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21. 发明专利

JP2016168581A 亜酸化窒素ガス分解装置及びその方法审中-公开
标题翻译：硝酸氧化物分解装置及其方法
公开(公告)号：JP2016168581A
公开(公告)日：2016-09-23
申请号：JP2015051653
申请日：2015-03-16
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立大学法人名古屋工業大学
发明人：小池国彦 , 中島健太郎 , 安井晋示
IPC分类号： B01D53/74 , B01D53/56
CPC分类号： Y02C20/10
摘要：【課題】亜酸化窒素ガスを無害化するために亜酸化窒素ガスを完全分解する。【解決手段】処理ガスの入口(1)及び出口(2)を有する筒体(3)の内部を貫通する状態で棒状電極(4)を位置させるとともに、この筒体(3)の外周面を外部電極(5)で被覆し、前記棒状電極(3)の外周部と、筒体(3)の内周部とに誘電体からなる綿状充填材(6)を配置し、対向して位置している内外綿状充填材(6a)(6b)の間に活性炭(8)を充填し、棒状電極(3)と外部電極(5)とにパルス電源装置(9)からのパルス電圧を印加する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供用于使一氧化二氮气体完全分解以使一氧化二氮气体无害化的一氧化二氮气体分解装置。解决方案：条形电极（4）定位成延伸穿过内部的一个具有处理气体的入口（1）和出口（2）的圆筒体（3），圆筒体（3）的外周被外部电极（5）覆盖。所述棒状电极（4）的外周和筒状体（3）的内周配置有由电介质体构成的棉状填充物（6）。定位为彼此相对的内部和外部棉状填充物（6a）和（6b）填充在活性炭（8）之间。来自脉冲电源装置（9）的脉冲电压被施加到棒状电极（4）和外部电极（5）。选择的图示：图1

22. 发明专利

JP6670181B2 水素燃焼装置有权
公开(公告)号：JP6670181B2
公开(公告)日：2020-03-18
申请号：JP2016112493
申请日：2016-06-06
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：佐枝学 , 加藤勇人 , 阿部好伸 , 小池国彦 , 浅井健治 , 川邊光則
IPC分类号： F23D14/20 , F23D14/82 , F23K5/00 , F23Q25/00

23. 发明专利

JP5964182B2 クラスタによる加工方法有权
标题翻译：使用集群加工方法
公开(公告)号：JP5964182B2
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：JP2012189770
申请日：2012-08-30
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立大学法人京都大学
发明人：吉野裕 , 小池国彦 , 妹尾武彦 , 松尾二郎 , 瀬木利夫
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： C23F1/00 , B81C1/00531 , H01L21/02046 , H01L21/3065 , B81C2201/0132

24. 发明专利

JP2016058133A 除電用空気発生装置审中-公开
标题翻译：中和空气发生器
公开(公告)号：JP2016058133A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014180780
申请日：2014-09-05
申请人：岩谷産業株式会社 , ダイダン株式会社
发明人：佐枝学 , 吉岡保 , 小池国彦 , 川邊光則 , 橋本翔 , 田中康信
IPC分类号： H05F3/04
摘要：【課題】処理空間内でも効率よく除電できるようにする。【解決手段】除電処理室(1)に除電用空気を供給する除電用空気供給路(3)に、少なくとも一対の電極装置(6)を供給空気の流線と交差する平面内で間隔を隔てて並設し、一方の電極装置(6)に正電圧を、他方の電極装置(6)に負電圧をそれぞれ作用させて除電用空気を生成し、この生成した除電用空気を除電処理室(1)に搬送供給する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：即使在处理空间中也能高效率地进行中和。解决方案：在中和空气发生器中，至少一对电极装置（6）并排设置在与流动线的供给空气，用于将中和空气供给到中和处理室（1）中的中和空气供给通路（3）中。通过使正电压作用在一个电极装置（6）上并且负极分别作用在另一个电极装置（6）上并产生的中和空气被输送并提供给中和处理室（1）来产生中和空气，图1

25. 发明专利

JP5888908B2 オゾンガスの濃縮方法有权
标题翻译：浓缩臭氧气体的方法
公开(公告)号：JP5888908B2
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2011196920
申请日：2011-09-09
申请人：岩谷産業株式会社
发明人：牧平尚久 , 中村貞紀 , 井上吾一 , 小池国彦
IPC分类号： C01B13/10
CPC分类号： B01D53/047 , C01B13/10 , B01D2253/106 , B01D2256/14 , B01D2259/40007 , B01D2259/40035 , B01D2259/402

26. 发明专利

JP5779321B2 高濃度オゾン水の製造方法及び高濃度オゾン水の製造装置有权
标题翻译：高浓度臭氧水制造方法和高浓度的臭氧水制造装置
公开(公告)号：JP5779321B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2010138935
申请日：2010-06-18
申请人：シャープ株式会社 , 岩谷産業株式会社
发明人：小池国彦 , 中村貞紀 , 牧平尚久 , 泉浩一 , 井上吾一 , 方志教和 , 南朴木孝至
IPC分类号： C01B13/10 , B01F1/00 , B01F5/02 , B01F5/10 , C02F1/78
CPC分类号： C11D7/04 , C01B13/11 , C11D3/3947

27. 发明专利

JP6725911B2 クラスタ噴射式加工方法および装置有权
公开(公告)号：JP6725911B2
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：JP2016169401
申请日：2016-08-31
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立大学法人京都大学
发明人：小池国彦 , 妹尾武彦 , 泉浩一 , 荘所正 , 松尾二郎 , 瀬木利夫
IPC分类号： H01L21/302

28. 发明专利

JP6567844B2 亜酸化窒素ガス分解装置及びその方法有权
公开(公告)号：JP6567844B2
公开(公告)日：2019-08-28
申请号：JP2015051653
申请日：2015-03-16
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立大学法人名古屋工業大学
发明人：小池国彦 , 中島健太郎 , 安井晋示
IPC分类号： B01D53/74 , B01D53/56

29. 发明专利

JP2018160565A ガスクラスター処理装置およびガスクラスター処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018160565A
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：JP2017057086
申请日：2017-03-23
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 岩谷産業株式会社
发明人：土橋和也 , 折居武彦 , 齋藤幸正 , 小池国彦 , 妹尾武彦 , 泉浩一 , 吉野裕 , 荘所正 , 兼平圭太
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】基板にガスクラスターを照射して基板処理を行う際に、短時間でガスクラスターの生成に必要なガス供給圧力に到達させることができ、かつガス供給圧力の制御性が良好な技術を提供する。【解決手段】基板Sにガスクラスターを照射して基板Sに所定の処理を行うガスクラスター処理装置100は、処理容器1と、ガスクラスターを生成するためのガスを供給するガス供給部13と、ガス供給部13から供給されるガスの流量を制御するマスフローコントローラ14と、ガスクラスターを生成するためのガスが所定の供給圧力で供給され、そのガスを真空保持された処理容器内に噴出して断熱膨張によりクラスター化させるクラスターノズル11と、マスフローコントローラ14とクラスターノズル11の間の配管12に設けられ、ガスクラスターを生成するためのガスの供給圧力を制御する、背圧制御器17を有する圧力制御部15とを有する。【選択図】図1

30. 发明专利

JP2018037519A クラスタ噴射式加工方法および装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018037519A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2016169401
申请日：2016-08-31
申请人：岩谷産業株式会社 , 国立大学法人京都大学
发明人：小池国彦 , 妹尾武彦 , 泉浩一 , 荘所正 , 松尾二郎 , 瀬木利夫
IPC分类号： H01L21/302
摘要：【課題】電気的なダメージを与えず、三次元的な複雑形状の加工ができるクラスタ噴射式加工方法を提供する。【解決手段】反応性ガスと上記反応性ガスより低沸点のガスとからなる混合ガスを供給する供給ステップと、上記混合ガスを液化させない範囲の圧力で断熱膨張させながら真空処理室内に噴出させて、電気的に中性な反応性クラスタを生成するクラスタ生成ステップと、上記反応性クラスタを上記真空処理室内の加工対象物に対して噴射して、上記加工対象物に化学的な反応による加工を行う加工ステップとを備え、上記加工ステップは、上記加工対象物に対する上記反応性クラスタ噴射方向が第1の角度となるよう噴射して上記加工対象物を加工する第1の加工と、上記加工対象物に対する上記反応性クラスタ噴射方向が上記第1の角度と異なる第2の角度となるよう噴射して上記加工対象物を加工する第2の加工とを行う。【選択図】図4

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