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    • 32. 发明专利
    • 接合体及び接合体の製造方法
    • 结合和制造方法
    • JP2016074587A
    • 2016-05-12
    • JP2015196359
    • 2015-10-02
    • 日本碍子株式会社
    • 泉 有仁枝小林 義政
    • C04B37/02
    • H01B5/002C04B37/023C04B38/0019H01B1/04H01B1/08H01B13/0016C04B2111/00793C04B2237/123C04B2237/124
    • 【課題】2つの部材をより簡素に、より信頼性を高めて接合する。 【解決手段】接合体20は、第1部材21と、第1部材21よりも熱膨張係数の大きい第2部材22と、遷移金属の金属とこの遷移金属の酸化物との混合層33を少なくとも一部に含み第1部材21と第2部材22とを接合する接合部30とを備えている。接合部30は、第1部材21から第2部材22にかけて、遷移金属の第1酸化物を含む第1層31と、第1酸化物に比して遷移金属の価数が低い第2酸化物を含む第2層32と、遷移金属の金属とこの遷移金属の酸化物との混合層33とが層状に形成されていることが好ましい。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:更简单地增加可靠性来共轭两个构件。解决方案:共轭物20具有第一构件21,具有比第一构件21的热膨胀系数大的热膨胀系数的第二构件22和包含混合 过渡金属的层33和过渡金属的氧化物至少作为一部分并且共轭第一构件21和第二构件22.缀合物30优选地具有包含过渡金属的第一氧化物的第一层31,第二层 32,其含有过渡金属的价态低于第一氧化物的第二氧化物和过渡金属的金属和过渡金属的氧化物的混合层33,其形成在第一构件21和第二构件22上作为层形状 图1
    • 35. 发明专利
    • 銅合金撚線およびその製造方法、自動車用電線
    • 铜合金线及其制造方法,汽车电缆
    • JP2015161013A
    • 2015-09-07
    • JP2014038588
    • 2014-02-28
    • 株式会社オートネットワーク技術研究所住友電装株式会社住友電気工業株式会社
    • 小林 啓之
    • C22C9/04C22C9/00C22C9/02H01B7/00H01B13/00H01B1/02H01B5/08C22F1/08
    • B21C1/02B21C1/003B60R16/02C22C9/00C22F1/08H01B1/026H01B13/0016H01B13/02
    • 【課題】撚線加工時における断線回数を抑制可能であり、良好な強度と伸びとを有する銅合金撚線の製造方法、また、撚線加工に起因する断線が少なく、強度および伸びの良好な銅合金撚線を提供する。 【解決手段】Fe、Ti、Sn、Ag、Mg、Zn、Cr、および、Pからなる群より選択される少なくとも1種の添加元素を合計で1.0質量%以上2.0質量%以下含有し、残部がCuおよび不可避不純物からなる化学成分組成を有する鋳造材を形成する。鋳造材に塑性加工を施して展伸材を形成する。展伸材に伸線加工を施して中間線材を形成する。中間線材に焼鈍を施す。焼鈍が施された中間線材に対し、冷間加工度が77%以上99%未満の範囲となるように伸線加工を施して単線材を形成する。単線材を複数本撚り合わせて撚線材を形成し、撚線材に熱処理を施す。これにより銅合金撚線を得る。 【選択図】なし
    • 要解决的问题:提供一种铜合金绞线的制造方法,其能够在双绞线加工中减少线扣的频率,并且具有良好的强度和延伸性,并且铜合金绞线在线绞线处理中的频率 具有良好的强度和延伸性。解决方案:一种化学成分铸造,其含有选自Fe,Ti,Sn,Ag,Mg,Zn,Cr中的至少一种附加元素和1.0-2.0质量% P,其余为Cu,不可避免的杂质成型。 锻造产品通过给予铸件塑性加工而成型。 通过给出锻造产品拉丝成形中间线材。 线材退火。 通过对退火的中间线材进行拉丝成形,使得冷加工率为77-99%。 扭绞线通过扭转几根单丝成形,并且扭绞线进行热处理。 这样,铜合金绞线就可以了。
    • 38. 发明专利
    • 透明導電性フィルムの製造方法
    • 用于制造透明导电膜的制造方法
    • JPWO2013080995A1
    • 2015-04-27
    • JP2013547181
    • 2012-11-28
    • 日東電工株式会社
    • 基希 拝師基希 拝師祐輔 山本祐輔 山本智剛 梨木智剛 梨木和明 佐々和明 佐々
    • H01B13/00B32B7/02B32B37/00
    • H01B13/0036C23C14/086C23C14/35C23C14/5806G06F3/044G06F2203/04103H01B13/0016
    • 光透過性に優れ、且つ比抵抗の小さい透明導電性フィルムの製造方法を開示する。本発明は、フィルム基材と、前記フィルム基材上に形成された結晶化したインジウムスズ酸化物層とを備える透明導電性フィルムの製造方法である。本発明は、インジウムスズ酸化物をターゲット材として用いるスパッタ装置内に、前記フィルム基材を入れ、前記ターゲット材上の水平方向磁場が50mT以上であるマグネトロンスパッタリング法により、前記フィルム基材上に非晶質部分を含むインジウムスズ酸化物を堆積させる工程と、前記非晶質部分を含むインジウムスズ酸化物を堆積する工程の後に、前記非晶質部分を含むインジウムスズ酸化物を加熱処理することによって、前記非晶質部分を含む前記インジウムスズ酸化物を結晶化させて、前記結晶化したインジウムスズ酸化物層を形成する工程とを有する。
    • 优异的光学透明度,并且公开了制备小的透明导电膜的电阻率的方法。 本发明包括的薄膜基板,用于产生具有所述氧化膜基底铟锡的透明导电膜结晶材料层上形成的方法。 本发明涉及一种使用氧化铟锡作为靶材料的溅射装置,将膜放置在由磁控管的靶材料溅射水平磁场的衬底不小于50 mT的,非到膜基材 沉积含有非晶部分的氧化铟锡,所述后通过加热含有非晶部分的氧化铟锡上沉积氧化铟锡含有非晶部分的步骤 和一个步骤,其中含有无定形部分中的所述氧化铟锡结晶化以形成结晶上面提到的铟锡氧化物层。