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11. 发明专利

JP6220521B2 検査装置有权
公开(公告)号：JP6220521B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2013007793
申请日：2013-01-18
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：小川力 , 廣野方敏 , 井上広
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/9503 , B82Y40/00 , G01N2021/8848

12. 发明专利

JP6065875B2 偏光検査装置有权
标题翻译：偏振测试设备
公开(公告)号：JP6065875B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2014113950
申请日：2014-06-02
申请人：横河電機株式会社
发明人：松本憲典 , 坪田孝志 , 濱口豊明 , 伊藤昭成
IPC分类号： G01N21/21 , G01J4/04 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/21 , G01N21/8422 , G01N21/8851 , G01N21/8901 , G01N2021/8848 , G01N2201/0612 , G01N2201/062

13. 发明专利

JPWO2014098220A1 評価方法及び装置、加工方法、並びに露光システム有权
标题翻译：评价方法和装置，处理方法及曝光系统，
公开(公告)号：JPWO2014098220A1
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2014553218
申请日：2013-12-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：和彦深澤 , 和彦深澤
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/70058 , G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8848 , G03F7/70625 , G03F7/70641
摘要：複数の加工条件のもとでの加工により設けられた構造体を有する基板を用いて、その複数の加工条件のうちの一つの加工条件を高精度に評価する。評価装置1は、第1及び第2露光条件を含む複数の露光条件のもとでの露光により設けられたパターンを有するウェハ10を照明光で照明する照明系20と、ウェハ10の表面から発生する光を検出する受光系30及び撮像部35と、照明条件と検出条件との少なくとも一方が異なる第1回折条件及び第2回折条件のもとで撮像部35により得られた検出結果に基づいて、ウェハ10の露光時のその第1露光条件を推定する演算部50とを備える。
摘要翻译：使用具有由所述处理多个加工条件下提供，以评估所述多个高精度的加工条件的处理条件中的一个的结构的衬底。评价装置1包括：照射系统20，用于与具有通过曝光的多个曝光条件包括所述第一和第二曝光的条件下提供一图案，从晶片10的表面产生的照明光照射晶圆10 光接收系统30以及用于检测光的摄像单元35，基于不同的第一衍射条件和第二衍射条件和作为照明条件的检测条件下由所述成像单元35获得的至少一个的检测结果，以及计算单元50，在晶片10的暴露的时间估计所述第一曝光条件。

14. 发明专利

JP6004008B2 評価方法及び装置、加工方法、並びに露光システム有权
标题翻译：评价方法和装置，处理方法及曝光系统，
公开(公告)号：JP6004008B2
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：JP2014553218
申请日：2013-12-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：深澤和彦
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , G01N2021/8848

15. 发明专利

JP2015102442A 検査装置、及び検査方法有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2015102442A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：JP2013243704
申请日：2013-11-26
申请人：レーザーテック株式会社
发明人：野澤洋人 , 武田訓昌 , 石渡研志 , 坪内隆雅 , 佐藤亮一郎
IPC分类号： G01B11/24 , H01L21/66 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8851 , G06T5/50 , G06T7/0004 , G01N2021/8845 , G01N2021/8848 , G01N2021/9513 , G01N2021/95676 , G01N21/9501 , G06T2207/10152 , G06T2207/30148
摘要：【課題】より正確に検査することができる検査装置、及び検査方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、パターンが設けられた試料を照明する光源10と、光源によって照明された試料30からの光を検出する検出器11と、検出器11によって取得された試料画像の輝度値と、試料30の表面形状又は高さ方向における寸法との相関に基づいて、検査を行う処理装置50とを備えている。処理装置50は、複数の撮像条件で取得した試料画像の輝度値を重み付け加算した加算値に基づいて、検査を行う。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够精确地进行检查的检查装置和检查方法。解决方案：本发明的实施方式的检查装置包括：用于点亮具有图案的样品的光源10; 检测器11，用于检测由光源照亮的样品30的光; 以及处理器50，用于基于由检测器11获取的样本图像的亮度值与样本30的表面形状或高度方向上的尺寸之间的相关性进行检查。处理器50通过对在多个成像条件中获取的样本图像的亮度值进行加权相加，基于加法值来执行检查。

16. 发明专利

JP2015515631A プレストレス板ガラスの気泡構造を測定するための方法および装置审中-公开
标题翻译：用于测量蜂窝结构预应力平板玻璃的方法和装置
公开(公告)号：JP2015515631A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：JP2015507455
申请日：2013-04-10
申请人：サン−ゴバングラスフランスSaint−Gobain Glass France , サン−ゴバングラスフランスSaint−Gobain Glass France
发明人：シュルツファレンティン , シュルツファレンティン , ヘアマンスルッツ , ヘアマンスルッツ , パーペラース , パーペラース , クレーマースシュテファン , クレーマースシュテファン
IPC分类号： G01N21/958 , G01N21/21 , G01N21/88 , G01N21/896
CPC分类号： G01N21/8806 , G01L1/241 , G01N21/896 , G01N21/958 , G01N33/386 , G01N2021/8848
摘要：本発明は、プレストレス板ガラス(1)の気泡構造を測定するための方法に関する。ここでは、少なくとも、(a)前記板ガラス(1)の少なくとも1つの分析領域(4)を、ビーム源(2)の線形偏光された光(5)で、入射角度(&thetas;E)で照射し、さらに、少なくとも1つの検出器(3)によって、少なくとも前記分析領域(4)の画像(6)を観察角度(&thetas;A)で撮影し、(b)前記画像(6)を評価ユニット(7)に供給し、(c)前記評価ユニット(7)によって、(c1)前記画像(6)上の分析線(9)に沿って明度経過(8)を読み出し、(c2)前記明度経過(8)の局部的な極大値(15)と局部的な極小値(16)とを定め、(c3)前記局部的な極大値の明度平均値Mmaxと前記局部的な極小値の明度平均値Mminとの間の差によって、強度指数IBSを定める。
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量预应力玻璃窗（1）的蜂窝结构的方法。这里，至少，（a）所述玻璃板（1）〜（4），一个线性偏振光束源（2）（5）中，入射角的至少一个分析区域;与照射（θ驱动E）进一步，通过至少一个检测器（3），视场角的图像（6）至少在分析区域（4）;具有取（θ驱动一），（b）评价图像（6）单元（7 供给）（由c）中所述评估单元（7），（C1）所读取的图象（6）的分析线（明度沿9经过）（8），（c2）的亮度经过（8 确定的局部极大值（15）的局部最小值和的亮度平均值MMIN（C3）的最大值M最大和局部最小值的局部亮度平均值的（16））通过之间的差，它定义了一个强度指数的IBS。

17. 发明专利

JP2015025956A 円偏光フィルターおよびその応用有权
标题翻译：圆极化滤波器及其应用
公开(公告)号：JP2015025956A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013155587
申请日：2013-07-26
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： ICHIHASHI MITSUYOSHI
IPC分类号： G02B5/30 , F21V33/00
CPC分类号： G01J1/0429 , G01J1/0488 , G01J1/08 , G01N21/23 , G01N21/8422 , G01N21/8806 , G01N21/958 , G01N2021/216 , G01N2021/8848 , G02B5/3016 , G02B5/3083
摘要：【課題】円偏光度の高い円偏光が得られる円偏光フィルターまたは円偏光を利用したセンサーシステムにおいて感度の向上を可能とする円偏光フィルターおよび円偏光を利用したセンサーシステムとして感度の高いシステムを提供する。【解決手段】円偏光分離層(好ましくは、コレステリック液晶相を固定した層または反射型直線偏光子とλ/4位相差層とを含む積層体)を含む円偏光フィルターであって、前記円偏光分離層は特定の波長において右円偏光または左円偏光のいずれか一方を選択的に透過させる層であり、前記円偏光分離層の少なくとも一方の面側に前記の特定の波長域の光に対して透明である透明媒体を有し、前記透明媒体は前記円偏光分離層の前記透明媒体側の面に対し1?〜30?の角度をなす傾斜面を有する円偏光フィルター、および前記円偏光フィルターを利用したセンサーシステム。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种具有高圆偏振度的圆偏振光的圆偏振滤光器，能够提高使用圆偏振光的传感器系统的灵敏度的圆偏振滤光器，以及具有高灵敏度的系统作为传感器系统使用圆偏振光。解决方案：圆偏振滤光器包括圆偏振和分离层（优选包括具有固定的胆甾型液晶相的层或包括反射线性偏振器的层压体和λ/ 4延迟层）。圆偏振分离层选择性地透射规定波长区域的右旋圆偏振光或左旋圆偏振光，并且在其至少一个表面侧上具有对上述规定波长区域中的光透明的透明介质。透明介质具有在透明介质侧上相对于圆形极化和分离层的表面形成1°至30°的角度的倾斜面。使用圆偏振滤光器提供传感器系统。

18. 发明专利

JP2015022192A 検査装置审中-公开
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2015022192A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2013151157
申请日：2013-07-19
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： OGAWA TSUTOMU
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/956 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/21 , G01N2021/217 , G01N2021/4792 , G01N2021/8848 , G01N2021/95676
摘要：【課題】微細なパターンを精度よく、スループットの低下を引き起こさずに検査することができ、さらには、光学解像限界以上のパターンと、光学解像限界以下のパターンとを、1回で検査することのできる検査装置を提供する。【解決手段】マスク1005から結像光学系Bに入射する光のうち、エッジラフネスで散乱した光がセンサ1010に入射するのが防がれるように、2分の1波長板1007の角度を変えると、ショート欠陥やオープン欠陥で散乱した光が、エッジラフネスで散乱した光と分離されて2分の1波長板1007を透過し、センサ1010に入射する。マスク1005で反射したs偏光は、偏光ビームスプリッタ1009でさらに反射されてセンサ1011に入射する。センサ1011で撮像される光学画像は、白部と黒部のコントラストが大きく、光学解像限界以上のパターンの検査に適したものとなる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种检查装置，其能够精确地进行精细图案的检查，而不会降低生产率，并且通过以下方式检查等于或大于光学分辨率极限的图案和等于或小于光学分辨率限度的图案单个检查操作。解决方案：在检查装置中，通过修改半波片1007的角度，使得在从掩模1005进入成像光学系统B的光中，通过边缘粗糙度散射的光的入射到传感器1010 通过短缺陷和开放缺陷散射的光与由边缘粗糙度散射的光分离，然后透过半波片1007，然后进入传感器1010.由掩模1005反射的s偏振光进一步反射在偏振分束器1009中并且进入传感器1011.在传感器1011中成像的光学图像在白色和黑色部分之间是相反的，导致对于等于或大于光学分辨率极限的图案的检查的适用性。

19. 发明专利

JP2014235123A 欠陥検査システム及びフィルムの製造装置有权
标题翻译：缺陷检查系统和电影制造设备
公开(公告)号：JP2014235123A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2013117947
申请日：2013-06-04
申请人：住友化学株式会社 , Sumitomo Chemical Co Ltd
发明人： IMURA KEITA
IPC分类号： G01N21/892 , G01B11/30
CPC分类号： G01N21/896 , G01N21/8422 , G01N2021/8438 , G01N2021/8848
摘要：【課題】キズの検出による虚報欠陥を抑制することが可能な欠陥検査システムを提供する。【解決手段】第1フィルムと、第1フィルムに剥離可能に積層された第2フィルムと、を有する帯状のフィルムの欠陥検査システムであって、第1フィルムと第2フィルムとを貼合してフィルムを形成する貼合ロールと、貼合ロールの下流側においてフィルムが搬送される搬送ラインと、搬送ラインに設けられた欠陥検査装置と、欠陥検査装置よりも下流側の搬送ラインに設けられ、欠陥検査装置によって検出された欠陥に関する欠陥情報を前記フィルムに記録する記録装置と、を含み、欠陥検査装置は、貼合ロール以外で、第2フィルムの第1フィルムとは反対側の面に最初に接するロールよりも上流側の搬送ラインに配置されている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制由于检测到缺陷而引起的假缺陷的缺陷检查系统。解决方案：具有第一膜和第二膜的带状膜的缺陷检查系统层压在第一膜上剥离方式包括：通过层压第一膜和第二膜形成膜的层压辊; 用于在层压辊的下游侧输送膜的输送线; 设置在输送线上的缺陷检查装置; 以及用于记录与由缺陷检查装置检测到的缺陷有关的缺陷信息的记录装置。缺陷检查装置布置在上游侧的传送线上，而不是最初接触与层压辊以外的第二膜的第一膜相反的表面的辊。

20. 发明专利

JP5216752B2 Defect detection methods and defect detection equipment and defect observation device equipped with this 有权
公开(公告)号：JP5216752B2
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：JP2009262445
申请日：2009-11-18
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：祐子大谷 , 武弘立▲崎▼ , 正浩渡辺 , 俊一松本
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/21 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N21/95623 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G01N2201/06113 , G01N2201/063
摘要： The disclosed device, which, using an electron microscope or the like, minutely observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or an optical defect-inspecting device, can reliably insert a defect to be observed into the field of an electron microscope or the like, and can be a device of a smaller scale. The electron microscope, which observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or by an optical defect-inspecting device, has a configuration wherein an optical microscope that re-detects defects is incorporated, and a spatial filter and a distribution polarization element are inserted at the pupil plane when making dark-field observations using this optical microscope. The electron microscope, which observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or an optical defect-inspecting device, has a configuration wherein an optical microscope that re-detects defects is incorporated, and a distribution filter is inserted at the pupil plane when making dark-field observations using this optical microscope.

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