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1. 发明专利

JPWO2015104828A1 粒子線照射装置有权
公开(公告)号：JPWO2015104828A1
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2015556685
申请日：2014-01-10
申请人：三菱電機株式会社
发明人：裕介坂本 , 裕介坂本 , 越虎蒲 , 越虎蒲 , 原田　久 , 久原田 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1071 , A61N2005/1087
摘要：照射対象の全照射位置に粒子線を照射する照射を、リスキャン回数繰り返して粒子線をそれぞれの照射位置にリスキャン回数照射するように走査装置を制御する粒子線照射装置において、リスキャン回数nまたは粒子線の単位時間当たりの線量であるビーム強度Jの一方を入力して、全ての照射位置について下記条件P1を満足する他方の値のうち最大の値を求めて、ユーザーに提示する演算部を備えたことを特徴とする粒子線照射装置。J*ti

2. 发明专利

JPWO2014115237A1 粒子線照射装置、およびそれを備えた粒子線治療装置有权
标题翻译：粒子束辐照设备和粒子束治疗系统，其包括相同
公开(公告)号：JPWO2014115237A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2014558307
申请日：2013-01-22
申请人：三菱電機株式会社
发明人：越虎蒲 , 越虎蒲 , 昌広池田 , 昌広池田 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/103 , A61N5/1048 , A61N5/1071 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：粒子線が照射対象を走査するための走査電磁石(2)と、照射対象を粒子線が走査する場合の複数の走査位置に関する走査位置情報と、複数の走査位置を走査する順番である走査順情報とを記憶する走査情報記憶部(4)と、この走査情報記憶部に記憶された走査位置情報と走査順情報に基づいて走査電磁石を制御する走査電磁石制御部(8)と、を備えた粒子線照射装置において、走査情報記憶部に記憶された走査位置情報は、隣り合う順番の走査位置情報が同一の走査位置情報となる部分を含むようにした。
摘要翻译：对于粒子束的扫描电磁铁扫描照射目标（2），并扫描照射目标粒子束当对于多个扫描位置扫描位置信息，扫描顺序信息是扫描多个扫描位置中的一个序列用扫描信息存储单元的粒子，用于存储投注（4），用于基于与所述扫描信息存储单元（8）对所存储的扫描位置信息的扫描次序的信息来控制扫描电磁铁扫描电磁铁控制部，该在直线照明装置，将存储在扫描信息存储单元中的扫描位置的信息，以及包括一个部分，其中相邻的顺序的扫描位置信息具有相同的扫描位置信息。

3. 发明专利

JP5390476B2 Particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP5390476B2
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：JP2010132915
申请日：2010-06-10
申请人：三菱電機株式会社
发明人：泰三本田 , 久原田 , 越虎蒲 , 雄一山本 , 高明岩田
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K5/04

4. 发明专利

JP4536826B1 Particle beam irradiation apparatus 有权
公开(公告)号：JP4536826B1
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：JP2010501297
申请日：2009-06-03
申请人：三菱電機株式会社
发明人：久原田 , 克久吉田 , 豪信坂本 , 雄一山本 , 高明岩田 , 泰三本田 , 越虎蒲
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N2005/1087
摘要：荷電粒子ビームの最大利用可能飛程の減少を抑えながら、ビームスポットの線量分布を拡大する粒子線照射装置を得る。粒子線加速手段１、粒子線輸送手段２、荷電粒子ビーム走査電磁石と走査電源１１とを有する走査装置、並びに照射制御手段１４を備える粒子線照射装置において、前記走査装置は荷電粒子ビームを走査して疑似拡大スポットを形成する第一走査手段３と、前記疑似拡大スポットの位置を前記標的領域に合わせて走査する第二走査手段４とを有する。
【選択図】図１

5. 发明专利

JP4532606B1 Particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP4532606B1
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：JP2010511404
申请日：2010-01-28
申请人：三菱電機株式会社
发明人：久原田 , 雄一山本 , 高明岩田 , 泰三本田 , 越虎蒲
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N2005/1087
摘要：走査電磁石のヒステリシスの影響を低減し、高精度なビーム照射を実現する粒子線治療装置を得ることを目的とする。
荷電粒子ビーム（１ｂ）の目標照射位置座標（Ｐｉ）に基づいて走査電磁石（３）を制御する照射管理装置（３２）と、荷電粒子ビーム（１ｂ）の測定位置座標（Ｐｓ）を測定する位置モニタ（７）とを備え、照射管理装置（３２）は、走査電磁石の励磁パターンが本照射の計画と同一である事前照射において位置モニタ（７）により測定された測定位置座標（Ｐｓ）及び目標照射位置座標（Ｐｉ）に基づいて生成された補正データ（Ｉａ）と目標照射位置座標（Ｐｉ）とに基づいて走査電磁石（３）への制御入力（Ｉｏ（Ｉｒ））を出力する指令値生成器（２５）を有する。
【選択図】図１

6. 发明专利

JPWO2015155868A1 粒子線照射装置有权
公开(公告)号：JPWO2015155868A1
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2016512539
申请日：2014-04-10
申请人：三菱電機株式会社
发明人：裕介坂本 , 裕介坂本 , 越虎蒲 , 越虎蒲 , 原田　久 , 久原田 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1071 , A61N5/10 , A61N5/1044 , A61N5/1067 , A61N5/1077 , A61N2005/1087
摘要：粒子線照射装置(50)は、一つの照射位置(12)につき複数回、粒子線(10)を照射する。記憶部(3)は、各回に照射されるべき線量(分割目標線量)を記憶する。線量モニタ(5)は照射位置(12)に照射される粒子線(10)の線量を測定する。1回目の照射では、線量モニタ(5)によって測定される線量が分割目標線量に達すると、制御部(4)は遮断信号(15)を発する。線量モニタ(5)は、遮断信号(15)後、実際に粒子線(10)が遮断されるまでの間に照射される線量(過剰線量)(14)を測定する。そして、補正線量値=分割目標線量−過剰線量と置く。代わりに、補正線量値=分割目標線量−過剰線量予測値と置いてもよい。2回目の照射では、線量モニタ(5)によって測定される線量が補正線量値に達すると、制御部(4)は遮断信号(15)を発する。この補正により、スポットスキャニング法において、計画された線量を超えて照射される線量が減少される。

7. 发明专利

JPWO2013145117A1 粒子線治療装置および粒子線治療装置の運転方法有权
标题翻译：操作所述粒子射线治疗装置的方法及粒子射线治疗装置
公开(公告)号：JPWO2013145117A1
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：JP2014507087
申请日：2012-03-27
申请人：三菱電機株式会社
发明人：由希子山田 , 由希子山田 , 原田　久 , 久原田 , 泰三本田 , 泰三本田 , 昌広池田 , 昌広池田 , 和之花川 , 和之花川 , 利宏大谷 , 利宏大谷 , 雅片寄 , 雅片寄
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
摘要：制御部(20)には、加速器(10)が周期的に繰り返す運転パターンとして、粒子線Bを出射できる時間(To)が異なり、ヒステリシスの存在下でも、加速器(10)の偏向電磁石(13)が所望の磁場強度になるようにそれぞれ操作条件が調整された複数の運転パターン (OP-S,OP-L)を保持する運転パターン保持部(25)と、照射対象を深さ方向に分割した複数のスライスに対して、スライス毎の照射条件を読み込む照射条件読込部(22)と、読み込んだ照射条件に基づいて、複数の運転パターンのうち、当該スライスに適した運転パターンを選択する運転パターン選択部(23)と、スライス毎に、選択した運転パターンに基づいて加速器(10)を制御するとともに、照射条件に基づいて照射装置(40)を制御する主制御部(21)と、が設けられているように構成した。
摘要翻译：所述控制单元（20），所述加速器作为操作模式（10）被周期性地重复，能够发射所述粒子束B（收件人）的不同的时间，即使在滞后的情况下，加速器偏转电磁铁（10）（13）有划分的多个期望的操作模式，每一个操作条件，以使磁场强度进行调整（OP-S，OP-L）驱动模式存储单元，存储（25），在深度方向上的照射目标对于多个切片，照射条件读取单元读取针对每个切片（22），用于选择适合于切片的操作模式的照射条件，基于所读取的照射条件，所述多个操作模式中，操作模式选择单元（23），针对每个切片，以控制操作模式的选择的基础上，加速器（10），用于控制基于所述照射条件（21）的照射装置（40）的主控制单元，被设置它被配置为已。

8. 发明专利

JPWO2013065163A1 粒子線照射装置及び粒子線治療装置有权
标题翻译：粒子束辐照设备和粒子束治疗系统
公开(公告)号：JPWO2013065163A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013541554
申请日：2011-11-03
申请人：三菱電機株式会社
发明人：昌広池田 , 昌広池田 , 原田　久 , 久原田 , 和之花川 , 和之花川 , 利宏大谷 , 利宏大谷 , 雅片寄 , 雅片寄 , 泰三本田 , 泰三本田 , 由希子山田 , 由希子山田 , 越虎蒲 , 越虎蒲
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要：荷電粒子ビームが低エネルギーであっても小さなビームサイズで照射対象に照射することを目的とする。本発明の粒子線照射装置(58)は、荷電粒子ビーム(1)が通過する真空領域を形成する真空ダクト(6,7)と、荷電粒子ビーム(1)が真空領域から放出される真空窓(8)と、荷電粒子ビーム(1)をビーム軸に垂直な方向に走査する走査電磁石(2,3)と、荷電粒子ビーム(1)の通過位置及びビームサイズを検出する位置モニタ(5)を有するモニタ装置(67)と、真空窓(8)を覆い、下流側にモニタ装置(67)が配置された低散乱ガス充填室(39)と、荷電粒子ビーム(1)の照射を制御する照射管理装置(20)と、を備え、低散乱ガス充填室(39)は、モニタ装置(67)と真空窓(8)とのビーム軸方向における相対位置が所望の位置に変更可能に配置され、荷電粒子ビーム(1)が照射される際に、空気よりも散乱が小さい低散乱ガスが充填されることを特徴とする。
摘要翻译：带电粒子束旨在照射的照射目标，即使在低能量在小光束尺寸。本发明（58），一真空窗口和真空导管的粒子射线照射装置，以形成一个真空区域带电粒子束（1）通过（6,7），带电粒子束（1）从真空区域释放和（8），垂直于带电粒子束和扫描磁体用于扫描的方向（1）到光束轴（2,3），用于检测通过位置和带电粒子束的束尺寸的位置监测器（1）（5）监视装置具有（67）覆盖所述真空窗口（8），向下游监视器装置（67）被布置在低散射气体填充室（39），以控制带电粒子束的照射（1）照射管理装置（20）包括一个低散射气体填充室（39），在监视器单元（67）和真空窗口的光束轴方向上的相对位置（8）被布置成被改变为期望的位置被施加带电粒子束（1）的情况下，低散射气体散射比空气小，其特征在于，它被填充。

9. 发明专利

JPWO2013011583A1 粒子線治療装置有权
标题翻译：粒子射线治疗装置
公开(公告)号：JPWO2013011583A1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2013524558
申请日：2011-07-21
申请人：三菱電機株式会社
发明人：剛萩野 , 剛萩野 , 泰三本田 , 泰三本田
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要：走査電磁石から照射対象までのスペースを多く必要とせず、製作が容易なリッジフィルタを用いることができる粒子線治療装置を得ることを目的とする。真空ダクト(4)内を進行する粒子線を走査して照射対象に照射するための走査電磁石(5)と、真空ダクトから大気中に粒子線を取り出すビーム取り出し窓(7a、7b)を備えた照射部(18)を有する粒子線治療装置において、照射部は、真空ダクトが、走査電磁石よりも照射対象側のフランジ面(47)で分割可能に設置され、フランジ面よりも照射対象側に設けられた走査式照射法用真空ダクト(6)を、粒子線のビームライン(1)上に重ならないように移動させた場合に、粒子線のビームライン上であって、移動前に走査式照射法用真空ダクトが設置されていた空間にブロードビーム照射法用のリッジフィルタ(42)を設置可能に構成した。
摘要翻译：不需要很大的空间被从扫描磁体照射，以获得粒子射线治疗系统可被用于容易地脊形过滤器的制造。扫描电磁铁用于通过扫描粒子束通过真空管道（4）行进照射照射目标（5），具有光线出口检索粒子束（7A，7B）到从真空导管中的气氛在具有照明部分（18），照射单元，所述真空导管，比扫描电磁铁可分割安装在照射目标侧（47）的凸缘表面上的粒子射线治疗装置，也设置在照射对象侧从凸缘表面真空管道被扫描照射方法（6）中，移动时，以便不对粒子束的束线重叠（1），一对前举粒子束的束线，扫描照射真空导管安装在配置为能够脊形过滤器（42），用于在已建立为法，空间宽束照射方法。

10. 发明专利

JP5317921B2 Particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP5317921B2
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：JP2009236256
申请日：2009-10-13
申请人：三菱電機株式会社
发明人：久原田 , 高明岩田 , 泰三本田 , 越虎蒲 , 雄一山本 , 利宏大谷 , 豪信坂本
IPC分类号： A61N5/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary-irradiation-type particle beam therapy system which allows a beam take-out window to be moved close to an irradiated object and has a rotation gantry for safely performing beam irradiation. SOLUTION: The particle beam therapy system includes: an irradiation device having a beam scanner for scanning a charged particle beam and a first duct with the beam take-out window arranged on the downstream side of the beam scanner, and irradiating an irradiated object with the charged particle beam by passing the beam inside the first duct; a beam transporting device having a second duct and transporting the charged particle beam emitted from an accelerator to the irradiation device by passing the beam inside the second duct; the rotation gantry mounting a part of the beam transporting device and the irradiation device; and duct extending/contracting means for the first duct, which moves the beam take-out window in the axial direction of the charged particle beam. When the irradiated object is irradiated with the charged particle beam, the duct extending/contracting means is extended. When the rotation gantry is rotated, the duct extending/contracting means is contracted. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

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