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1. 发明公开

EP1152211A3 Optische Messanordnung insbesondere zur Schichtdickenmessung 审中-公开
公开(公告)号：EP1152211A3
公开(公告)日：2002-05-29
申请号：EP01109784.7
申请日：2001-04-20
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Engel, Horst, Dr. , Mikkelsen, Hakon, Dr. , Danner, Lambert , Slodowski, Matthias , Backhaus, Kuno , Wienecke, Joachim, Dr.
IPC分类号： G01B11/06
CPC分类号： G01B11/0625
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine optische Meßanordnung, insbesondere zur Schichtdickenmessung sowie zur Ermittlung optischer Materialeigenschaften wie Brechungsindex, Extinktionsfaktor usw. einer Probe (P), mit einer Beleuchtungseinrichtung (1) zur Abgabe eines Meßlichtstrahls (6), einem Strahlteiler (8) zur Aufteilung des Meßlichtstrahls (6) in einen Objektlichtstrahl (10) und einen Referenzlichtstrahl (9), einem Meßobjektiv zum Ausrichten des Objektlichtstrahls (10) auf einen Meßort (M) an der Oberfläche der Probe (P) und zum Erfassen des an dem Meßort (M) reflektierten Lichtes des Objektlichtstrahls (10), sowie einer Auswerteeinrichtung (11), in welche der von der Probe (P) reflektierte Objektlichtstrahl (10) und der Referenzlichtstrahl (9) eingekoppelt sind, zum Erhalt von Informationen über die Probe (P), insbesondere über an dieser vorhandene Schichtdicken. Zur Einkopplung des Objektlichtstrahls (10) und des Referenzlichtstrahls (9) in die Auswerteeinrichtung (11) sind Lichtleiteinrichtungen (23, 25) mit einer Vielzahl von Lichtleitfasern vorgesehen. Hierdurch wird eine kompakte, flexibel aufstellbare und störungsunempfindliche optische Meßanordnung geschaffen, die sich besonders zur automatischen Überwachung kontinuierlicher Produktionsvorgänge, insbesondere bei der Halbleiterchip-Herstellung, eignet.
摘要翻译：本发明涉及一种光学测量装置，特别是用于层厚度测量和用于确定具有用于发射测量光的照明装置（1）的试样（P）的光学材料性质如折射率，消光因子等光束（6），用于将测量光束（6）分成样本光束（10）和参考光束（9）的分束器（8），用于将样本光束（10）引导到的测量对象在所述检体（P）的表面上的测量位置（M）和用于获取从所述测量位置（M）反射的光的测量位置（M）;以及分析装置（11），所述参考光束（9）和所述检体光束（P）反射的（10）被耦合以获得关于样本（P）的信息，特别是关于存在于其上的层厚度。提供具有多个导光纤维的导光装置（23,25），用于将试样光束（10）和参考光束（9）耦合到分析装置（11）中。其结果是创建一个紧凑的光学测量装置，其可以灵活地设置并且对干扰不敏感，这特别适用于连续生产过程的自动监测，特别是在半导体芯片制造中。

2. 发明公开

EP1152211A2 Optische Messanordnung insbesondere zur Schichtdickenmessung 审中-公开
标题翻译：特别是光学测量设备，用于测量涂层厚度
公开(公告)号：EP1152211A2
公开(公告)日：2001-11-07
申请号：EP01109784.7
申请日：2001-04-20
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Engel, Horst, Dr. , Mikkelsen, Hakon, Dr. , Danner, Lambert , Slodowski, Matthias , Backhaus, Kuno , Wienecke, Joachim, Dr.
IPC分类号： G01B11/06
CPC分类号： G01B11/0625
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine optische Meßanordnung, insbesondere zur Schichtdickenmessung sowie zur Ermittlung optischer Materialeigenschaften wie Brechungsindex, Extinktionsfaktor usw. einer Probe (P), mit einer Beleuchtungseinrichtung (1) zur Abgabe eines Meßlichtstrahls (6), einem Strahlteiler (8) zur Aufteilung des Meßlichtstrahls (6) in einen Objektlichtstrahl (10) und einen Referenzlichtstrahl (9), einem Meßobjektiv zum Ausrichten des Objektlichtstrahls (10) auf einen Meßort (M) an der Oberfläche der Probe (P) und zum Erfassen des an dem Meßort (M) reflektierten Lichtes des Objektlichtstrahls (10), sowie einer Auswerteeinrichtung (11), in welche der von der Probe (P) reflektierte Objektlichtstrahl (10) und der Referenzlichtstrahl (9) eingekoppelt sind, zum Erhalt von Informationen über die Probe (P), insbesondere über an dieser vorhandene Schichtdicken. Zur Einkopplung des Objektlichtstrahls (10) und des Referenzlichtstrahls (9) in die Auswerteeinrichtung (11) sind Lichtleiteinrichtungen (23, 25) mit einer Vielzahl von Lichtleitfasern vorgesehen. Hierdurch wird eine kompakte, flexibel aufstellbare und störungsunempfindliche optische Meßanordnung geschaffen, die sich besonders zur automatischen Überwachung kontinuierlicher Produktionsvorgänge, insbesondere bei der Halbleiterchip-Herstellung, eignet.
摘要翻译：（8）用于将所述本发明涉及一种光学测量装置，特别是用于层厚度测量和用于光学材料特性如折射率，将样品（P）的消光系数等的确定，与照明装置（1），用于发射的测量光束（6），分束器测量光束（6）代入的对象光束（10）和参考光束（9），用于样品（P）的表面上的物体光束（10）引导到一个测量点（M）和用于检测（在测量单元M的测量目标）反射的物体光束（10），和评估装置（11），其中，所述样品（P）的反射物光束（10）和参考光束（9）接合，以获得关于样品（P信息）的光，特别是存在于该层的厚度。在物光束（10）和具有多个设置的光纤的参考光束（9）（11）的光导（23，25）耦合所述评估装置。以这种方式，提供了一种紧凑的，灵活的，可展开和麻烦不敏感的光学测量装置，它是特别适合于连续生产过程的自动监测，尤其是在半导体芯片的生产。

3. 发明公开

EP1098551A2 Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung des von einer Beleuchtungsvorrichtung abgestrahlten Lichtes für ein optisches Messgerät 有权转让
标题翻译：方法和装置用于监测由照明装置发出的光的光学仪器
公开(公告)号：EP1098551A2
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：EP00120691.1
申请日：2000-09-22
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Wienecke, Joachim, Dr. , Wolter, Detlef , Jaritz, Horst-Dieter , Backhaus, Kuno , Slodowski, Matthias
IPC分类号： H05B39/10
CPC分类号： H05B37/03
摘要： Bei einem Verfahren zur Überwachung des von einer Beleuchtungsvorrichtung abgestrahlten Meßlichtes für ein optisches Meßgerät erfolgt eine fortlaufende Erfassung von Meßlichtparametern. Die erfaßten Meßlichtparameter werden mit vorgegebenen Sollwerten verglichen. Dabei wird ein Abweichen von den Sollwerten zugeordneten, vorgegebenen Parameterbereichen signalisiert. Dieses Signal wird zur Auslösung eines Lampenwechsels (14) an der Beleuchtungsvorrichtung verwendet, die mehrere Lampen (15, 16) aufweist, die einzeln oder in Gruppen selektiv ein- bzw. ausschaltbar sind. Weiterhin wird eine entsprechende Beleuchtungsvorrichtung angegeben, die bevorzugt einen Lampenwechsel selbsttätig ausführt. Hierdurch wird ein unter Berücksichtigung der Meßgenauigkeit und einer möglichst langen Ausnutzung der Lampen optimaler Zeitpunkt für einen Lampenwechsel gefunden, so daß sich eine in einem Dauerbetrieb gleichbleibende Qualität des Meßlichtes in vorgegebenen Toleranzbereichen zuverlässig einhalten läßt.
摘要翻译：在用于监测由照明装置发生Meßlichtparametern的连续检测的光学测量仪器测量发射的光的方法。检测到的Meßlichtparameter与预定的期望值进行比较。在这种情况下，从与预定的参数范围相关联的所需值的偏差信号通知。这个信号被用于触发灯的变化（14）具有多个灯（15，16）的照明装置在基团单独地或选择性地开启或者关闭。此外，对应的照明装置提供一种执行优选的灯自动改变。以这种方式，找到了考虑测量精度及更换灯最长的可能使用的灯的最佳时间，所以，有可能在测量光的连续运行质量恒定的粘附可靠地在预定的容差范围内。

4. 发明公开

EP1179841A3 Verfahren und Vorrichtung zur Benutzerführung bei der optischen Vermessung von Schichten und Substraten und Software 审中-公开
标题翻译：用于层和衬底和软件的光学测量用户引导的方法和装置
公开(公告)号：EP1179841A3
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：EP01114312.0
申请日：2001-06-13
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Slodowski, Matthias , Irmer, Karl-Heinz
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/956 , C02F1/441 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G05B19/00 , G05B2219/37212 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren, eine Vorrichtung und eine Software zur Benutzerführung bei der optischen Inspektion und Vermessung von beschichteten und unbeschichteten Substraten mit einem optischen Meßsystem, wobei ein integrierter Rezept- und Daten-Browser mit sortierbaren Merkmalen eingesetzt wird.

5. 发明公开

EP1098551A3 Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung des von einer Beleuchtungsvorrichtung abgestrahlten Lichtes für ein optisches Messgerät 有权转让
标题翻译：方法和装置用于监测由照明装置发出的光的光学仪器
公开(公告)号：EP1098551A3
公开(公告)日：2003-11-19
申请号：EP00120691.1
申请日：2000-09-22
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Wienecke, Joachim, Dr. , Wolter, Detlef , Jaritz, Horst-Dieter , Backhaus, Kuno , Slodowski, Matthias
IPC分类号： H05B37/04 , H05B37/03
CPC分类号： H05B37/03
摘要： Bei einem Verfahren zur Überwachung des von einer Beleuchtungsvorrichtung abgestrahlten Meßlichtes für ein optisches Meßgerät erfolgt eine fortlaufende Erfassung von Meßlichtparametern. Die erfaßten Meßlichtparameter werden mit vorgegebenen Sollwerten verglichen. Dabei wird ein Abweichen von den Sollwerten zugeordneten, vorgegebenen Parameterbereichen signalisiert. Dieses Signal wird zur Auslösung eines Lampenwechsels (14) an der Beleuchtungsvorrichtung verwendet, die mehrere Lampen (15, 16) aufweist, die einzeln oder in Gruppen selektiv ein- bzw. ausschaltbar sind. Weiterhin wird eine entsprechende Beleuchtungsvorrichtung angegeben, die bevorzugt einen Lampenwechsel selbsttätig ausführt. Hierdurch wird ein unter Berücksichtigung der Meßgenauigkeit und einer möglichst langen Ausnutzung der Lampen optimaler Zeitpunkt für einen Lampenwechsel gefunden, so daß sich eine in einem Dauerbetrieb gleichbleibende Qualität des Meßlichtes in vorgegebenen Toleranzbereichen zuverlässig einhalten läßt.
摘要翻译：该方法涉及的灯和/或测量光参数的连续和/或间断的检测和比较相关预定的期望值，由此一个或多个参数从相应的所需值的偏差信号通知所检测到的参数和灯或灯的变化组来执行。所检测到的参数是强度，光谱分布和强度的波动的频率。因此独立权利要求中包括了以下内容：到照明装置。

6. 发明公开

EP1179841A2 Verfahren und Vorrichtung zur Benutzerführung bei der optischen Vermessung von Schichten und Substraten und Software 审中-公开
标题翻译：用于层和衬底和软件的光学测量用户引导的方法和装置
公开(公告)号：EP1179841A2
公开(公告)日：2002-02-13
申请号：EP01114312.0
申请日：2001-06-13
申请人： Leica Microsystems Jena GmbH
发明人： Slodowski, Matthias , Irmer, Karl-Heinz
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/956 , C02F1/441 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G05B19/00 , G05B2219/37212 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren, eine Vorrichtung und eine Software zur Benutzerführung bei der optischen Inspektion und Vermessung von beschichteten und unbeschichteten Substraten mit einem optischen Meßsystem, wobei ein integrierter Rezept- und Daten-Browser mit sortierbaren Merkmalen eingesetzt wird.
摘要翻译：一个用户指南用于与集成配方浏览器，并具有可排序特性的数据浏览器的光学测量系统包括分层和不分层基板的光学检查和测量。因此独立权利要求中包括了以下内容：存储在数据载体上的上述导板（2），用于检查在光学系统和如上述测定（1）软件

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