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1. 发明专利

JP2017167550A 電子写真用部材有权
公开(公告)号：JP2017167550A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2017088057
申请日：2017-04-27
申请人：住友理工株式会社
发明人：今井健太郎 , 林洋介 , 石田政典 , 三隅史雄 , 佐藤正則 , 荒田利彦 , 尾崎敦之
IPC分类号： G03G15/02 , G03G15/16 , G03G15/08 , F16C13/00 , C08F120/22 , C08F120/12 , C08F120/36 , C08F120/10 , G03G15/00
摘要：【課題】表層表面の滑り性およびトナー離型性の両特性を両立させることが可能な電子写真用部材を提供する。【解決手段】電子写真用部材は、電子写真装置に用いられる。電子写真用部材は、表層1を有している。表層1は、表層1の骨格を形成するマトリックスポリマー11と、マトリックスポリマー11中に含有された表面改質剤12とを有している。表面改質剤12は、分子内に、シリコーン基121を有する(メタ)アクリレートに基づく第1重合単位とフッ素含有基122を有する(メタ)アクリレートに基づく第2重合単位とを含む共重合体より構成されている。【選択図】図3

2. 发明专利

JP2017167405A 短距離光信号伝送用グレーデッドインデックス型マルチモードプラスチック光ファイバ审中-公开
公开(公告)号：JP2017167405A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016053926
申请日：2016-03-17
申请人：小池康博
发明人：小池康博
IPC分类号： C08F120/12 , C08F120/22 , C08L33/06 , C08L33/16 , C08K5/03 , C08K5/375 , G02B6/02
摘要：【課題】短距離伝送において戻り光による半導体レーザの発信状態不安定化を抑制できるGI-POF。【解決手段】コアのマトリックスとして、アクリル樹脂のC-H結合を重水素化した材料を用い、ドーパントの添加により屈折率プロファイルを与え、8dB以下の伝送損失を与える長さのGI-POFとする。このGI-POFの反射雑音スペクトルAは、GI-MMFや従来のGI-POFの反射雑音スペクトルB、Cと比べて繰り返し変動の程度が穏やかであり、戻り光によるレーザ発信状態不安定化が抑制されている。【選択図】図5

3. 发明专利

JP5961910B2 リチウム二次電池用負極活物質、リチウム二次電池、リチウム二次電池の製造方法、及び、リチウム二次電池用の負極の製造方法有权
标题翻译：负极活性材料用于可再充电锂电池，制造锂二次电池，锂二次电池的方法，以及一种用于生产负电极的锂二次电池
公开(公告)号：JP5961910B2
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：JP2015511382
申请日：2013-05-28
申请人：エルジー・ケム・リミテッド
发明人：カン、ユーンア , キム、ジェヨウン , キム、キテ , リム、ジンヒョン , ジョン、フーン , キム、キホワン
IPC分类号： H01M4/36 , H01M4/1393 , C08G65/04 , C08F2/00 , C08F120/22 , C08G77/24 , H01M4/587
CPC分类号： H01M4/366 , H01M10/0525 , H01M4/133 , H01M4/587 , H01M4/622 , H01M4/623

4. 发明专利

JPS5514413B2 失效
公开(公告)号：JPS5514413B2
公开(公告)日：1980-04-16
申请号：JP14228277
申请日：1977-11-29
IPC分类号： G03F7/20 , C08F20/00 , C08F20/22 , C08F120/22 , G03F7/038 , H01L21/027 , H01L21/312

5. 发明专利

JP6958362B2 レジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6958362B2
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：JP2017564223
申请日：2017-01-20
申请人：日本ゼオン株式会社
发明人：星野学
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F120/22 , G03F7/32

6. 发明专利

JP5002323B2 Fluorine-containing polymer compound, a positive resist composition for immersion exposure, and a resist pattern forming method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5002323B2
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：JP2007120320
申请日：2007-04-27
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：真樹子入江
IPC分类号： C08L33/16 , C08F120/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F220/22 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： A fluorine-containing polymeric compound obtained by polymerizing only polymerizable monomers represented by general formula (c1-0) shown below: wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents an aliphatic hydrocarbon group substituted with fluorine atoms, or a group in which a plurality of aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted with fluorine atoms are bonded through a linking group containing a hetero atom, with the proviso that at least one of the plurality of aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted with fluorine atoms is an aliphatic hydrocarbon group substituted with fluorine atoms.
摘要翻译：通过仅聚合由下述通式（c1-0）表示的可聚合单体获得的含氟聚合物：其中R1表示氢原子或甲基; R2表示被氟原子取代的脂族烃基，或者可以被氟原子取代的多个脂肪族烃基通过含有杂原子的连接基团键合的基团，条件是所述多个可以被氟原子取代的脂族烃基是被氟原子取代的脂族烃基。

7. 发明专利

JP2010210835A Positive resist composition and resist pattern forming method 有权
标题翻译：积极抵抗组合和阻力图形成方法
公开(公告)号：JP2010210835A
公开(公告)日：2010-09-24
申请号：JP2009055745
申请日：2009-03-09
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： KUROSAWA TSUYOSHI , SHIMIZU HIROAKI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F120/22 , C08F220/38 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive resist composition capable of forming a resist film having a surface having high hydrophobicity, and to provide a resist pattern forming method by use of the positive resist composition. SOLUTION: The positive resist composition contains a high molecular compound (A1) having a constituent unit (aO) containing "cyclic group including -SO 2 -" at a terminal of side chain and a constituent unit (a1) induced from an acrylic ester including an acid dissociative dissolution inhibition group, an acid generator component (B), and a fluorine containing resin component having a group containing the acid dissociative dissolution inhibition group which may have fluorine atoms and a constituent unit (f1) including at least one fluorine atom. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供能够形成具有高疏水性表面的抗蚀剂膜的正性抗蚀剂组合物，并且通过使用正性抗蚀剂组合物提供抗蚀剂图案形成方法。解决方案：正性抗蚀剂组合物含有在侧链末端含有“包含-SO 2 SB 2的环状基团”的构成单元（aO）的高分子化合物（A1）由包含酸解离抑制基团的丙烯酸酯，酸产生剂组分（B）和含有可以具有氟原子的酸解离抑制基团的基团的含氟树脂组分诱导的单元（a1）和构成单元（f1），包含至少一个氟原子。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2008274143A Fluorine-containing polymeric compound, positive resist composition for use in liquid immersion exposure and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：含氟聚合物，用于液体浸渍曝光的正极性组合物和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：JP2008274143A
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：JP2007120320
申请日：2007-04-27
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： IRIE MAKIKO
IPC分类号： C08F120/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F220/22 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluorine-containing polymeric compound suitable for a positive resist composition which is hydrophobic and becomes hydrophilic after exposure and heating, and thus, is suitable for use in liquid immersion exposure, and has good lithographic property, as well as to provide the resist composition including the fluorine-containing polymeric compound, and a method for forming a resist pattern. SOLUTION: This fluorine-containing polymeric compound is prepared by polymerizing ethyl(meth)acrylate only, in which an R 2 O group is substituted on the first position of an ethyl alcohol residue and R 2 is an aliphatic hydrocarbon group substituted by a fluorine atom, or a group in which a plurality of the aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted by the fluorine atom are bound via a linking group having a heteroatom. As for R 2 , when a plurality of the aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted by the fluorine atom are bound via the linking group having the heteroatom, at least one of the aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted by the fluorine atom is an aliphatic hydrocarbon group substituted by the fluorine atom. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种适用于在曝光和加热之后是疏水性并变得亲水的正性抗蚀剂组合物的含氟聚合物，因此适用于浸液曝光，并具有良好的平版印刷性能以及提供包含含氟聚合物的抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。解决方案：该含氟聚合物通过仅在乙醇残基的第一位置上聚合（甲基）丙烯酸乙酯，其中R 2 SP 2 O基团被取代， SP> 2 是被氟原子取代的脂肪族烃基，或者可以被氟原子取代的多个脂肪族烃基经由具有杂原子的连接基团结合的基团。对于R 2 ，当可以被氟原子取代的多个脂族烃基通过具有杂原子的连接基团连接时，可以被取代的至少一个脂族烃基氟原子是被氟原子取代的脂肪族烃基。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JPWO2017130873A1 レジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017130873A1
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2017002032
申请日：2017-01-20
申请人：日本ゼオン株式会社
发明人：星野学
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F120/22 , G03F7/32
CPC分类号： C08F212/14 , C08F222/18 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要：本発明は、主鎖切断型のポジ型レジストとして使用した際にレジストパターンの倒れの発生を抑制することができる重合体を含むレジスト組成物を用いて、レジストパターンを効率的に形成することを目的とする。本発明のレジストパターン形成方法は、下記の一般式(I)で表される単量体単位(A)および一般式(II)で表される単量体単位(B)を有し、単量体単位(A)および単量体単位(B)の少なくとも一方がフッ素原子を一つ以上有する重合体を含む、ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程と、露光工程と、現像工程と、を含み、現像を、表面張力が17mN/m超24mN/m以下の現像液を用いて行うことを特徴とする。 [化1]

10. 发明专利

JP5765230B2 含フッ素化合物および含フッ素重合体有权
标题翻译：含氟化合物和含氟聚合物
公开(公告)号：JP5765230B2
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2011538525
申请日：2010-11-02
申请人：旭硝子株式会社
发明人：星野泰輝
IPC分类号： C08F120/22 , C07C69/653
CPC分类号： C07C69/653 , C07C69/65 , C08F120/22 , C08F220/22

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