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21. 发明专利

JP5235659B2 Ion gun system, a vapor deposition apparatus, and method of manufacturing the lens 有权
公开(公告)号：JP5235659B2
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：JP2008508576
申请日：2007-03-28
申请人： Hoya株式会社
发明人：幸弘高橋 , 輝文濱本 , 謙一新出
IPC分类号： C23C14/48 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02B1/18
CPC分类号： C23C14/32 , C23C14/0031 , C23C14/0042 , C23C14/221 , C23C14/54 , C23C14/564 , C23C16/30 , G02B1/11 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/302 , H01J37/317 , H01J37/3178 , H01J2237/006 , H01J2237/022

22. 发明专利

JP4864586B2 Vacuum deposition apparatus and a vacuum film formation method 有权
公开(公告)号：JP4864586B2
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：JP2006210129
申请日：2006-08-01
申请人：新明和工業株式会社
发明人：淳平丸山 , 康浩小泉
IPC分类号： C23C14/06 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/26
CPC分类号： C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/266 , G11B11/10582

23. 发明专利

JP2011503358A Zinc plating method and equipment by plasma evaporation 有权
公开(公告)号：JP2011503358A
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：JP2010533547
申请日：2008-11-07
申请人：インダストリアルプラズマサービシーズアンドテクノロジーズ − イーペーエステーゲーエムベーハー
发明人：ファンデンブランデ、ピエール
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/02 , C23C14/14 , C23C14/26
CPC分类号： C23C14/16 , C23C2/003 , C23C2/36 , C23C14/28 , C23C14/32 , C23C14/54 , C23C14/542 , C23C14/562 , H01J37/321 , H01J37/32513 , H01J37/32743 , H01J37/32788 , H01J37/32889 , H01J2237/327 , H01J2237/332 , H01J2237/334
摘要：本発明は、基材が次々と少なくとも１つのプラズマ処理ゾーンを通り搬送される、１つ又は複数の鋼製品を含む連続基材のプラズマ処理用の方法及びシステムであって、処理ゾーン内でプラズマを発生させるための電力が、基材がこのゾーンを通過しているときこの処理ゾーン内に存在する基材の面積に応じて変化することを特徴とする方法及びシステムに関する。

25. 发明专利

JP2010053443A Plasma generating apparatus, deposition apparatus, deposition method, and method of manufacturing display device 有权
标题翻译：等离子体生成装置，沉积装置，沉积方法和制造显示装置的方法
公开(公告)号：JP2010053443A
公开(公告)日：2010-03-11
申请号：JP2009151519
申请日：2009-06-25
申请人： Canon Anelva Corp , キヤノンアネルバ株式会社
发明人： NAKAKAWARA HITOSHI , MORIWAKI TAKAYUKI , SAKAMOTO REIJI , UENO ATSUSHI
IPC分类号： C23C14/32 , H01L21/31 , H05H1/48
CPC分类号： C23C14/32 , C23C14/081 , C23C14/28 , H01J37/32357
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the consumption rate of an insulating tube to elongate the service life of the insulating tube. SOLUTION: A deposition apparatus includes a plasma gun including a hollow cathode which generates a plasma beam into a vacuum chamber including an exhaust system and one or more intermediate electrodes to provide a potential gradient for the plasma beam, a focusing coil which is provided to surround the outer surface of a tube portion of the vacuum chamber located coaxially with the exit portion for outputting the plasma beam from the plasma gun and draws the plasma beam into the vacuum chamber through the tube portion, and a reflected electron feedback electrode which is placed inside the tube portion coaxially with the exit portion of the plasma gun and has a positive polarity. An insulating tube provided on an inner surface portion of the reflected electron feedback electrode which is grounded and has a potential higher than a potential of the hollow cathode is in electrical contact with the intermediate electrode placed closest to the reflected electrode feedback electrode. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了降低绝缘管的消耗率，延长绝缘管的使用寿命。解决方案：沉积设备包括等离子体枪，其包括中空阴极，其将等离子体束产生到包括排气系统和一个或多个中间电极的真空室中，以提供等离子体束的电位梯度，聚焦线圈是设置为围绕与出口部分同轴的真空室的管部分的外表面，用于输出等离子体枪的等离子体束，并通过管部分将等离子体束吸入真空室;以及反射电子反馈电极，与等离子体枪的出口部分同轴放置在管部分内并且具有正极性。设置在被接地且具有高于中空阴极的电位的电位的反射电子反馈电极的内表面部分上的绝缘管与最靠近反射电极反馈电极放置的中间电极电接触。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

26. 发明专利

JP4334723B2 Ion plating film forming apparatus, and an ion plating film forming method. 有权
公开(公告)号：JP4334723B2
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：JP2000078952
申请日：2000-03-21
申请人：新明和工業株式会社
发明人：康浩小泉 , 勲床本 , 功一能勢
IPC分类号： B01J19/08 , C23C14/32 , C23C14/48 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32422 , C23C14/32 , H01J37/32706

27. 发明专利

JPWO2006090806A1 ガリウム含有酸化亜鉛审中-公开
公开(公告)号：JPWO2006090806A1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：JP2007504787
申请日：2006-02-23
申请人：積水化学工業株式会社 , 学校法人高知工科大学
发明人：深谷　重一 , 重一深谷 , 八田　文吾 , 文吾八田 , 山本　哲也 , 哲也山本
IPC分类号： C01G9/00 , C23C14/08 , C23C14/24
CPC分类号： C01G15/00 , C01G9/00 , C23C14/0021 , C23C14/086 , C23C14/32
摘要：本発明は、可視光に対する高い透明性を維持したまま、熱線遮蔽性能を向上させたガリウム含有酸化亜鉛を提供することを目的とする。本発明は、熱線遮蔽機能を有するガリウム含有酸化亜鉛であって、ガリウム含有量が0.25〜25重量%、キャリア電子密度neが2×1020/cm3以上であるガリウム含有酸化亜鉛である。

28. 发明专利

JP2008511434A How to deposit the photocatalytic titanium oxide layer 有权
公开(公告)号：JP2008511434A
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：JP2007529329
申请日：2005-08-24
申请人：フラウンホーファー−ゲゼルシャフトツルフェルデルングデルアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウFraunhofer−Gesellschaft zur Foerderung der angewandten Forschung e.V.
发明人：ツィヴィツキオラフ , メッツナークリストフ , モデストーマス , キルヒホフフォルカー , シェッフェルベルト
IPC分类号： B01J35/02 , B01D53/86 , B01J37/14 , B01J37/34 , C23C14/08 , C23C14/30
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C2217/212 , C03C2217/71 , C03C2218/151 , C23C14/0021 , C23C14/083 , C23C14/32
摘要：本発明は、真空チャンバにおける高レート電子ビーム蒸着によって少なくとも１つの対象上に光触媒性酸化チタン層を析出する方法に関する。この方法においては、真空チャンバ内に酸素含有雰囲気が発生され、主としてＴｉ成分を有する材料が電子ビームを用いて蒸発され、析出がプラズマによって支援され、この際プラズマはカソードとして接続されている蒸発すべき材料の表面における拡散アーク放電により形成され、コーティング速度が少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出中の対象温度が１００℃〜５００℃に維持され、酸化チタン層が結晶性であり、且つ主としてアナターゼ相として析出される。

29. 发明专利

JP3933346B2 Method and apparatus for manufacturing a deposited film using an ion plating 有权
公开(公告)号：JP3933346B2
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：JP14615499
申请日：1999-05-26
申请人：正路朝本
发明人：正路朝本
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/22 , C23C14/24 , C23C14/50 , H01J37/317 , H01J37/32
CPC分类号： C23C14/223 , C23C14/243 , C23C14/32 , C23C14/50 , H01J37/3178 , H01J37/32422

30. 发明专利

JP2007119804A Sheet-like plasma generator, and film deposition apparatus 有权
标题翻译：薄片等离子体发生器和薄膜沉积装置
公开(公告)号：JP2007119804A
公开(公告)日：2007-05-17
申请号：JP2005309810
申请日：2005-10-25
申请人： Canon Anelva Corp , キヤノンアネルバ株式会社
发明人： SAITO TOMOYASU , MORIWAKI TAKAYUKI
IPC分类号： C23C14/24 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/3266 , C23C14/081 , C23C14/32 , H01J37/32357 , H01J37/32623
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sheet-like plasma generator capable of extending a film deposition area, and more uniforming a film thickness distribution, and to provide a film deposition apparatus using the sheet-like plasma generator. SOLUTION: In the sheet-like plasma generator, which plasma beams drawn from a plasma gun by a convergence coil are deformed into a sheet shape by being passed through the magnetic field formed by a sheet magnet consisting of a pair of permanent magnets extending in the direction orthogonal to the advancing direction of the plasma beams and arranged opposite and parallel to each other, the sheet magnet includes at least one sheet magnet in which the intensity of repulsive magnetic field at a part corresponding to the center side of the plasma beams is higher than that in a part corresponding to an outer edge side of the plasma beams. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够延长成膜区域并且使膜厚分布更均匀的片状等离子体发生器，并提供使用片状等离子体发生器的成膜装置。解决方案：在片状等离子体发生器中，通过会聚线圈从等离子体枪抽出的等离子体束通过穿过由一对永磁体构成的片状磁体形成的磁场而变形为片状在与等离子体束的前进方向正交的方向上延伸并且彼此相对且平行地布置，片状磁体包括至少一个片状磁体，其中在与等离子体的中心侧对应的部分处的排斥磁场的强度光束比对应于等离子体束的外边缘侧的部分高。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

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