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1. 发明专利

JP5493030B2 Discharge excitation type pulse oscillation gas laser device 有权
公开(公告)号：JP5493030B2
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：JP2013086894
申请日：2013-04-17
申请人：株式会社小松製作所 , ウシオ電機株式会社
发明人：隆之藪 , 隆之渡邊 , 司堀 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/038

2. 发明专利

JP4807889B2 Gas laser electrode, the laser chamber and the gas laser device using the electrode 有权
公开(公告)号：JP4807889B2
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：JP2009112923
申请日：2009-05-07
申请人：株式会社小松製作所
发明人：司堀 , 計溝口 , 隆之薮 , 准一藤本
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/225
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/225

3. 发明专利

JP4049347B2 Discharge excitation type laser device 有权
公开(公告)号：JP4049347B2
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：JP5098399
申请日：1999-02-26
申请人：株式会社小松製作所
发明人：司堀 , 達美後藤 , 龍雄榎波
IPC分类号： H01S3/0977

4. 发明专利

JP4845538B2 Exposure for the two-stage excimer laser device 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP4845538B2
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：JP2006069583
申请日：2006-03-14
申请人：ウシオ電機株式会社 , 株式会社小松製作所
发明人：司堀 , 弘司柿崎 , 隆之薮
IPC分类号： H01S3/22 , H01S3/23

5. 发明专利

JP4484144B2 Discharge excitation gas laser device 有权
公开(公告)号：JP4484144B2
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：JP2004198921
申请日：2004-07-06
申请人：ウシオ電機株式会社 , 株式会社小松製作所
发明人：司堀 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/097

6. 发明专利

JP4104935B2 Method for producing a main discharge electrodes and the main discharge electrode 有权
公开(公告)号：JP4104935B2
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：JP2002242130
申请日：2002-08-22
申请人：ギガフォトン株式会社 , 株式会社小松製作所
发明人：明住谷 , 貞一郎千葉 , 司堀 , 計溝口 , 理若林 , 隆之薮 , 准一藤本
IPC分类号： H01S3/038

7. 发明专利

JP3839736B2 For semiconductor exposure light source narrow-band excimer laser device 有权
公开(公告)号：JP3839736B2
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：JP2002048586
申请日：2002-02-25
申请人：ギガフォトン株式会社 , 株式会社小松製作所
发明人：龍夫三村 , 明住谷 , 貞一郎千葉 , 司堀 , 計溝口
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/225 , H01L21/027 , H01S3/038 , H01S3/137

8. 发明专利

JP5331858B2 Discharge excitation type pulse oscillation gas laser device 有权
公开(公告)号：JP5331858B2
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：JP2011192295
申请日：2011-09-05
申请人：株式会社小松製作所 , ウシオ電機株式会社
发明人：隆之藪 , 隆之渡邊 , 司堀 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/038
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a discharge excitation-type pulse oscillation gas laser apparatus enabling further highly repeating operation equal to or more than 4 kHz and use in long term by suppressing increase of a required gas flow rate and increase of supply power to a fan. SOLUTION: In the discharge excitation-type pulse oscillation gas laser apparatus, discharge surface shapes of an anode and a cathode in slender shapes are convex curve shapes in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the electrodes. A width We of the electrode at a ground potential and a minimum distance g between the discharge electrodes satisfy the relation of g/We>3. A power supply supplying power with density equal to or more than 50 mJ/cm 3 to the discharge electrodes at a pulse repetition number equal to or more than 4 kHz is provided. The convex curve shape of the discharge surface is any one of the shapes which are oval, hyperbolic, and a higher order function expressed by x N /(We/2) N +y N /h N =1, where h is an electrode curve part height, x is a coordinate at a position in the electrode width direction, y is a coordinate in the electrode convex direction, and N is an integer equal to or greater than 3. A ratio ΔE/Eave is equal to or less than 35%, where ΔE=difference of electric field intensities, and Eave=electric field intensity average value, within the electrode width. COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT

9. 发明专利

JP5179736B2 Exposure apparatus for a laser device 有权
公开(公告)号：JP5179736B2
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：JP2006255619
申请日：2006-09-21
申请人：株式会社小松製作所 , ウシオ電機株式会社
发明人：理若林 , 司堀 , 孝信石原 , 伸治永井 , 計溝口 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/07 , H01S3/083 , H01S3/0971 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/2333 , H01S3/005 , H01S3/036 , H01S3/0384 , H01S3/0385 , H01S3/073 , H01S3/08009 , H01S3/08045 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2316 , H01S3/2366

10. 发明专利

JP4818763B2 Pre-ionization electrode for a gas laser 有权
公开(公告)号：JP4818763B2
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：JP2006074664
申请日：2006-03-17
申请人：ウシオ電機株式会社 , 株式会社小松製作所
发明人：司堀 , 弘司柿崎
IPC分类号： H01S3/038

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