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1. 发明授权

EP3068739B1 COMPOSITE MATERIAL, HEAT-ABSORBING COMPONENT, AND METHOD FOR PRODUCING THE COMPOSITE MATERIAL 有权
标题翻译：复合材料，吸热组件，以及制造该复合材料的方法
公开(公告)号：EP3068739B1
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：EP14796044.7
申请日：2014-11-06
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , Heraeus Quartz America LLC
发明人： SCHEICH, Gerrit , SCHENK, Christian , WESSELY, Frank , TSCHOLITSCH, Nadine , NEUMANN, Christian , MORITZ, Stephan , MICHEL, Dirk , ATANOS, Ashur
IPC分类号： C03C14/00 , C03B19/02 , C03B20/00 , C03B19/06 , H01L21/67
CPC分类号： C09K5/14 , B28B1/26 , C03B19/066 , C03C14/004 , C03C14/006 , C03C2214/04 , C03C2214/08 , C03C2214/16 , C03C2214/30 , C04B35/14 , C04B35/64 , F27B14/10 , F27B2014/0843 , Y10T428/131
摘要： In a known composite material with a fused silica matrix there are regions of silicon-containing phase embedded. In order to provide a composite material which is suitable for producing components for use in high-temperature processes for heat treatment even when exacting requirements are imposed on impermeability to gas and on purity, it is proposed in accordance with the invention that the composite material be impervious to gas, have a closed porosity of less than 0.5% and a specific density of at least 2.19 g/cm3, and at a temperature of 1000° C. have a spectral emissivity of at least 0.7 for wavelengths between 2 and 8 μm.

2. 发明公开

EP3068739A1 COMPOSITE MATERIAL, HEAT-ABSORBING COMPONENT, AND METHOD FOR PRODUCING THE COMPOSITE MATERIAL 有权
标题翻译：复合材料，用于生产复合材料的热吸收成分和方法
公开(公告)号：EP3068739A1
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：EP14796044.7
申请日：2014-11-06
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , Heraeus Quartz America LLC
发明人： SCHEICH, Gerrit , SCHENK, Christian , WESSELY, Frank , TSCHOLITSCH, Nadine , NEUMANN, Christian , MORITZ, Stephan , MICHEL, Dirk , ATANOS, Ashur
IPC分类号： C03C14/00 , C03B19/02 , C03B20/00 , C03B19/06 , H01L21/67
CPC分类号： C09K5/14 , B28B1/26 , C03B19/066 , C03C14/004 , C03C14/006 , C03C2214/04 , C03C2214/08 , C03C2214/16 , C03C2214/30 , C04B35/14 , C04B35/64 , F27B14/10 , F27B2014/0843 , Y10T428/131
摘要： In a known composite material with a fused silica matrix there are regions of silicon-containing phase embedded. In order to provide a composite material which is suitable for producing components for use in high-temperature processes for heat treatment even when exacting requirements are imposed on impermeability to gas and on purity, it is proposed in accordance with the invention that the composite material be impervious to gas, have a closed porosity of less than 0.5% and a specific density of at least 2.19 g/cm3, and at a temperature of 1000° C. have a spectral emissivity of at least 0.7 for wavelengths between 2 and 8 μm.

3. 发明公开

EP3428132A1 QUARZGLASBAUTEIL MIT HOHER THERMISCHER STABILITÄT, HALBZEUG DAFÜR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN 有权转让
公开(公告)号：EP3428132A1
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：EP17180502.1
申请日：2017-07-10
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： SCHENK, Christian , TSCHOLITSCH, Nadine , BAIER, Thomas
IPC分类号： C03B19/06 , C03C3/06 , C03C17/23 , C03B20/00 , C03B32/02
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasbauteils wird auf einer Beschichtungsfläche eines Basiskörpers aus Quarzglas eine Kristallbildungs-Schicht erzeugt, die einen Kristallisationspromotor enthält. Um hiervon ausgehend ein Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasbauteils mit verbesserter thermischer Festigkeit und Langzeitstabilität bereitzustellen, das insbesondere auch bei schnellen Aufheizprozessen eine vergleichsweise geringe Verformung zeigt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass eine amorphe SiO 2 -Partikel enthaltende, poröse Kristallbildungs-Schicht mit einer mittleren Dicke im Bereich von 0,1 bis 5 mm erzeugt wird, und dass als Kristallisationspromotor eine Substanz eingesetzt wird, die Cäsium und/oder Rubidium enthält.

4. 发明公开

EP4108641A1 FORMKÖRPER AUS OPAKEM QUARZGLAS SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN 审中-实审
公开(公告)号：EP4108641A1
公开(公告)日：2022-12-28
申请号：EP21181469.4
申请日：2021-06-24
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： GÖTZENDORFER, Andreas , SCHEICH, Gerrit , TSCHOLITSCH, Nadine , HAMMERSCHMIDT, Joerg , HÖNER, Miriam Sonja
IPC分类号： C03B19/06 , C01B33/18 , C03C3/06 , C03C11/00 , C03C19/00
摘要： Ein bekanntes Verfahren zum Herstellen eines Formkörpers aus opakem Quarzglas, umfasst die Verfahrensschritte: (a) Bereitstellen von SiO 2 -Körnung, erhalten durch Zerkleinern von Quarzglas mit einer Reinheit von mindestens 99,9 Gew.-% SiO 2 , (b) Bilden einer Aufschlämmung, die eine Suspensionsflüssigkeit und die SiO 2 -Körnung enthält und die einen Gesamt-Feststoffanteil aufweist, (c) Nassmahlen der SiO 2 -Körnung in der Aufschlämmung unter Bildung gemahlener SiO 2 -Körnungsteilchen, (d) Formen eines porösen Grünkörpers aus der Aufschlämmung, und (e) Sintern des porösen Grünkörpers zu dem Formkörper. Um hiervon ausgehend einen Formkörper aus opakem Quarzglas bereitzustellen, aus dem Komponenten für die Halbleiterfertigung mit einem homogenen Reflexionsgrad herstellbar sind, wird vorgeschlagen, dass das Nassmahlen der SiO 2 -Körnung mindestens zeitweise in Gegenwart von SiO 2 -Nanoteilchen erfolgt, deren Anteil am Gesamt-Feststoffanteil der Aufschlämmung im Bereich von 0,1 Gew.-% bis 10 Gew.-% liegt.

5. 发明授权

EP3339258B1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPAKEM QUARZGLAS, UND ROHLING AUS DEM OPAKEN QUARZGLAS 有权
公开(公告)号：EP3339258B1
公开(公告)日：2020-02-05
申请号：EP17205079.1
申请日：2017-12-04
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： SCHENK, Christian , SCHEICH, Gerrit , TSCHOLITSCH, Nadine
IPC分类号： C03B19/06 , C03C3/06 , C03B20/00

6. 发明公开

EP3184885A1 FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR 审中-公开
标题翻译：光纤扩散装置及其制造方法
公开(公告)号：EP3184885A1
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：EP15201956.8
申请日：2015-12-22
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： SCHENK, Christian , SCHEICH, Gerrit , TSCHOLITSCH, Nadine
IPC分类号： F21V8/00 , G02B6/26 , G02B5/02
CPC分类号： G02B6/0008 , A61B2018/2261 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C2201/02 , C03C2201/08 , C03C2201/80 , C03C2203/10 , G02B5/0247 , G02B5/0268 , G02B6/00 , G02B6/262
摘要： Bei faseroptischen Streueinrichtungen wird über eine Lichtleitfaser aus Quarzglas Licht zu einem an einem distalen Endbereich der Lichtleitfaser vorgesehenen Diffusor übertragen. Der Diffusor enthält Streuzentren. Zur Erzeugung des Diffusors ist es bekannt, auf dem distalen Faserende der Lichtleitfaser eine Streumasse aufzubringen und diese zu dem Diffusor zu verfestigen. Um davon ausgehend ein Verfahren zur kostengünstigen und zuverlässigen Herstellung einer derartigen faseroptischen Streueinrichtung anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Aufbringen der Streumasse folgende Verfahrensschritte umfasst
(a) Bereitstellen einer SiO 2 -Körnung, die amorphe SiO 2 -Teilchen enthält und die zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 besteht,
(b) Bereitstellen eines Hohlkörpers aus Glas mit einer Hohlraumwandung, die einen nach außen offenen Hohlraum umgibt,
(c) Bilden einer Schüttung der SiO 2 -Körnung in dem Hohlraum und Einbringen des Faserendes in den Hohlraum, so dass mindestens ein Teil des Faserendes in die Schüttung hineinragt,
(d) thermisches Verdichten der Schüttung unter Ausbildung einer porenhaltigen und zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 bestehenden Sintermasse, die mindestens teilweise von einer Glashülle umgeben ist.
摘要翻译：在光纤散射体中，光通过石英玻璃光纤传输到设置在光纤远端部分的扩散器。扩散器包含散射中心。为了制造漫射器，已知将散射质量施加到光纤的远端光纤端并固化它以形成漫射器。为了此基础上提供廉价和可靠的生产这样的光纤散射装置的方法，本发明提出的是，分散体的质量的沉积方法包括以下步骤（a）提供含有无定形的SiO 2颗粒和至少90重量％的SiO 2系的谷物。（b）提供具有围绕向外敞开的空腔的空腔壁的玻璃空心体;（c）在空腔中形成SiO 2颗粒床并将光纤端插入空腔中，使得至少光纤端部的一部分突出到床，（d）热压缩所述填料，以形成多孔的，并且包括至少90重量的SiO 2的烧结质量％，其至少部分地由玻璃外壳包围。

7. 发明公开

EP3339258A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPAKEM QUARZGLAS, UND ROHLING AUS DEM OPAKEN QUARZGLAS 有权
公开(公告)号：EP3339258A1
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：EP17205079.1
申请日：2017-12-04
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： SCHENK, Christian , SCHEICH, Gerrit , TSCHOLITSCH, Nadine
IPC分类号： C03B19/06 , C03C3/06 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/066 , C03B2201/02 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C2201/80
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung von opakem Quarzglas wird aus einem feinteilige, amorphe SiO 2 Teilchen und grobteilige SiO 2 -Armierungskörper enthaltenden Schlicker ein Grünkörper erzeugt und dieser durch eine Sinter-Behandlung zu einem Rohling aus dem opaken Quarzglas gesintert. Die Armierungskörper mit einer spezifischen Dichte D K1 sind dabei in einer SiO 2 -Matrix mit einer spezifischen Glasdichte D M eingebettet. Um hiervon ausgehend einen wenig rissanfälligen Rohling aus opakem Quarzglas bereitzustellen, das auch bei geringen Wandstärken eine homogene Transmission aufweist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass sinterfähige Armierungskörper eingesetzt werden, deren spezifische Dichte D K0 vor der Sinter-Behandlung geringer ist als die spezifische Glasdichte D M , und die infolge der Sinter-Behandlung die spezifische Dichte D K1 erreichen, die von der spezifischen Glasdichte D M um weniger als 10% abweicht, und die eine mittlere Partikelgröße (D 50 -Wert) von mindestens 500 µm aufweisen.

8. 发明公开

EP3339256A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPAKEM QUARZGLAS, UND ROHLING AUS DEM OPAKEN QUARZGLAS 审中-公开
公开(公告)号：EP3339256A1
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：EP16206682.3
申请日：2016-12-23
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人： SCHENK, Christian , SCHEICH, Gerrit , TSCHOLITSCH, Nadine
IPC分类号： C03B19/06 , C03C3/06 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/066 , C03B2201/02 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C2201/80
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung von opakem Quarzglas wird aus einem feinteilige, amorphe SiO 2 -Teilchen und grobteilige SiO 2 -Armierungskörper enthaltenden Schlicker ein Grünkörper erzeugt und dieser durch eine Sinter-Behandlung zu einem Rohling aus dem opaken Quarzglas gesintert. Die Armierungskörper mit einer spezifischen Dichte D K1 sind dabei in einer SiO 2 -Matrix mit einer spezifischen Glasdichte D M eingebettet. Um hiervon ausgehend einen wenig rissanfälligen Rohling aus opakem Quarzglas bereitzustellen, das auch bei geringen Wandstärken eine homogene Transmission aufweist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass sinterfähige Armierungskörper eingesetzt werden, deren spezifische Dichte D K0 vor der Sinter-Behandlung geringer ist als die spezifische Glasdichte D M , und die infolge der Sinter-Behandlung die spezifische Dichte D K1 erreichen, die von der spezifischen Glasdichte D M um weniger als 10% abweicht.

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