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91. 发明专利

JPWO2013035634A1 炭素膜成膜装置有权
标题翻译：碳膜成膜装置
公开(公告)号：JPWO2013035634A1
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013532563
申请日：2012-08-31
申请人：ナノテック株式会社
发明人：秀樹中森 , 秀樹中森 , 傑工平塚 , 傑工平塚 , 建行村 , 建行村
IPC分类号： C23C14/34 , C01B31/02 , C23C14/06
CPC分类号： C23C14/345 , C01B32/05 , C23C14/0605 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/562 , H01J37/3277 , H01J37/3467 , H01J37/3473
摘要：【課題】被加工材の表面に、良好かつ高品位な炭素膜を高速に形成する。【解決手段】成膜真空槽は、所定真空度に減圧可能とされる真空チャンバ内に、基板電圧印加手段により所定電圧に印加される基板と、基板に対向配置される少なくとも1つ以上の炭素原料基板を有し、炭素原料基板上で、真空チャンバ内に導入される放電発生用の媒体ガスをパルス電源より炭素原料基板に出力される調整電力に基づきプラズマ化し、基板に保持される被加工材に向けて炭素原料基板から炭素原料とともに放電するプラズマ発生源と、を備え、スパッタリング法によって被加工材の表面に炭素膜を加工形成し、パルス電源と基板電圧印加手段は、ゲート信号の発振装置と初期電圧を調整するための機構により接続され、パルス電源及び基板電源は、パルス幅、ターゲットに電圧を印加してから基板電圧をかけるまでのディレイタイミング、周波数、及び電圧を所定範囲で制御する調整回路を有する。【選択図】図3
摘要翻译：本发明公开了在工件的表面上以形成在高速良好且高品质的碳薄膜。甲成膜真空腔室是真空室，其能够降低到预定的真空度，基片由施加装置衬底电压被施加到一个预定电压时，至少一个或多个碳被相对配置的基板具有材料基板，碳原料基板上，其被引入到基于从脉冲电源调整后的功率的真空室到等离子体放电产生的介质气体被输出到碳原料基板，工件由基板保持包括等离子体发生源与向所述木材的碳材料衬底的碳原料一起排出，和碳膜被处理并形成通过溅射，脉冲电源和衬底电压施加装置在工件的表面上，摆动的栅极信号由机构用于调节所述设备和所述初始电压脉冲电源和基板供给，脉冲宽度的延迟连接，该电压被施加到目标，使衬底电压的定时，频率，以及调整用于在预定范围内控制所述电压电路。点域

92. 发明专利

JP2015025466A ピストンリング及びその製造方法有权
标题翻译：活塞环及其制造方法
公开(公告)号：JP2015025466A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013153392
申请日：2013-07-24
申请人：株式会社リケン , Riken Corp
发明人： TSUJI KATSUHIRO
IPC分类号： F16J9/26 , C23C14/06 , F02F5/00
CPC分类号： F16J9/26 , C23C14/0605 , C23C14/225 , C23C14/226 , C23C14/325 , C23C14/505 , F02F5/00 , F16J9/28 , H01J37/32055 , H01J37/32614 , H01J37/32715
摘要：【課題】外周面と側面とに異なる被膜特性を付与し、長期にわたって耐摩耗性を維持すると共に、ピストンリング溝との間でアルミニウムの凝着を抑制することができるピストンリング及びその製造方法を提供する。【解決手段】アルミニウム合金製のピストンに装着され、Feを主成分とするシリンダライナと摺動するピストンリング10であって、外周面12aと、少なくとも一方の側面12b1、12b2とに水素を含まない硬質炭素被膜3が形成され、外周面に形成された硬質炭素被膜3aが柱状組織を有しない被膜であり、側面に形成された硬質炭素被膜3bが該側面と交差する方向に延びる柱状組織を有する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种对外周面和侧面施加涂层特性的活塞环，长期保持耐磨性并且可以抑制铝在其与活塞环槽之间的凝集，并且提供制造方法其特征在于：活塞环10安装在铝合金基活塞上，并以主要包含Fe的气缸套滑动。在活塞环上，在外周面12a和侧面12b1，12b2中的至少一个上形成有没有氢的硬质碳涂层3，形成在外周面上的硬碳涂层3a没有柱状结构; 并且形成在侧面上的硬碳涂层3b具有沿与侧面交叉的方向延伸的柱状结构。

93. 发明专利

JP5583207B2 Sliding member 有权
公开(公告)号：JP5583207B2
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：JP2012511206
申请日：2010-02-24
申请人：フェデラル−モーグルブルシャイドゲーエムベーハー
发明人：ステファンホップ， , マンフレッドフィッシャー， , ケネディ，マルクス
IPC分类号： F16J9/26 , F02F5/00
CPC分类号： C23C14/0605 , F16J9/26 , Y10T428/24983 , Y10T428/265 , Y10T428/30

94. 发明专利

JP2014037618A Deposition device and deposition method 有权
标题翻译：沉积装置和沉积方法
公开(公告)号：JP2014037618A
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：JP2013081042
申请日：2013-04-09
申请人： Rabotekku Kk , ラボテック株式会社
发明人： NAKANO HIROFUMI
IPC分类号： C23C14/32 , B01J19/12
CPC分类号： C23C14/32 , C23C14/0605 , H01J37/32018 , H01J37/32055 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32568 , H01J37/32899
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a deposition device capable of controlling a grain size of material particles to be deposited.SOLUTION: A deposition device 100 for depositing material particles P includes: an ionization part 20 for ionizing the material particles P by a photoelectric effect in a reaction chamber to which the material particles P are supplied; and electrode parts 32, 34 for introducing the ionized material particles P to a predetermined region by a Coulomb force.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够控制要沉积的材料颗粒的颗粒尺寸的沉积装置。解决方案：用于沉积材料颗粒P的沉积装置100包括：用于通过光电效应使材料颗粒P离子化的离子化部分20 在提供材料颗粒P的反应室中; 以及用于通过库仑力将电离材料粒子P引导到预定区域的电极部件32,34。

95. 发明专利

JP5404950B1 How deposition apparatus and the deposition 有权
公开(公告)号：JP5404950B1
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：JP2013081042
申请日：2013-04-09
申请人：ラボテック株式会社
发明人：弘文中野
IPC分类号： C23C14/32 , B01J19/12
CPC分类号： C23C14/32 , C23C14/0605 , H01J37/32018 , H01J37/32055 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32568 , H01J37/32899
摘要：【課題】堆積させる材料粒子の粒径を制御することができる堆積装置を提供する。
【解決手段】堆積装置１００は、材料粒子Ｐを堆積させる堆積装置１００であって、材料粒子Ｐが供給される反応室において、光電効果により、材料粒子Ｐをイオン化するイオン化部２０と、イオン化された材料粒子Ｐをクーロン力によって所与の領域に導く電極部３２，３４と、を含む。
【選択図】図１

96. 发明专利

JP2013249538A Method and device for coating using evaporation material 有权
标题翻译：使用蒸发材料涂覆的方法和装置
公开(公告)号：JP2013249538A
公开(公告)日：2013-12-12
申请号：JP2013116612
申请日：2013-06-03
申请人： Leica Mikrosysteme Gmbh , ライカミクロジュステーメゲーエムベーハー
发明人： WURZINGER PAUL , LANG ANTON
IPC分类号： C23C14/24 , G01B7/06 , G01N5/02
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C14/0605 , C23C14/26 , C23C14/546
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of eliminating disadvantages, such as susceptibility to contamination and inaccurate layer thickness measurement, in filament evaporation.SOLUTION: A device for depositing a material layer on a sample inside a vacuum chamber includes: a sample stage 100 for arranging at least one sample 103; an evaporation source 101 for a filament-shaped evaporation material 102, connected to a current source; a quartz oscillator 105 for measuring a deposited material layer thickness; and an evaluation device associated with the oscillator. An electronic control system is associated with the evaporation source 101, and is configured to supply current to the evaporation source 101 in the form of at least two current pulses having a pulse length of 1 s or less, the current being provided by the current source. The evaluation device takes into account, transient decay behavior of the oscillator 105 immediately after completion of one current pulse to derive the material layer thickness deposited after each current pulse.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在灯丝蒸发中能够消除诸如污染敏感性和不精确的层厚度测量等缺陷的方法。解决方案：用于在真空室内的样品上沉积材料层的装置包括：样品台 100，用于布置至少一个样品103; 连接到电流源的丝状蒸发材料102的蒸发源101; 用于测量沉积材料层厚度的石英振荡器105; 以及与振荡器相关联的评估装置。电子控制系统与蒸发源101相关联，并且被配置为以脉冲长度为1μs或更小的脉冲长度的至少两个电流脉冲的形式向蒸发源101提供电流，电流源由电流源。评估装置在一个电流脉冲完成之后立即考虑振荡器105的瞬时衰减行为，以导出在每个电流脉冲之后沉积的材料层厚度。

97. 发明专利

JP5320815B2 Magnetic method of forming a thin film for recording medium and a film-forming apparatus in which it is used 有权
公开(公告)号：JP5320815B2
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：JP2008132245
申请日：2008-05-20
申请人：富士電機株式会社
发明人：克紀鈴木 , 武渡邉
IPC分类号： G11B5/84 , C23C14/06 , C23C14/24
CPC分类号： G11B5/85 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C14/505 , Y02T50/67
摘要： An apparatus for depositing a ta-C thin film for a magnetic recording medium includes a film deposition chamber; a plasma beam formation portion for supplying a plasma beam to the film deposition chamber to form the ta-C thin film on a substrate with a magnetic recording layer thereon; a substrate holder rotatably arranged in the film deposition chamber; a tilting member for continuously changing an inclination angle of the plasma beam to a surface of the magnetic recording layer; and a rotating member for rotating the substrate about a rotation axis of the substrate holder. A control member rotates the substrate holder with the substrate thereon and operates the tilting member to continuously change the inclination angle from a minimum inclination angle to a maximum inclination angle according to an increase in film thickness of the ta-C thin film being formed by the plasma beam formation portion.

98. 发明专利

JP5309320B2 A method for manufacturing a carbon foil, carbon foil, this carbon foil charge exchange stripper foil using, and apparatus for manufacturing carbon foil 有权
公开(公告)号：JP5309320B2
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：JP2007545272
申请日：2006-11-15
申请人：大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
发明人：勲菅井 , 充広小柳津 , 泰弘武田
IPC分类号： C01B31/02 , H05H7/00
CPC分类号： C23C14/0605 , C23C14/0005 , C23C14/221
摘要： It is intended to, without dependence on the height of energy of ion beam, impart durability to a carbon foil for use in an accelerator, etc. and prolong the life thereof. A vapor deposition source containing boron in a given ratio to carbon is provided, and evaporation of the carbon and boron from the vapor deposition source is carried out. The vapor is deposited on a given substrate to thereby form a carbon foil containing the carbon and boron.

100. 发明专利

JP2013167012A Coated article of steel and method for manufacturing the same 有权
标题翻译：钢的涂层制品及其制造方法
公开(公告)号：JP2013167012A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012287626
申请日：2012-12-28
申请人： Hauzer Techno Coating Bv , ハウツァーテクノコーティングベーファウ , Schaeffler Ag , シェフラーアーゲー , Picosun Oy , ピコスンオイ
发明人： KOLEV IVAN , PEETERS PAUL , TAP ROLAND , HAAG BERTRAM , MUSAYEV YASHAR , KURSAWE SERGE , HOSENFELDT TIM MATTHIAS , GIERL JUERGEN , KOSTAMO JUHANA
IPC分类号： C23C16/455 , C23C14/06 , C23C16/40 , F16C33/30 , F16C33/64 , F16C33/66
CPC分类号： C23C16/50 , C23C14/0057 , C23C14/022 , C23C14/0605 , C23C14/0635 , C23C14/35 , C23C16/0272 , C23C16/26 , C23C16/32 , C23C16/40 , C23C16/44 , C23C16/45525 , C23C16/54 , C23C28/042 , C23C28/046 , C23C28/048 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/3455 , C23C28/347 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coated article of martensitic steel, and a method for forming the coated article of steel.SOLUTION: The coated article of steel has at least one layer having a high hardness and a high resistance to wear, which is applied to at least one surface region of the article by means of PVD, CVD or PECVD; and at least one ALD layer including at least one layer of a material deposited on the at least one layer by means of ALD. The steel of which the article is made, is a martensitic grade of steel, and the at least one layer which is coated by means of PVD, CVD or PECVD is a DLC layer, a metal-DLC layer or a CrAlN layer. The ALD layer is selected from the group consisting of AlO, SiO, TiO, TaO, HfO, mixed layers of any of the foregoing, and multilayer structures of two or more of the foregoing.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种马氏体钢的涂层制品，以及形成钢的涂层制品的方法。解决方案：钢的涂层制品具有至少一层具有高硬度和高耐磨性的层，即通过PVD，CVD或PECVD施加到制品的至少一个表面区域; 以及至少一个ALD层，其包括通过ALD沉积在所述至少一层上的至少一层材料。制造制品的钢是马氏体级的钢，并且通过PVD，CVD或PECVD涂覆的至少一层是DLC层，金属DLC层或CrAlN层。 ALD层选自AlO，SiO，TiO，TaO，HfO，上述任何一种的混合层，以上两种以上的多层结构。

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