专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

131. 发明专利

JPS6197918A X ray exposure device 失效
标题翻译： X射线曝光装置
公开(公告)号：JPS6197918A
公开(公告)日：1986-05-16
申请号：JP21838384
申请日：1984-10-19
申请人： Hitachi Ltd
发明人： KENBO YUKIO , YONEYAMA YOSHIHIRO , IKEDA MINORU , INAGAKI AKIRA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/30
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/2039 , G03F7/70033 , G03F7/70841 , G03F7/70866
摘要： PURPOSE: To optimize a replacing quantity maintenance of the atmosphere and gas which does not absorb X ray easily by controlling the gas supply quantity with the signal through detecting the atmospheric component to be filled in a low attenuation chamber.
CONSTITUTION: An X ray 2 from an X ray source 1 stored in a vacuum chamber 12 goes to a low attenuation chamber 5 through a shutter 3 and a beryllium window 4. After it passes through the gas which absorbs a little X ray replaced with the atmosphere here and filled, illuminates a mask 9 absorbed by the vacuum 8 on a mask chuck 7 and permeates, and passes through a gap 10 between the mask 9 and a wafer 11, a pattern on the mask 9 is transferred onto a resist of the wafer 11. An oxygen detecting sensor 13 for a detecting method is set in the abatement chamber 5 close to the mask chuck 7, and oxy gen quantity mixing into He in the abatement chamber 5 is detected. After the He quantity in the low attenuation chamber 5 are detected by the substituted oxygen quantity with a controlling method, the He quantity is controlled within the range of the proper value by a controller 14. Therefore, the X ray exposure is stabilized, production yield is improved and the X ray permeability is easily controlled.
COPYRIGHT: (C)1986,JPO&Japio
摘要翻译：目的：通过检测要填充在低衰减室中的大气成分，通过控制信号的气体供给量来优化容易吸收X射线的大气和气体的更换量维护。构成：存储在真空室12中的来自X射线源1的X射线2通过闸门3和铍窗4进入低衰减室5.在通过吸收少量X射线的气体之后，在这里填充的气体照射由掩模卡盘7上的真空8吸收的掩模9并渗透，并且通过掩模9和晶片11之间的间隙10，将掩模9上的图案转印到检测方法的氧检测传感器13设置在靠近掩模卡盘7的减排室5中，并且检测在减排室5中与He混合的氧根量。在通过控制方法用取代氧量检测低衰减室5中的He量之后，通过控制器14将He量控制在适当值的范围内。因此，X射线暴露稳定，生产率并且易于控制X射线渗透性。

132. 发明专利

JP2017529560A 真空システム、特にＥＵＶリソグラフィシステム、及び光学素子审中-公开
公开(公告)号：JP2017529560A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2017507747
申请日：2015-08-05
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ルースマティアス , ルースマティアス , フォカオイゲン , フォカオイゲン
IPC分类号： G03F7/20 , B81B1/00
CPC分类号： G03F7/70841 , B08B17/065 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B27/0006 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G21K1/062
摘要：本発明は、真空環境が形成された真空ハウジングと、真空環境中で汚染粒子に曝される表面(14a)を有する少なくとも1つのコンポーネント(14)とを備えた真空システム、特にEUVリソグラフィシステムに関する。汚染粒子の付着を低減するために、表面構造(18)が表面(14a)に形成され、上記表面構造は、ウェブ(25)により相互に分離された細孔状凹部(24)を有する。本発明は、基板(19)と、基板(19)に施されたEUV放射線(6)を反射する多層コーティング(20)とを備えた光学素子(14)であって、汚染粒子(17)の付着を低減するために、表面構造(18)が多層コーティング(20)の表面(14a)に形成され、上記表面構造は、ウェブ(25)により相互に分離された細孔状凹部(24)を有する光学素子(14)にも関する。【選択図】図3b

133. 发明专利

JP5886612B2 アクチュエーションシステムおよびリソグラフィ装置有权
标题翻译：致动系统和光刻设备
公开(公告)号：JP5886612B2
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：JP2011257180
申请日：2011-11-25
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ダメン,ヨハネス,ウィルヘルムス , コーネン,マルティヌス,ヤコブス , ランゲラー,ヘルマヌス,アントニウス
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01R13/02 , G03B27/54 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , G03F7/70991

135. 发明专利

JP2014086524A Processing unit, and manufacturing method for article using the same 有权
标题翻译：加工单元及其制造方法
公开(公告)号：JP2014086524A
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012233558
申请日：2012-10-23
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： IWASE DAISUKE , KORENAGA NOBUSHIGE
IPC分类号： H01L21/027 , F16J3/04 , G03F7/20 , H01J37/09 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/26 , B23Q3/02 , G03F7/70833 , G03F7/70841 , G03F7/709 , G21K5/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing unit advantageous for reducing deformation or vibration that can be transmitted via a chamber of specific internal environment.SOLUTION: A processing unit 1 performs a predetermined processing of a workpiece 3 in a specific environment. The processing unit 1 includes a chamber 5 having an aperture 5e and a specific internal environment, a mechanism 4 having at least a part included in the chamber 5 and another part penetrating from the aperture 5e and in non-contact with the chamber 5, support members 21, 22 for supporting the mechanism 4, a sealing member 20 constituting the boundary of the specific environment and the atmospheric environment, by connecting one end with the aperture 5e and the other end with the support member 22, and rotary members 23, 24 for allowing relative rotation about an axis in the vertical direction between a structure 8 for supporting these support members 21, 22.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种有利于减少可以通过特定内部环境的室传递的变形或振动的处理单元。解决方案：处理单元1在特定环境中执行工件3的预定处理。处理单元1包括具有孔5e和特定内部环境的腔室5，具有包括在腔室5中的至少一部分的机构4和从孔5e穿透并与腔室5不接触的另一部分，支撑件用于支撑机构4的构件21,22，构成特定环境和大气环境的边界的密封构件20，通过将一端与孔5e和另一端与支撑构件22连接，以及旋转构件23,24 用于允许在用于支撑这些支撑构件21,22的结构8之间沿垂直方向的轴线相对旋转。

136. 发明专利

JP5470265B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5470265B2
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：JP2010535902
申请日：2008-11-18
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：デヴィホヴァー，ユリ，ヨハネス，ガブリエルヴァン , モールス，ヨハネス，フベルトゥス，ヨセフィナ , ヨハンナマリアヴェルステーグ，ウェンデリン , ヨンケルス，ピーター，ゲラルダス
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70866 , G03F7/70883 , G03F7/70916
摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate, a vacuum chamber through which the patterned beam of radiation is projected during use, and a purge system configured to provide a purge gas flow in the chamber.

137. 发明专利

JP5339742B2 Connection device of an apparatus extreme ultraviolet light device and extreme ultraviolet light emitted is introduced 有权
公开(公告)号：JP5339742B2
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：JP2008053031
申请日：2008-03-04
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：隆宏白井
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70033 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916
摘要： There is provided a connection device (30) for connecting a first depressurization vessel (10a,10b) to a second depressurization vessel (10c). The connection device (30) includes a communication hole (31) comprising a first opening which is connected to the first depressurization vessel (10a,10b), and a second opening which is connected to the second depressurization vessel (10c), the first opening and the second opening being, respectively, at opposite ends of the communication hole (31) such that extreme ultraviolet radiation passes in a radiation direction from the first opening to the second opening; a gas inlet (32) through which a gas flows into the communication hole (31) in a direction perpendicular to the radiation direction of the extreme ultraviolet radiation; and a gas outlet (33) which is opposed to the gas inlet (32) such that the gas passes out the gas outlet (33).

138. 发明专利

JP5275067B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5275067B2
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：JP2009024156
申请日：2009-02-04
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ペトルスマリアカディーテオドルス , ヘンリクスヴィルヘルムヤコブスヨハネス , テンカテニコラース , ロエロフロープシュトラエリック , ロデヴィクヘンドリクスヨハネスファンメールアシュヴィン , ヨハネスソフィアマリアメルテンスジェローン , ゲラルデュスマリアデモルクリスティアヌス , ヨハネスエリザベスヒューバータスムイトイェンスマルセル , ヨハネスファンデルネットアントニウス , ジェローンオッテンスヨーショト , アンナクアエダックケルスヨハネス , エリザベスロイマン − フィスケンマリア , コエルトシュタフェンガマルコ , アロイシウスヤコブスティンネマンスパトリシウス , コーネリスマリアフェルハーヘンマルティヌス , ヨハネスレオナルデュスヘンドリクスフェルシュパイヤコブス , エデゥアルトデヨングフレデリック , ゴールマンコエン , メンチトチコフボリス , ボームヘルマン , ニティアノフストヤン , モエルマンリチャード , フランスピーレスメーツマーティン , レオナルドペーターショーンデルマークバート , ヨハネスヨーゼフヤンセンフランシスクス , リーペンミヘル
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要： A lithographic apparatus comprising: an illumination system (IL) configured to condition a radiation beam (PB); a support (MT) constructed to support a patterning device (MA), the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table (WT) constructed to hold a substrate (W); a projection system (PL) configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate; a liquid supply system (130) configured to at least partly fill a space (25) between a final element of said projection system and said substrate with liquid; a seal member (12) arranged substantially to contain said liquid within said space between said final element of the projection system and said substrate; and elements (30,50,60,120,140) to control and/or compensate for evaporation of immersion liquid from said substrate.

139. 发明专利

JP5226101B2 Vacuum system for an immersion photolithography 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5226101B2
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：JP2011102691
申请日：2011-05-02
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：アンドリュージョンハーパム , ポールジョンシェクター , ポールアランストックマン
IPC分类号： H01L21/027 , B01D57/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70341 , G03F7/70841
摘要： A vacuum system for extracting a stream of a multi-phase fluid from a photo-lithography tool comprises a pumping arrangement for drawing the fluid from the tool, and an extraction tank located upstream from the pumping arrangement for separating the fluid drawn from the tool into gas and liquid phases. The pumping arrangement comprises a first pump for extracting gas from the tank, and a second pump for extracting liquid from the tank. In order to minimize any pressure fluctuations transmitted from the vacuum system back to the fluid within the tool, a pressure control system maintains a substantially constant pressure in the tank by regulating the amounts of liquid and gas within the tank.
摘要翻译：用于从光刻工具提取多相流体流的真空系统包括用于从工具抽取流体的泵送装置和位于泵送装置上游的抽出罐，用于将从工具拉出的流体分离成气相和液相。泵送装置包括用于从罐中提取气体的第一泵和用于从罐中提取液体的第二泵。为了最小化从真空系统传回到工具内的流体的任何压力波动，压力控制系统通过调节罐内的液体和气体的量来保持罐中基本恒定的压力。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式