to 10W10
-4 Torr and an inert gas (e.g. Ar) flow of 0.1W 100cm
3 STP/min is allowed to flow therethrough. Moreover 0.5W50% of said inert gas of (fluoro)alkyl (meth)acrylate is passed through the tube at 0W200°C in a 0.1W100MHz high-frequency electric field to carry out the plasma polymn. on the substrate with the glow discharge by 1W500W discharge power to form the film.
EFFECT: It is possible to form a homogeneous film of thickness 30W100μm and smoothness 0.1μm with a rate of 6μm/hr.
COPYRIGHT: (C)1982,JPO&Japio
摘要翻译：目的：通过进行等离子体层叠，在基板上形成平滑，均质和比较厚的膜。的（氟）烷基（甲基）丙烯酸酯。构成：将金属，玻璃或树脂的球形，平面或纤维基材铺设在设置在反应管中的两个平行板电极之间。接下来将管抽真空至10-10-4乇，允许0.1至100cm 3 STP / min的惰性气体（例如Ar）流过其中。此外，在0.1〜100MHz的高频电场中，0.5〜50％的（氟）（甲基）丙烯酸烷基酯惰性气体在0-200℃下通过管，以进行等离子体聚合。在衬底上用辉光放电1-500W放电电力形成膜。效果：可以以6mum / hr的速度形成厚度为30-100μm，平滑度为0.1μm的均匀的膜。

37. 发明专利

JPS5165296A Netsukakunenryoperetsuto oyobi sonoseizohoho 失效
公开(公告)号：JPS5165296A
公开(公告)日：1976-06-05
申请号：JP13778074
申请日：1974-12-03
申请人： Kms Fusion Inc
发明人： ROBAATO JERERU TEITERU , DEIBITSUDO YUUJIN SOROMON
IPC分类号： G21B1/15 , G21B1/00
CPC分类号： Y02E30/16

38. 发明专利

JP2018501468A 中性ビーム注入器のための光子中性化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018501468A
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：JP2017526672
申请日：2015-11-18
申请人：トライアルファエナジー, インコーポレイテッド
发明人：ブルダコフ, アレクサンドルヴェー. , イワノフ, アレクサンドルアー. , ポポフ, セルゲイエス.
IPC分类号： G21K1/14 , H05H3/00
CPC分类号： H05H3/02 , G21B1/15 , Y02E30/122 , Y02E30/16
摘要：負イオン系中性ビーム注入器のための非共振型光中性化装置。非共振型光中性化装置は、光子の経路が交絡し、ある空間領域、すなわち、光子トラップ内にトラップされる、非共振型光子蓄積を利用する。トラップは、好ましくは、相互に面した2つの平滑鏡面によって形成され、鏡の少なくとも1つは、凹面である。その最も単純な形態では、トラップは、楕円形である。閉じ込め領域は、両鏡面に共通の法線群近傍の領域である。最近傍共通法線から十分に小さい角偏位を伴う光子は、閉じ込められる。具体的条件に応じて、鏡面の形状は、球状、楕円形、円筒形、またはトロイダル幾何学形状、もしくはそれらの組み合わせのうちの1つであってもよい。

40. 发明专利

JP2015532773A 陰イオンに基づく中性ビーム入射器有权
标题翻译：基于阴离子中性束喷射器
公开(公告)号：JP2015532773A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015530153
申请日：2013-09-04
申请人：トライアルファエナジー, インコーポレイテッド , トライアルファエナジー, インコーポレイテッド
发明人：ユーリイイー．ベルチェンコ， , ユーリイイー．ベルチェンコ， , アレクサンドルヴェー．ブルダコフ， , アレクサンドルヴェー．ブルダコフ， , ウラジミールイー．ダビデンコ， , ウラジミールイー．ダビデンコ， , ゲナディーイー．ディモフ， , ゲナディーイー．ディモフ， , アレクサンドルアー．イワノフ， , アレクサンドルアー．イワノフ， , ワレリヴェー．コベツ， , ワレリヴェー．コベツ， , アルチョームエヌ．スミルノフ， , アルチョームエヌ．スミルノフ， , ミヒルダブリュー．ビンデルバウアー， , ミヒルダブリュー．ビンデルバウアー， , ドナルドエル．セビア， , ドナルドエル．セビア， , テレンスイー．リチャードソン， , テレンスイー．リチャードソン，
IPC分类号： H05H3/06 , G21B1/11 , H05H1/48
CPC分类号： G21B1/15 , Y02E30/16
摘要：陰イオン源、加速器、および中和器を備え、約0.50〜1.0MeVのエネルギーを伴う約5MW中性ビームを発生させる、陰イオンベースの中性ビーム入射器。イオン源によって発生させられるイオンは、プラズマからイオンビームを抽出し、要求されるビームエネルギーのある割合に加速するために使用される、静電多開口グリッド前段加速器によって、高エネルギー加速器内への入射前に事前加速される。イオン源からのビームは、高エネルギー加速器に進入する前に、ビームを軸外にシフトさせる、一対の偏向磁石を通して通過する。フルエネルギーまで加速後、ビームは、中和器に進入し、部分的に、中性ビームに変換される。残りのイオン種は、磁石によって分離され、静電エネルギーコンバータ内に指向される。中性ビームは、ゲート弁を通して通過し、プラズマチャンバに進入する。
摘要翻译：阴离子源，加速器，并且包括中和剂，以产生有关与约0.50〜1.0MeV，阴离子系中性束喷射器的能量5MW中性束。离子由离子源产生的提取从等离子体的离子束，用于加速的速率所需的束能量，静电多孔格的预加速器，入射到高能量加速器中这是预加速前。从离子源，现有进入高能加速器，移光束离轴光束，经过一对弯曲磁体。加速度充分的能量，光束进入中和剂后，部分地，被转换为中性束。由磁体分离剩余的离子物质被引导至静电能量转换器中的。中性束穿过闸阀并进入等离子体室。

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