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32. 发明专利

JP2008537182A Nonaqueous photoresist stripper which inhibit galvanic corrosion 有权
公开(公告)号：JP2008537182A
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：JP2008507660
申请日：2006-03-16
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：誠二稲岡
IPC分类号： G03F7/42 , C11D7/32 , C11D7/50 , H01L21/304
CPC分类号： C11D3/3723 , C11D11/0047 , G03F7/425 , G03F7/426
摘要：本発明のフォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、電子デバイスの表面の異なるタイプの金属の重層構造に使用したときに電気化学的腐食に耐性である、非水性かつ非腐食性の洗浄組成物により提供される。そのような非水性フォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、（ａ）少なくとも１種の極性有機溶媒、（ｂ）少なくとも１個の第一級アミン基および１個またはそれ以上の第二級および／または第三級アミン基の両方を有し、下式［式中、Ｒ
１、Ｒ
２、Ｒ
４およびＲ
５は、Ｈ、ＯＨ、ヒドロキシアルキルおよびアミノアルキル基から独立して選択されてよく；Ｒ
６およびＲ
７は、各々独立してＨまたはアルキル基であり、ｍおよびｎは、各々独立して１またはそれ以上の整数であり、但し、Ｒ
１、Ｒ
２、Ｒ
４およびＲ
５は、少なくとも１個の第一級アミン基および少なくとも１個の第二級または第三級アミン基が化合物中に存在するように選択される］を有する少なくとも１種のジまたはポリアミン、および、（ｃ）８−ヒドロキシキノリンおよびその異性体、ベンゾトリアゾール、カテコール、単糖、並びに、マンニトール、ソルビトール、アラビトール、キシリトール、エリスリトール、アルカンジオールおよびシクロアルカンジオールから選択される多価アルコールから選択される少なくとも１種の腐食阻害剤を含む。
【化１】

33. 发明专利

JP2008535250A Compositions for cleaning photoresist is ion-implanted in the previous step of a wiring 审中-公开
公开(公告)号：JP2008535250A
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：JP2008504081
申请日：2006-03-13
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：ショーン・マイケル・ケイン , スティーブン・エイ・リッピー
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： G03F7/423 , C11D3/3947 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D11/0047 , G03F7/426 , H01L21/31133
摘要：灰化されていないイオン注入されたフォトレジストをウェハ基板から洗浄するための配線の前工程（ＦＥＯＬ）の剥離および洗浄組成物は、ａ）少なくとも１種の有機剥離溶媒、ｂ）フッ化アンモニウム、重フッ化アンモニウムまたはフッ化水素の少なくとも１種からのフッ化物イオン、ｃ）無機または有機酸から選択される少なくとも１種の酸性化剤、および、ｄ）水、を含み、場合により酸化剤も組成物中に存在する。

34. 发明专利

JP2008505814A Apparatus and method for dispensing a high purity material 审中-公开
公开(公告)号：JP2008505814A
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：JP2007520322
申请日：2005-06-15
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：ジェイムズ・ファリーナ
IPC分类号： B65D83/38 , B01J4/00 , B65D83/14
CPC分类号： B65D83/48 , B01L3/00 , B01L3/0293 , B01L2200/16 , B01L2300/049 , B01L2400/0487 , G01N35/1002 , G01N2001/2238
摘要：本発明は、製品の高潔性を維持したまま、圧力容器（１２）から材料（１６）を分配するシステムまたは装置（１０）、および方法に関する。本発明のシステムまたは装置は、圧力容器と、注射器（４２）と、取外し可能なアダプタ（３４）とを備える。圧力容器は、材料を保持し、分配バルブ（２０）を有する。分配バルブ（２０）には、適時に容器から材料を分配するための分配管体またはステム（２６）が設けられている。注射器（４２）には、オン／オフ・ロック機構（４８）が設けられていて、当該ロック機構（４８）に取り付けられたステムまたは管体（５０）を通って、材料が注射器内へ流れ込み、あるいは注射器内から流れ出すことを許容または禁止する。アダプタ（３４）は、注射器のステムを圧力容器の分配バルブのステムに接続して、分配バルブが操作されると、圧力容器から注射器のチャンバ内へ材料が流れることを許容する。

35. 发明专利

JP2007514983A Non-aqueous, non-corrosive microelectronic cleaning composition 有权
公开(公告)号：JP2007514983A
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：JP2006547639
申请日：2005-02-25
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：誠二稲岡
IPC分类号： G03F7/42 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/50 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： G03F7/425 , C23F11/10 , G03F7/426
摘要：本発明のバックエンドフォトレジストストリッパーおよび洗浄組成物は、本質的に銅およびアルミニウムに対して非腐食性であり、少なくとも１種の極性有機溶媒、少なくとも１種のヒドロキシル化有機アミン、および、多数のヒドロキシル官能基を有する腐食阻害化合物（それは、式：
Ｔ
１ −［（ＣＲ
１Ｒ
２）
ｍ −（ＣＲ
３Ｒ
４）
ｎ］
ｐ −（ＣＲ
５Ｒ
６）
ｑ −Ｔ
２
式中、Ｒ
１およびＲ
２の少なくとも一方はＯＨであり、Ｒ
１およびＲ
２の一方がＯＨではない場合、それは、Ｈ、アルキルまたはアルコキシから選択され、ｍは１またはそれ以上の整数であり、Ｒ
３およびＲ
４は、Ｈ、アルキルまたはアルコキシから選択され、ｎは０またはそれ以上の正の整数であり、ｐは１またはそれ以上の整数であり；Ｒ
５およびＲ
６の少なくとも一方はＯＨであり、Ｒ
５およびＲ
６の一方がＯＨではない場合、それは、Ｈ、アルキルまたはアルコキシから選択され、ｑは１またはそれ以上の整数であり；Ｔ
１およびＴ
２は、Ｈ、アルキル、ヒドロキシアルキル、ポリヒドロキシアルキル、アミノアルキル、カルボニルアルキルまたはアミド基から選択されるか、または、Ｔ
１およびＴ
２は、連結して一つの脂肪族の環または縮合環構造から選択される構造を形成している、の化合物である）の少なくとも１種を含み、場合により１種またはそれ以上のヒドロキシル含有共溶媒、芳香環に直接結合した２個またはそれ以上のＯＨ、ＯＲ
６および／またはＳＯ
２Ｒ
６Ｒ
７基（ここで、Ｒ
６、Ｒ
７およびＲ
８は、各々独立して、アルキルおよびアリールからなる群から選択される）を含有する腐食阻害性アリール化合物、金属錯体化剤、異なる金属腐食阻害性化合物および界面活性剤を含む、アミノ酸不含、非水性の組成物により提供される。

36. 发明专利

JP2005227749A Microelectronics cleaning composition containing halogen oxyacid, its salt, and derivative 有权
标题翻译：含有卤素氧化物，其盐和衍生物的微电子清洁组合物
公开(公告)号：JP2005227749A
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：JP2004349905
申请日：2004-12-02
申请人： Mallinckrodt Baker Inc , マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker Inc.
发明人： HSU CHIEN-PIN SHERMAN
IPC分类号： G03F7/32 , B08B3/14 , C11D1/00 , C11D3/395 , C11D7/08 , C11D7/32 , C11D7/50 , C11D7/54 , C11D11/00 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/423 , G03F7/426
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microelectronics cleaning composition for cleaning a microelectronics substrate, particularly a cleaning composition having improved compatibility with microelectronics substrates and and useful to clean those, wherein the microelectronics substrates are characterized by silicon dioxide, high sensitivity low κ and high κ derivatives, and copper, tungsten, tantalum, nickel, gold, cobalt, palladium, platinum, chromium, ruthenium, rhodium, iridium, hafnium, titanium, molybdenum, tin, and other metal coatings as well as an Al or Al (Cu) metal coating and ensure an advanced interconnection technique.
SOLUTION: The microelectronics cleaning composition contains halogen oxyacids, their salts, and derivatives.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于清洁微电子基板的微电子清洁组合物，特别是具有改进的与微电子基板的相容性并且可用于清洁这些基板的清洁组合物，其中微电子基板的特征在于二氧化硅，高灵敏度低 κ和高κ衍生物，以及铜，钨，钽，镍，金，钴，钯，铂，铬，钌，铑，铱，铪，钛，钼，锡等金属涂层以及Al或Al （Cu）金属涂层，确保先进的互连技术。
解决方案：微电子清洁组合物含有卤素含氧酸，其盐和衍生物。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

37. 发明专利

JP4330529B2 Microelectronics cleaning and arc removal composition 有权
公开(公告)号：JP4330529B2
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：JP2004511911
申请日：2003-05-27
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：チェン−ピン・シャーマン・シュ
IPC分类号： G03F7/42 , C11D1/00 , C11D7/50 , C23G1/00 , C23G1/06 , H01L21/027 , H01L21/304 , H05K3/26
CPC分类号： C23G1/061 , C11D11/0047 , G03F7/425 , H05K3/26 , H05K2203/0783 , H05K2203/121 , H05K2203/122

38. 发明专利

JP2009141310A Fluoride-containing photoresist stripper or residue removing cleaning composition containing conjugate oligomeric or polymeric material of alpha-hydroxycarbonyl compound/amine or ammonia reaction 审中-公开
标题翻译：含有氟化物的光催化剂剥离剂或残留物除去含有ALPHA-羟基羰基化合物/胺或氨反应的结合的低聚物或聚合物的清洁组合物
公开(公告)号：JP2009141310A
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：JP2008113551
申请日：2008-04-24
申请人： Mallinckrodt Baker Inc , マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人： INAOKA SEIJI , GEMMILL WILLIAM R
IPC分类号： H01L21/304 , C11D3/04 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D3/37 , C11D3/43 , C11D7/04 , C11D7/22 , C11D7/32 , C11D7/50 , C11D17/08 , G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： C11D7/10 , C11D7/3218 , C11D11/0047 , G03F7/423 , G03F7/425 , H01L21/02057
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide cleaning compositions which are useful to clean microelectronic devices without any significant corrosion of metal and are compatible with ILDs.
SOLUTION: Provided are semi-aqueous cleaning formulations containing: (a) at least one of fluoride compound providing fluoride ions, (b) at least one of "browned" alpha-hydroxycarbonyl compound that is an oligomeric or polymeric conjugate of an alpha-hydroxycarbonyl compound with an amine or an ammonium compound, and (c) water. Such formulations may also comprise other optional components, including (d) at least one of polar, water miscible organic solvent, (e) at least one of metal ion-free base at sufficient amounts to produce a final composition of pH, ≥7, preferably a pH of about 9.5 to about 10.8, and one or more kinds of (f) a polyhydric alcohol and (g) a surfactant.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供清洁组合物，其可用于清洁微电子器件而没有任何明显的金属腐蚀并且与ILD兼容。提供半水性清洁制剂，其包含：（a）提供氟离子的氟化合物中的至少一种，（b）至少一种“褐色”α-羟基羰基化合物，其为低聚或高分子缀合物 α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物，和（c）水。这些制剂还可以包含其它任选的组分，包括（d）至少一种极性的，水可混溶的有机溶剂，（e）至少一种不含金属离子的碱，足以产生最终组成为pH，≥7，优选约9.5至约10.8的pH，以及一种或多种（f）多元醇和（g）表面活性剂。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

39. 发明专利

JP2007503115A Stripping and cleaning compositions for microelectronic 有权
公开(公告)号：JP2007503115A
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：JP2006523855
申请日：2004-07-26
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：カレン・イー・トロバッリ , ショーン・エム・ケイン , ジョゼフ・エム・イラーディ , デイビッド・シー・スキー
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/08 , C11D3/04 , C11D3/06 , C11D3/26 , C11D3/39 , C11D3/43 , C11D7/04 , C11D7/06 , C11D7/32 , C11D11/00 , G03F7/42 , H01L21/00 , H01L21/02
CPC分类号： C11D3/0073 , C11D3/046 , C11D3/30 , C11D7/10 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/02063 , H01L21/02071 , H01L21/6704
摘要：マイクロエレクトロニクスの基板を洗浄するための水性洗浄組成物およびその洗浄組成物の使用方法。それらの組成物は、そのような基板を本質的に完全に洗浄でき、そのような基板の金属要素の金属腐食を本質的にもたらさない。本発明の水性洗浄組成物は、（ａ）水、（ｂ）少なくとも１種のアンモニウムおよび第四級アンモニウムイオン、および（ｃ）少なくとも１種の次亜リン酸（Ｈ
２ＰＯ
２
− ）および／または亜リン酸（ＨＰＯ
３
２− ）イオンを有する。洗浄組成物は、フッ化物イオンを含んでもよい。場合により、組成物は、有機溶媒、酸化剤、界面活性剤、腐食阻害剤および金属錯体化剤などの他の成分を含有してもよい。

40. 发明专利

JP2005529487A Oxidizing agent and microelectronic cleaning compositions containing an organic solvent 有权
公开(公告)号：JP2005529487A
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：JP2004511910
申请日：2003-05-27
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker Inc.
发明人：チェン−ピン・シャーマン・シュ
IPC分类号： C11D1/00 , C11D3/20 , C11D3/24 , C11D3/28 , C11D3/33 , C11D3/34 , C11D3/39 , C11D7/06 , C11D7/26 , C11D7/28 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/50 , C11D11/00 , C23G1/06 , G03F7/42 , H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/311
CPC分类号： C23G1/061 , C11D3/2068 , C11D3/245 , C11D3/28 , C11D3/33 , C11D3/3454 , C11D3/3947 , C11D7/06 , C11D7/261 , C11D7/28 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , C23G1/18 , G03F7/423 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/02071 , H01L21/31133
摘要：二酸化珪素、低κまたは高κの誘電体、および、銅またはアルミニウム金属被覆を有するマイクロエレクトロニクス構造の洗浄に適する洗浄組成物は、酸化剤、並びに、アミド類、スルホン類、スルホレン類、セレノン類および飽和アルコール類から選択される極性有機溶媒、並びに場合により他の成分を含有する。

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