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11. 发明专利

JP2017049614A ターゲット供給装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017049614A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2016233988
申请日：2016-12-01
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：薮隆之 , 中野真生 , 長野仁 , 石原孝信
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要：【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を抑えることで、極端紫外光が集光する位置が変動することにより生じる露光ムラを低減する。【解決手段】ノズル31から出力される液状のターゲット物質である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、ガスボンベ40から供給されるガスをタンク30へ導入するガス流路L1と、ガス流路L1上に配置されてガス流路L1を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器41よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ51と、圧力コントローラ51とタンク30との間のガス流路L1に接続された計測用ガス流路に配置された圧力計53と、タンク30内の溶融錫34の温度を一定に制御するヒータ33とを備え、圧力計53の測定値をもとに圧力コントローラ51を制御する。【選択図】図6

12. 发明专利

JP5964400B2 極端紫外光源装置及びそのターゲット供給システム有权
标题翻译：极端紫外光源设备和目标供给系统
公开(公告)号：JP5964400B2
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：JP2014246178
申请日：2014-12-04
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 渡辺幸雄
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H05G2/00

13. 发明专利

JP2015144140A ターゲット供給装置、その制御システム、その制御装置およびその制御回路有权
标题翻译：目标提供装置，其控制系统，其控制装置及其控制电路
公开(公告)号：JP2015144140A
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：JP2015088743
申请日：2015-04-23
申请人：ギガフォトン株式会社 , CKD株式会社
发明人：石原孝信 , 板藤寛
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
摘要：【課題】ターゲットの無駄な消費を抑えることができるターゲット供給装置を提供する。【解決手段】ノズル31から出力される液状の溶融ターゲット材である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、一端が前記タンク30に接続され、他端が排気口Laを形成するガス流路L2と、ガス流路L2上に設置したバルブ43と、溶融錫34をノズル30から出力させない場合、バルブ43を開にしてタンク30内を減圧するコントローラ60と、を備え、EUV光を出力させない場合、ターゲット13の供給を停止または供給速度を減速することで、溶融錫34の消費を抑える。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制目标的浪费消耗的目标供给装置。解决方案：目标供给装置1控制罐30内的气体压力，用于存储从喷嘴31输出的液体熔融目标材料的熔融锡34 通过从包括压力控制器41的气瓶40供给的气体压力。目标供给装置1包括：气体流路L2，其一端连接到罐30，另一端形成排气孔La; 设置在气体流路L2上的阀43; 以及当熔融锡34不从喷嘴30输出时通过打开阀43来对罐30内部进行减压的控制器60.当不输出EUV灯时，通过停止供给或减少供给来抑制熔融锡34的消耗目标速度13。

14. 发明专利

JP2015133331A ターゲット供給装置、チャンバ装置および極端紫外光生成装置有权
标题翻译：目标供应装置，室外装置和极端超紫外线发光器
公开(公告)号：JP2015133331A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2015076189
申请日：2015-04-02
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：薮隆之 , 中野真生 , 長野仁 , 石原孝信
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要：【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を抑えることで、極端紫外光が集光する位置が変動することにより生じる露光ムラを低減する。【解決手段】ノズル31から出力される液状のターゲット物質である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、前記ガスボンベ40から供給されるガスを前記タンク30へ導入するガス流路L1と、前記ガス流路L1上に配置されてガス流路L1を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器41よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ51と、を備える。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：通过抑制压迫目标物的压力的变化，减少由于聚焦极紫外线的位置的变化而引起的曝光不均匀。解决方案：目标供给装置1通过以下方式控制罐30内的气体压力从包括压力调节器41的气瓶40供给的气体的压力，储存从喷嘴31输出的作为液体目标材料的熔融锡34的罐。目标供给装置1包括：气体通道L1，用于引入从气体供给的气体气缸40进入箱30; 以及设置在气体通道L1上的压力控制器51，以调节流过气体通道L1的气体的压力，并能够以比压力调节器41的精度更高的精度执行压力调节。

15. 发明专利

JP6751163B2 極端紫外光生成装置有权
公开(公告)号：JP6751163B2
公开(公告)日：2020-09-02
申请号：JP2018564080
申请日：2017-01-30
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 西坂敏博 , 白石裕
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20

16. 发明专利

JPWO2018138918A1 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018138918A1
公开(公告)日：2019-11-14
申请号：JP2017003211
申请日：2017-01-30
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 西坂敏博 , 白石裕
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
摘要：本開示の一観点に係る極端紫外光生成装置は、チャンバと、チャンバ内のプラズマ生成領域にターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、ドロップレットの軌道の少なくとも一部の周囲を覆う第1の管であって、軌道方向の上流側端部である第1の端部及び下流側端部である第2の端部の両方が開放された第1の管と、第1の管の少なくとも一部の周囲を覆い、第1の管の少なくとも一部との間に間隙を持って配置された第2の管であって、軌道方向の下流側端部である第3の端部が開放され、第3の端部が第1の管の第2の端部よりもさらに軌道方向の下流側に延出している第2の管と、第1の管と第2の管との間隙に流すガスを供給し、間隙の第2の端部側に開口したガス出口から軌道方向にガスを流出させるガス供給部と、を備える。

17. 发明专利

JPWO2016175031A1 チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成システム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016175031A1
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：JP2017515472
申请日：2016-04-13
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 堀司 , 斎藤隆志 , 白石裕
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/2004 , G03F7/2008 , H05G2/00 , H05G2/008
摘要：本開示の一態様によるチャンバ装置は、チャンバ(2)と、チャンバに組み付けられ、チャンバ内の所定領域へターゲット材料を供給するターゲット生成装置であって、ターゲット材料を貯蔵するタンク部(260)、タンク部内の前記ターゲット材料の温度を変化させる温度可変装置(141)、および、液体状のターゲット材料を出力するノズル孔を含むノズル部(262)を備えるターゲット生成装置と、ガスの導入口がノズル部へ向くように配置されたガスノズル(303)と、少なくともノズル部の周辺に水素を含むガスが供給されるようにガスノズルに水素を含むガスを供給するガス供給源(301)と、チャンバ内における少なくともノズル部周辺の水分を除去する水分除去装置と、を備えてもよい。

18. 发明专利

JP6134130B2 ターゲット生成条件判定装置及びターゲット生成システム有权
公开(公告)号：JP6134130B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2012257635
申请日：2012-11-26
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 阿部保 , 若林理
IPC分类号： H01L21/027 , H05G2/00
CPC分类号： B05B17/06 , B05B12/082 , B05B5/001 , B05B5/035 , G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008

19. 发明专利

JP5984132B2 ターゲット供給装置有权
公开(公告)号：JP5984132B2
公开(公告)日：2016-09-06
申请号：JP2012056342
申请日：2012-03-13
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：石原孝信 , 西坂敏博 , 染谷浩 , 若林理
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B65D47/06 , H05G2/005 , H05G2/006

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