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    • 6. 发明公开
    • Wafer polishing machine
    • 晶圆抛光机
    • EP0706855A3
    • 1996-07-31
    • EP95307174.3
    • 1995-10-11
    • ONTRAK SYSTEMS, INC.
    • Weldon, David EdwinNagorski, Boguslaw A.Talieh, Homayoun
    • B24B37/04B24B21/06
    • B24B37/20B24B21/06B24B37/12
    • A semi-conductor wafer polishing machine (10) having a polishing pad assembly (14), and a wafer holder (12) includes a support (24) positioned adjacent the polishing pad assembly (14). This support (24) has at least one fluid inlet (36) connectable to a source of fluid at a higher pressure, at least one fluid outlet (38) connectable to a fluid drain at a lower pressure, and at least one bearing surface (40) over which fluid flows from the source to the drain. The polishing pad (14) is supported by the fluid over the bearing surface (40) for low-friction movement with respect to the support (24). Similar fluid bearings can be used in the wafer holder (12). An array of generally parallel grooves is provided on a belt support surface to reduce hydroplaning of a polishing belt. A turbine drive system rotates a wafer chuck in a wafer holder (12).
    • 具有抛光垫组件(14)和晶片保持器(12)的半导体晶片抛光机(10)包括位于抛光垫组件(14)附近的支撑件(24)。 该支撑件(24)具有至少一个能够以较高压力连接至流体源的流体入口(36),能够以较低压力连接至流体排放口的至少一个流体出口(38),以及至少一个支撑表面( 40),流体从源流向排水管。 抛光垫(14)由流体支撑在轴承表面(40)上方以相对于支撑件(24)进行低摩擦运动。 类似的流体轴承可以用在晶片支架(12)中。 在带支撑表面上设置大致平行的凹槽阵列以减少抛光带的滑水。 涡轮机驱动系统旋转晶片夹持器(12)中的晶片夹盘。
    • 7. 发明公开
    • Improvement to a wide-belt sander machine
    • Schleifmaschine mit breitem乐队。
    • EP0426626A2
    • 1991-05-08
    • EP90830477.7
    • 1990-10-23
    • DMC S.P.A.
    • Botteghi, Gino
    • B24B21/06
    • B24B21/06
    • The improvement described in this invention consists of a cross-beam (8) fitted with a lever (9) fixed to and rotating with, at one end, to the end of a single, plate pivot pin (8a) projecting from a support frame (5), the other end of the lever (9) is connected to hydraulic actuating means (10) located on the frame (5) and acting on the lever (9) so as to vary the angle of the plates (7) in relation to the conveyor belt (1). On the frame (5) there is an adjustable stroke limiter which acts on the lever (9) and limits the angular variation of the lever to within a preset range. The frame (5) is also fitted with automatic engaging and locking means (12) connected to the hydraulic actuating means (26).
    • 本发明所描述的改进包括一个装有杠杆(9)的横梁(8),该杆(9)固定在一端并转动到从支撑框架突出的单个平板枢轴销(8a)的端部, (5)中,所述杆(9)的另一端连接到位于所述框架(5)上的液压致动装置(10)并且作用在所述杆(9)上,以便改变所述板(7)的角度 与传送带(1)的关系。 在框架(5)上有一个可调节的行程限制器,其作用在杠杆(9)上,并将杠杆的角度变化限制在预设范围内。 框架(5)还装配有连接到液压致动装置(26)的自动接合和锁定装置(12)。
    • 8. 发明公开
    • Profilschleifmaschine
    • Profilschleifmaschine。
    • EP0312841A2
    • 1989-04-26
    • EP88116538.5
    • 1988-10-06
    • Fromm, Ferdinand
    • Braun, Michael Stefan
    • B24B21/20
    • B24B21/06B24B21/20
    • Bei einer Schleifmaschine, insbesondere Profilschleifmaschine mit einem endlos um mehrere Rollen (1-6) umlaufenden Schleif­band (10), welches mittels eines an der Schleifbandrückseite anliegenden profilierten Schleifschuhs entsprechend der Form des zu schleifenden Werkstücks profiliert wird, wobei zu­mindest eine der Rollen (6) in einem Halter (11) drehbar gela­gert ist, wird zur Verbesserung der Schleifqualität und Ver­längerung der Standzeit des Schleifbands (10) vorgeschlagen, daß die Rolle (6) um eine etwa senkrecht zum auf der Rolle (6) geführten Schleifband (10) verlaufenden Achse (12) oszillie­rend bewegbar gelagert und der Winkelbereich dieser oszillie­renden Schwenkbewegung veränderbar ist, daß ferner zwei Endla­genabgriffe (18,18′) beiderseits der Laufbahn des Schleifbands (10) vorgesehen sind, die mit den Randkanten des Schleifbands zusammenwirken und durch die das Überschreiten einer oberen und unteren Soll-Lage des Schleifbands (10) gegenüber der Rol­le (6) erfaßbar ist und die Umsteuerung der oszillierenden Schwenkbewegung des Halters (11) durch das Ansprechen der End­lagenabgriffe (18,18′) erfolgt; und daß zur oszillierenden Schwenkbewegung der Rolle (6) ein durch die Endlagenabgriffe (18,18′) gesteuertes Kraftglied (15) dient, durch das der die Rolle (6) tragende Halter (11) um seine Achse (12) schwenkbar ist, daß zwei im Abstand einstellbar voneinander angeordnete Endlagendämpfer vorzugsweise in Form von einseitig wirkenden Dämpfgliedern vorgesehen sind.
    • 在砂光机中,特别是具有打磨带(10)的轮廓砂光机,该砂带(10)围绕几个辊(1-6)环绕旋转,并且根据待磨砂的工件的形状,通过异型砂光靴 为了提高打磨质量,延长砂带(10)的使用寿命,提出了可旋转地安装在保持架(11)中的至少一个辊(6) ),所述辊(6)以这样的方式安装,即可以围绕与在所述辊(6)上引导的所述砂带(10)成直角行进的轴线(12)以振荡方式移动,并且所述辊 这种摆动枢转运动的角度范围是可变的,并且此外,两个端部位置传感器(18,18')设置在砂带(10)的轨道的两侧,该端部位置传感器 18')与砂带的边缘相互作用,并且通过其与任何t 可以检测砂带(10)相对于辊(6)的顶部和底部期望位置的偏移,并且保持器(11)的摆动枢转运动的反转由端部 - 位置传感器(18,18'); 并且由端部位置传感器(18,18')控制的动力构件(15)用于辊(6)的摆动枢转运动,借助于该保持器(11)承载的动力构件(15) 可以使辊(6)围绕其轴线(12)枢转,并且设置两个末端位置阻尼器,其布置成可以彼此间隔一段距离,优选为单作用阻尼构件的形式。