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1. 发明专利

JP6799583B2 極端紫外光生成装置及び極端紫外光の重心位置の制御方法有权
公开(公告)号：JP6799583B2
公开(公告)日：2020-12-16
申请号：JP2018507379
申请日：2017-03-22
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 薮隆之
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20

2. 发明专利

JPWO2017077930A1 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017077930A1
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：JP2016081825
申请日：2016-10-27
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：薮隆之 , 阿部保 , 宮尾憲一 , 阿部徹
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： G21K1/062 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70525 , G03F7/7055 , G03F7/7085 , H05G2/008
摘要：極端紫外光生成装置は、第1のパルスレーザ光と第2のパルスレーザ光とが入射するためのウインドウを有するチャンバと、第1のパルスレーザ光を反射するミラーと、ミラーの位置又は姿勢を制御する第1のアクチュエータと、ミラーによって反射された第1のパルスレーザ光と第2のパルスレーザ光との光路をほぼ一致させて出力するビームコンバイナと、ビームコンバイナから出力された第1のパルスレーザ光及び第2のパルスレーザ光を、所定の領域に向けて出力する反射光学系と、反射光学系の位置又は姿勢を制御する第2のアクチュエータと、第1のパルスレーザ光の所定の領域の近傍における光路位置を検出するための検出データをそれぞれ出力する複数のセンサと、検出データに基づいて、第1のアクチュエータを制御し、第1のアクチュエータの制御値に基づいて、第2のアクチュエータを制御するコントローラと、を備えてもよい。

3. 发明专利

JP6378355B2 極端紫外光生成装置及び極端紫外光の生成方法审中-公开
公开(公告)号：JP6378355B2
公开(公告)日：2018-08-22
申请号：JP2016559727
申请日：2014-11-18
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：薮隆之
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7055 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , H01L21/027 , H05G2/006 , H05G2/008

4. 发明专利

JP5864165B2 ターゲット供給装置有权
公开(公告)号：JP5864165B2
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：JP2011189316
申请日：2011-08-31
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：溝口計 , 薮隆之 , 西坂敏博
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008

5. 发明专利

JPWO2020170362A1 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020170362A1
公开(公告)日：2021-12-16
申请号：JP2019006345
申请日：2019-02-20
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 薮隆之 , 堀司
IPC分类号： H05H1/22 , H05G2/00 , G03F7/20
摘要：本開示の一観点に係る極端紫外光生成システムは、プリパルスレーザ装置とビームコンバイナとの間のプリパルスレーザ光の光路に配置された第1の光学素子から出射するプリパルスレーザ光の進行方向を変更する第1のアクチュエータと、集光光学系から出射するプリパルスレーザ光及びメインパルスレーザ光の照射位置を変更する第2のアクチュエータと、メインパルスレーザ光がターゲットに照射されることにより所定領域から放射される光を検出する複数のセンサと、コントローラとを備え、コントローラは、1つのバースト期間内において、複数のセンサの出力から算出される評価値が目標値に近づくように第1のアクチュエータを制御した後に、評価値が目標値に近づくように第2のアクチュエータを制御する。

6. 发明专利

JP6866471B2 EUV光生成装置有权
公开(公告)号：JP6866471B2
公开(公告)日：2021-04-28
申请号：JP2019508366
申请日：2017-03-27
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 植野能史 , 薮隆之
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20

7. 发明专利

JP6661669B2 極端紫外光生成装置有权
公开(公告)号：JP6661669B2
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：JP2017563468
申请日：2016-01-28
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 薮隆之 , 植野能史
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20

8. 发明专利

JPWO2017154528A1 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017154528A1
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2017005996
申请日：2017-02-17
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 薮隆之
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
摘要：極端紫外光生成装置は、外部装置からの指令に基づいて極端紫外光の生成位置を移動させる極端紫外光生成装置であって、内部に供給されたターゲットに対してレーザ光が照射されることでターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲットを出力しチャンバ内に供給するターゲット供給器と、チャンバ内に供給されたターゲットにレーザ光を集光する集光ミラーと、ターゲット供給器の位置を調整するステージと、集光ミラーの位置を調整するマニピュレータと、極端紫外光の生成中に生成位置を移動させる際、ステージ、マニピュレータ、及び、ターゲットに対するレーザ光の照射タイミングのうちの少なくとも1つをフィードフォワード方式で制御可能に構成された制御部と、を備える。

9. 发明专利

JPWO2017090167A1 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017090167A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2015083299
申请日：2015-11-26
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：薮隆之 , 西村祐一
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , H05G2/00
摘要：極端紫外光生成装置は、ターゲットを出力するターゲット供給部と、ターゲットに照射されるドライブレーザ光を出力するドライブレーザと、ガイドレーザ光を出力するガイドレーザと、ドライブレーザから出力されたドライブレーザ光の光路と、ガイドレーザから出力されたガイドレーザ光の光路と、をほぼ一致させて出力するビームコンバイナと、ビームコンバイナに入射するドライブレーザ光の光路を調整する第1のアクチュエータを備えた第1の光学素子と、ビームコンバイナに入射するガイドレーザ光の光路を調整する第2のアクチュエータを備えた第2の光学素子と、ビームコンバイナから出力されたガイドレーザ光を検出して検出データを出力するセンサと、センサによるガイドレーザ光の検出データを受信し、検出データに基づいて第2のアクチュエータを制御し、第2のアクチュエータの制御量に基づいて第1のアクチュエータを制御する制御部と、を備えてもよい。

10. 发明专利

JP6383736B2 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JP6383736B2
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：JP2015554370
申请日：2013-12-25
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：植田篤 , 薮隆之 , 若林理 , スマンゲオルグ , 斎藤隆志
IPC分类号： H01L21/027 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , H05G2/008

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