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21. 发明专利

JP2005289068A Composite material and its producing method 有权
标题翻译：复合材料及其生产方法
公开(公告)号：JP2005289068A
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：JP2005108428
申请日：2005-04-05
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott Ag
发明人： BEHLE STEPHAN , BICKER MATTHIAS
IPC分类号： B32B9/00 , B32B27/06 , C23C16/32 , C23C16/40 , C23C16/511 , C23C16/515 , C23C28/00 , C23C28/04
CPC分类号： C23C16/32 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/511
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite material which consists of a substrate material, especially the substrate material made from plastics, and the coating film prepared on at least one of the surface of this substrate material, and a producing method of this composite material.
SOLUTION: The composite material consists of the substrate material and the coating film comprising an organic gluing layer of silicon oxide on the surface of the substrate material, a tie layer of an organic silicon oxide for the most part on this gluing layer, and the last inorganic barrier layer of a silicon oxide.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种复合材料，其由基材，特别是由塑料制成的基底材料和在该基底材料的至少一个表面上制备的涂膜组成，以及其制造方法这种复合材料。解决方案：复合材料由衬底材料和涂层膜组成，该涂膜在衬底材料的表面上包括氧化硅的有机胶合层，大部分在该胶合层上的有机氧化硅的粘结层，和氧化硅的最后无机阻挡层。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

22. 发明专利

JP2005528782A Connection method of the substrate and the composite element 审中-公开
公开(公告)号：JP2005528782A
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：JP2003585174
申请日：2003-04-15
申请人：ショットアーゲーSchott Ag
发明人：ムント，ディートリッヒ , ライプ，ユルゲン
IPC分类号： G02B3/00 , B81C1/00 , B81C3/00 , C03B19/00 , C03C4/12 , C03C14/00 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C27/02 , C23C14/10 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/3065 , H01L21/312 , H01L21/316 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/768 , H01L23/00 , H01L23/02 , H01L23/10 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L23/48 , H01L23/498 , H01L51/50 , H01L51/52 , H05B33/04 , H05B33/10 , H05B33/24 , H05B33/26 , H05B33/28 , H05K3/28
CPC分类号： C03B19/00 , B81C1/00269 , B81C2203/019 , B81C2203/031 , C03C4/12 , C03C14/006 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C2214/16 , C03C2217/21 , C03C2217/77 , C03C2218/15 , C03C2218/32 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C23C14/10 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L23/10 , H01L23/291 , H01L23/3114 , H01L23/49894 , H01L51/5203 , H01L51/5246 , H01L51/525 , H01L51/5262 , H01L2224/16 , H01L2924/01019 , H01L2924/01027 , H01L2924/01057 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/09701 , H01L2924/10253 , H01L2924/12041 , H01L2924/12044 , H01L2924/3011 , H01L2924/3025 , H05K3/28 , Y02P40/57 , H01L2924/00
摘要：本発明は、コンポジット要素の他に電気、半導体、機械、および／または光学部品を備える基板を結合する方法に関する。方法は、結合する基板に関して実質上材料に依存せず、特に高感度基板に適当であることに加え、他方で同時に高い化学的および物理的安定性を示し、および／または密封空洞を作出する。本発明によって、結合要素の役割をさせるために２枚の基板のうち１枚の上に、特に陽極接合性ガラスからなる昇揚されたフレームを蒸着によって堆積させる。

23. 发明专利

JP2005528780A Method for forming a housing for electronic components and thereby electronic components to be hermetically sealed capsule 审中-公开
公开(公告)号：JP2005528780A
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：JP2003584357
申请日：2003-04-15
申请人：ショットアーゲーSchott Ag
发明人：ムント，ディートリッヒ , ライプ，ユルゲン
IPC分类号： G02B3/00 , B81C1/00 , B81C3/00 , C03B19/00 , C03C4/12 , C03C14/00 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C27/02 , C23C14/10 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/3065 , H01L21/312 , H01L21/316 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/768 , H01L23/00 , H01L23/02 , H01L23/10 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L23/48 , H01L23/498 , H01L51/50 , H01L51/52 , H05B33/04 , H05B33/10 , H05B33/24 , H05B33/26 , H05B33/28 , H05K3/28
CPC分类号： C03B19/00 , B81C1/00269 , B81C2203/019 , B81C2203/031 , C03C4/12 , C03C14/006 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C2214/16 , C03C2217/21 , C03C2218/15 , C03C2218/32 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C23C14/10 , H01L21/02129 , H01L21/02145 , H01L21/02161 , H01L21/02266 , H01L21/31616 , H01L21/31625 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L23/10 , H01L23/291 , H01L23/3114 , H01L23/481 , H01L23/49894 , H01L51/5203 , H01L51/5253 , H01L51/5262 , H01L2224/16 , H01L2924/01012 , H01L2924/01019 , H01L2924/01027 , H01L2924/01057 , H01L2924/01078 , H01L2924/10253 , H01L2924/12041 , H01L2924/12044 , H01L2924/3011 , H05K3/28 , H01L2924/00
摘要：本発明の目的は、水の拡散に対して大いに気密性の電子部品のカプセル封止を３００℃よりも低い、好ましくは１５０℃よりも低い中程度の温度で得ることである。この目的のために、本発明は電子部品、特にセンサ、集積回路および光電子部品のためのハウジングを形成する方法を提供する。この方法は以下の工程、すなわち少なくとも第１の基板側（１ａ）がカプセル封止される基板（１）を供給する工程、蒸着ガラス源（２０）を供給する工程、第１の基板側（１ａ）が蒸着を受けることを可能にするような態様で蒸着ガラス源に相対して第１の基板側（１ａ）を設置する工程、および第１の基板側をガラス層（４）で蒸着する工程からなる。

24. 发明专利

JP2005260225A Method for manufacturing wafer with few surface defects, wafer obtained by said method, and electronic component made of the wafer 有权
标题翻译：用于制造具有较少表面缺陷的波形的方法，由该方法获得的波形和该波形的电子元件
公开(公告)号：JP2005260225A
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：JP2005055622
申请日：2005-03-01
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott AG
发明人： BLAUM PETER , SPEIT BURKHARD , KOEHLER INGO , RUDINGER BERND , BEIER WOLFRAM
IPC分类号： B24B1/00 , B24B37/04 , H01L21/304 , H01S5/02
CPC分类号： B24B37/30 , B24B37/042
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing wafer substrates, which allows semiconductor components of which semiconductor layers have low-level defects at most and which have no pits especially on their surfaces.
SOLUTION: A method for manufacturing wafer substrates comprises: a process (a) of polishing at least one of active surfaces, which is to be coated, of a wafer by using a polishing means including polishing components in order to smooth the at least one of the active surfaces; and a process (b) of changing the polishing direction of a polishing tool which polishes the at least one of the active surfaces so that each area or each position of the at least one of the active surfaces is uniformly polished by polishing action of the polishing tool which covers 360° statistically during polishing operation. To eliminate almost all of the surface defects on the at least one of the active surfaces, the at least one of the active surfaces is coated.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制造晶片基板的方法，其允许半导体层最多具有低水平缺陷并且其表面上没有凹坑的半导体元件。解决方案：一种用于制造晶片衬底的方法包括：通过使用包括抛光组分的抛光装置来抛光晶片的待涂覆的活性表面中的至少一个的工艺（a），以使光滑至少一个活动表面; 以及改变研磨工具的抛光方向的方法（b），抛光工具抛光至少一个活性表面，使得至少一个活性表面的每个区域或每个位置通过抛光的抛光作用被均匀抛光在抛光操作期间统计地覆盖360°的工具。为了消除至少一个活性表面上的几乎所有的表面缺陷，至少一个活性表面被涂覆。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

25. 发明专利

JP2005527459A Method of making a product having a structured surface 审中-公开
公开(公告)号：JP2005527459A
公开(公告)日：2005-09-15
申请号：JP2003583927
申请日：2003-04-15
申请人：ショットアーゲーSchott Ag
发明人：ビーク，フロリアン , ムント，ディートリッヒ , ライプ，ユルゲン
IPC分类号： G02B3/00 , B81C20060101 , B81C1/00 , B81C3/00 , C03B19/00 , C03C4/12 , C03C14/00 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C27/02 , C23C14/10 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/3065 , H01L21/312 , H01L21/316 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/768 , H01L23/00 , H01L23/02 , H01L23/10 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L23/48 , H01L23/498 , H01L51/50 , H01L51/52 , H05B33/04 , H05B33/10 , H05B33/24 , H05B33/26 , H05B33/28 , H05K3/28
CPC分类号： C03B19/00 , B81C1/00269 , B81C2203/019 , B81C2203/031 , C03C4/12 , C03C14/006 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/34 , C03C2214/16 , C03C2217/21 , C03C2217/77 , C03C2218/15 , C03C2218/32 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C23C14/10 , H01L21/02129 , H01L21/02145 , H01L21/02161 , H01L21/02266 , H01L21/31616 , H01L21/31625 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L23/10 , H01L23/291 , H01L23/3114 , H01L23/49894 , H01L51/5203 , H01L51/5246 , H01L51/5262 , H01L2224/16 , H01L2924/01012 , H01L2924/01019 , H01L2924/01027 , H01L2924/01057 , H01L2924/01078 , H01L2924/10253 , H01L2924/12041 , H01L2924/12044 , H01L2924/3011 , H05K3/28 , Y10T428/30 , Y10T428/31 , H01L2924/00
摘要：本発明の目的は、ガラス中またはガラス様の層中に微細構造を作製する方法を提供することである。この目的のために、構造化された表面（２０ａ）を有する補助基板（１０、２０）を使用し、その際、前記表面が、作製すべき製品のネガ鋳型を画定する。補助基板の構造化された表面（２０ａ）上にガラスまたはガラス様材料から作製された層（３０）を気相堆積する。この補助基板を、続いて、たとえば湿式化学的技術を用いて除去し、それによって、ポジ構造を露出させる。本発明により、マイクロチャネル、およびマイクロレンズなどの光学微細構造の優れた作製が可能になる。

26. 发明专利

JP2005239543A METHOD FOR MANUFACTURING LARGE-VOLUME CaF2 SINGLE CRYSTAL FOR OPTICAL ELEMENT WITH OPTICAL AXIS PARALLEL TO (100)-CRYSTAL AXIS OR (110)-CRYSTAL AXIS, AND CaF2 SINGLE CRYSTAL MANUFACTURED BY THE METHOD 审中-公开
标题翻译：用于与（100）晶轴或（110） - 晶轴的光轴平行的光学元件制造大容量CaF 2单晶的方法，以及通过该方法制造的CaF 2单晶
公开(公告)号：JP2005239543A
公开(公告)日：2005-09-08
申请号：JP2005047090
申请日：2005-02-23
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott AG
发明人： STAEBLEIN JOERG , PARTHIER LUTZ
IPC分类号： G02B1/02 , C30B29/12 , C30B33/00 , C30B33/02 , G02B5/30
CPC分类号： C30B33/00 , C30B29/12 , Y10T117/1008 , Y10T117/1016 , Y10T117/1024
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for tempering to obtain a single crystal having excellent optical characteristics such as refractive index uniformity or stress birefringence in a (100) or (110) direction of the single crystal and free from stress in the manufacture of a calcium fluoride single crystal to be used for microlithography at short wavelength of ≤250 nm, preferably ≤193 nm, and to provide a calcium fluoride crystal and an integrated circuit and an electronic device using the above crystal. SOLUTION: The method includes, for the purpose of tempering a crystal, steps of: (a) heating the crystal to 1,000°C to 1,350°C at less than 18 K/h heating rate; (b) holding the crystal at the heating temperature of the step (a) for at least 65 hours to control the temperature difference in the crystal to maximum 0.2K; (c) cooling the crystal to a temperature range above a limiting temperature between 900°C and 600°C at maximum 0.5 K/h cooling rate; and (d) cooling the crystal at maximum 3 K/h cooling rate to a temperature further below the above temperature range. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种回火方法，以获得具有优异的光学特性如单晶的（100）或（110）方向的折射率均匀性或应力双折射并且没有应力的单晶在短波长≤250nm，优选≤193nm下用于微光刻的氟化钙单晶的制造，以及提供氟化钙晶体和集成电路以及使用上述晶体的电子器件。解决方案：为了回火晶体，该方法包括以下步骤：（a）以小于18K / h的加热速率将晶体加热至1,000℃至1350℃; （b）将晶体在步骤（a）的加热温度下保持至少65小时以将晶体中的温度差控制在最大值0.2K; （c）以最高0.5K / h的冷却速度将晶体冷却至高于900℃至600℃的极限温度的温度范围; 和（d）以最高3K / h的冷却速度将晶体冷却至进一步低于上述温度范围的温度。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

27. 发明专利

JP2005239542A Method for producing low stress non-(111) oriented large volume crystal with reduced stress birefringence and homogenous refractive index, and crystal produced by the same 有权
$Method for producing low stress non-(111) oriented large volume crystal with reduced stress birefringence and homogenous refractive index, and crystal produced by the same$
标题翻译：用于生产低应力非（111）方向的大容量晶体的方法，具有减少的应力双相和均匀折射率，以及由其生产的晶体
公开(公告)号：JP2005239542A
公开(公告)日：2005-09-08
申请号：JP2005047083
申请日：2005-02-23
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott AG
发明人： PARTHIER LUTZ , STAEBLEIN JOERG , WEHRHAN GUNTHER , KUSCH CHRISTIAN
IPC分类号： C30B33/02 , C30B29/12 , C30B33/00 , G02B5/30 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , C30B29/12 , C30B33/00 , G02B5/3083
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a crystal having an optical component direction different from (111), in particular, (100) or (110) component direction, and optical quality satisfying current requisites in microlithography at 193 nm or wavelengths shorter than 193 nm by performing tempering at a high temperature in an appropriate oven and/or an apparatus suitable for tempering.
SOLUTION: The method for producing the crystal having a sliding surface with reduced stress birefringence and more homogeneous refractive index, especially the non-(111) oriented low stress, large volume crystal is constituted of a process for growing and tempering the crystal while forming a temperature gradient by performing heating and/or cooling for alleviating stress occurring along the sliding surface. In the tempering, the heating and/or cooling is performed by heat propagation toward a direction of heat propagation. The direction of heat propagation or the temperature gradient is directed at an angle of ≥5° with respect to the sliding surface.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了制造具有不同于（111），特别是（100）或（110）分量方向的光学分量方向的晶体，并且在193nm或更短的波长的微光刻中满足当前要求的光学质量在适当的炉子和/或适于回火的设备中通过在高温下进行回火而超过193nm。解决方案：具有应力双折射降低和折射率更均匀的滑动面的晶体的制造方法，特别是非（111）取向的低应力，大体积的晶体由用于生长和回火晶体的方法同时通过进行加热和/或冷却来减轻沿着滑动面发生的应力而形成温度梯度。在回火中，通过向热传播方向的热传播来进行加热和/或冷却。热传播的方向或温度梯度相对于滑动面指向≥5°的角度。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

28. 发明专利

JP2005525987A Glass melting plant cooled boundary surface that is exposed to a glass melt 有权
公开(公告)号：JP2005525987A
公开(公告)日：2005-09-02
申请号：JP2003571225
申请日：2003-02-27
申请人：ショットアーゲーSchott AG
发明人：シュルトハイス、フェルディナント , ヂュルシュ、ルードヴィッヒ , ブリューニング、ルドルフ
IPC分类号： C03B5/23 , C03B5/20 , C03B5/44 , F27D1/00 , F27D1/12
CPC分类号： C03B5/44 , C03B5/20 , Y02P40/57
摘要：ガラス溶融物の侵食を受ける、ガラス溶融プラントの限界壁、より特定すれば珪酸アルミニウム・ジルコニウムまたは類似材料から成り、前記限界壁の温度を下降させるための冷却装置が装備された通路あるいは壁を提供する。冷却装置は限界壁（２）中の少なくとも一部に配置される。冷却媒体を導くチューブ（９）を収容するため前記限界壁（２）中に内腔（８）が設けられる。ガラス溶融物による限界壁の腐食による除去後であってもガラス溶融物がチューブ（９）上あるいはその直近において凝固するようにチューブ（９）は限界壁中に配置されている。凝固したガラス溶融物は実質的に限界壁（２）の形状及び機能を肩代わりする。

29. 发明专利

JP2005235744A Fresnel lens spotlight for joining and changing spacing of optical element 审中-公开
标题翻译： FRESNEL镜头光束接合和更换光学元件的间距
公开(公告)号：JP2005235744A
公开(公告)日：2005-09-02
申请号：JP2004371770
申请日：2004-12-22
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott Ag
发明人： KITTELMANN RUEDIGER , WAGENER HARRY
IPC分类号： F21L4/00 , F21S2/00 , F21S8/00 , F21S8/10 , F21V3/04 , F21V5/00 , F21V5/04 , F21V7/00 , F21V7/22 , F21V9/08 , F21V14/00 , F21V14/02 , F21V14/06 , F21Y101/00 , G02B3/08
CPC分类号： F21V5/045 , F21L4/005 , F21V3/04 , F21V5/04 , F21V7/0008 , F21V9/08 , F21V14/02 , F21V14/06 , F21W2131/20 , F21W2131/406 , F21Y2115/10 , G02B3/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a Fresnel lens spotlight which is small in size, thereby, is not only space-saving but also light in weight, and in which the aperture angle of the emitting flux of light is variable.
SOLUTION: This is the Fresnel lens spotlight which has preferably an ellipsoidal reflector 1, a lamp 2, and at least one Fresnel lens 3, and in which a lens having a negative focal length and an imaginary focal point F3 is used as a diffusion glass 7.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

30. 发明专利

JP2005220011A Sheet-like glass-ceramic body having at least one matted portion, and method for manufacturing glass-ceramic body of the same kind 审中-公开
标题翻译：具有至少一个相关部分的类似玻璃陶瓷体以及用于制造相同类型的玻璃 - 陶瓷体的方法
公开(公告)号：JP2005220011A
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：JP2005011111
申请日：2005-01-19
申请人： Schott Ag , ショットアーゲーSchott AG
发明人： KOSMAS IOANNIS , WENNEMANN DIETMAR , AAB LAURA , STRIEGLER HARALD
IPC分类号： F24C15/04 , A47J27/00 , C03B19/01 , C03C4/00 , C03C8/02 , C03C10/00 , C03C17/02 , C03C17/04 , C04B41/86 , F24C15/06 , F24C15/10 , H05B3/74
CPC分类号： C03C17/04 , H05B3/748
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sheet-like glass-ceramic body, having at least one matted portion which is formed on the glass-ceramic body without using an expensive or dangerous substance, and which can withstand thermal and mechanical loads even when the glass-ceramic body is used, for example, as a cooking plate.
SOLUTION: The matted portion is formed by forming on a ceramic material a coating of glass having softening points higher than 750°C, which is melted into a matting form on a glass-ceramic material, and having a different refractive index from that of the glass-ceramic material.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

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