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1. 发明公开

EP0503577A1 Verfahren zur Herstellung dünner Schichten und Vorrichtung 失效
标题翻译：一种生产薄膜的装置和工艺。
公开(公告)号：EP0503577A1
公开(公告)日：1992-09-16
申请号：EP92104118.2
申请日：1992-03-11
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr.
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/228 , C23C14/0036 , C23C14/3464 , H01L39/2435 , Y10S505/73 , Y10S505/731
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung dünner Schichten aus Materialien, die in einem hohen Maße Sauerstoff oder andere reaktive Gase enthalten. Dabei wird das Material als Target- bzw. Kathodenmaterial eingesetzt und die Schicht durch Kathodenzerstäubung auf einem erhitzten Substrat durch Niederschlag gebildet. Die Erfindung bezieht sich ferner auf eine Vorrichtung zur Herstellung solcher dünner Schichten. Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, bei dem nachteilige Effekte, wie beispielsweise Rücksputtereffekte oder Aufladungseffekte nicht auftreten. Ferner ist es Aufgabe der Erfindung, eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung zu schaffen. Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe verfahrensgemäß dadurch gelöst, daß vom Target abgelöste Teilchen außerhalb des bei der Kathodenzerstäubung entstehenden Plasmas durch den Strom eines Gases mit einem Druck von 0,1 - 20 mbar zu dem zu beschichtenden, vom Target räumlich getrennten Substrat transportiert wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于生产含有很大程度的氧气或其它反应性气体的物质的薄膜的方法。所述材料被用作靶或阴极材料和通过溅射通过沉淀在加热的衬底上形成的层。本发明还涉及一种用于生产这样的薄层。本发明的目的是提供一种不在的不利影响，如反溅射的影响或充电效应发生的方法。此外，本发明的一个目的是提供一种装置，适于实施该方法。根据该目的根据该逐出靶粒子从的由气体的具有0.1的压力流中的溅射等离子体期间所产生的外部程序来实现本发明 - 20毫巴待涂覆于从所述目标空间上分离的基板输送。

2. 发明公开

EP0897189A2 Hochdruck-Magnetron-Kathode sowie eine solche enthaltende Vorrichtung 有权
公开(公告)号：EP0897189A2
公开(公告)日：1999-02-17
申请号：EP98114847.1
申请日：1998-08-07
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr. , Ockenfuss, Georg, Dr. , Schneider, Jens, Dr. , Klein, Wilfried
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3447 , H01J37/3405
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einer Magnetron-Kathode.Die Kathode enthält eine enthaltenden Blendenanordnung, die eine oder mehrere Blenden aufweist.Dabei ist die Blende am Rand des kathodenseitigen Dunkelraums der Gasentladung derart angebracht, daß Zwischenplasmen zwischen Blenden und Target vermieden werden. Auf diese Weise wird ein verbesserter Sputtervorgang im Hochdruckbereich erreicht.
摘要翻译：阴极包括一个或多个屏幕，其被安装在阴极侧的气体放电暗区的边缘处，使得在屏幕和目标之间避免中间等离子体。屏幕布置成使得阴极溅射仅发生在目标的自由表面上，而不被屏幕覆盖。还要求保护使用阴极的装置和具有自由轨道的装置。

3. 发明授权

EP0503577B1 Verfahren zur Herstellung dünner Schichten und Vorrichtung 失效
标题翻译：一种生产薄膜的装置和工艺
公开(公告)号：EP0503577B1
公开(公告)日：1996-06-19
申请号：EP92104118.2
申请日：1992-03-11
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr.
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/228 , C23C14/0036 , C23C14/3464 , H01L39/2435 , Y10S505/73 , Y10S505/731

4. 发明授权

EP0526843B1 Aufnahmevorrichtung für über einen Transfermechanismus in eine Apparatur einzubringende Proben 失效
标题翻译：用于传送机构接收装置到装置是引入的样品。
公开(公告)号：EP0526843B1
公开(公告)日：1994-10-05
申请号：EP92113050.6
申请日：1992-07-31
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr.
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67103 , C23C16/4585

5. 发明授权

EP0897189B1 Hochdruck-Magnetron-Kathode sowie eine solche enthaltende Vorrichtung 有权
标题翻译：高压磁控管阴极和含有这样的装置
公开(公告)号：EP0897189B1
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：EP98114847.1
申请日：1998-08-07
申请人： Forschungszentrum Jülich GmbH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr. , Ockenfuss, Georg, Dr. , Schneider, Jens, Dr. , Klein, Wilfried
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3447 , H01J37/3405

6. 发明授权

EP0751236B1 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung dünner Schichten mittels reaktiver Kathodenzerstäubung zur Durchführung des Verfahrens 失效
标题翻译：方法和设备生产的薄膜通过反应性阴极溅射的用于执行该方法
公开(公告)号：EP0751236B1
公开(公告)日：2002-07-24
申请号：EP96113800.5
申请日：1993-02-13
申请人： Forschungszentrum Jülich GmbH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr. , Krüger, Ursus, Dr. , Kutzner, Rolf
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/54 , C23C14/0042 , Y10S505/731 , Y10S505/816

7. 发明公开

EP0897189A3 Hochdruck-Magnetron-Kathode sowie eine solche enthaltende Vorrichtung 有权
标题翻译：高压磁控管阴极和含有这样的装置
公开(公告)号：EP0897189A3
公开(公告)日：2000-11-29
申请号：EP98114847.1
申请日：1998-08-07
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr. , Ockenfuss, Georg, Dr. , Schneider, Jens, Dr. , Klein, Wilfried
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3447 , H01J37/3405
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einer Magnetron-Kathode.Die Kathode enthält eine enthaltenden Blendenanordnung, die eine oder mehrere Blenden aufweist.Dabei ist die Blende am Rand des kathodenseitigen Dunkelraums der Gasentladung derart angebracht, daß Zwischenplasmen zwischen Blenden und Target vermieden werden. Auf diese Weise wird ein verbesserter Sputtervorgang im Hochdruckbereich erreicht.

8. 发明公开

EP0751236A1 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung dünner Schichten mittels reaktiver Kathodenzerstäubung zur Durchführung des Verfahrens 失效
标题翻译：方法和设备生产的薄膜通过反应性阴极溅射的用于执行该方法
公开(公告)号：EP0751236A1
公开(公告)日：1997-01-02
申请号：EP96113800.5
申请日：1993-02-13
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr. , Krüger, Ursus, Dr. , Kutzner, Rolf
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/54 , C23C14/0042 , Y10S505/731 , Y10S505/816
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung dünner Schichten, bei dem in einer Prozeßkammer mit Gaseinlaß und Gasauslaß, einem Target sowie einem Substrat, der Druck des Prozeßgases konstant gehalten wird, während Material vom Target abgestaubt und auf das Substrat abgeschieden wird. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zur Herstellung dünner Schichten. Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zu schaffen, das zu einem Dünnfilm mit verminderter Inhomogenität führt. Erfindungsgemäß wird dazu das Prozeßgas bis an das Plasma herangeführt. Zur Lösung der gestellten Aufgabe wird eine Sonde so angeordnet, daß geladene Atome des Prozeßgases detektiert und zur Erzielung der gewünschten Homogenität der Spannungswert an der Sonde durch eine Nachregelung des Prozeßgasmischungsverhältnisses konstant geregelt werden.
摘要翻译：过程气体的压力被保持在具有气体入口和出口，用于控制本作为气体混合物的工艺气体的目的的室常数。，至少一个目标为阴极，和一个基片，而材料被溅射从靶和沉积到基材上。在腔室中的工艺气体是浓用等离子体溅射期间围绕目标。在表面平行于目标表面的横截面的区域中的等离子体中的部件中的一个的一个或更多个发射线是确定性的溅射期间通过光谱法开采。调整后REQD。横截面轮廓，该轮廓是通过调节工艺气体混合比保持恒定。

9. 发明公开

EP0526843A1 Aufnahmevorrichtung für über einen Transfermechanismus in eine Apparatur einzubringende Proben 失效
标题翻译： Aufnahmevorrichtungfürübereinen Transfermechanismus in eine Apparatur einzubringende Proben。
公开(公告)号：EP0526843A1
公开(公告)日：1993-02-10
申请号：EP92113050.6
申请日：1992-07-31
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
发明人： Wördenweber, Roger, Dr.
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67103 , C23C16/4585
摘要： Die Erfindung betrifft eine Aufnahmevorrichtung für über einen Transfermechanismus in eine Apparatur einzubringende und in dieser aufzuheizende Proben. Es ist Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zu schaffen, die eine genaue Kontrolle der Probentemperatur gewährleistet. Die erfindungsgemäße Aufgabe wird durch eine Aufnahmevorrichtung mit Halterungen, in denen die Probe nach dem Einbringen aufliegt und in der Nähe des Heizers gehalten wird, gelöst. Dabei wird die Probe durch Bimetalle von der dem Heizer abgewandten Seite erfaßt und beim Aufheizvorgang gegen den Heizer gedrückt.
摘要翻译：本发明涉及用于使用传送机构插入设备并在所述设备中加热的样品的保持器。本发明的目的是提供一种确保可以对样品的温度进行精确检查的装置。根据本发明的目的是通过具有固定装置的保持器来实现的，其中样品在插入之后搁置并保持在加热器附近。在这种布置中，通过双金属元件将样品夹在远离加热器的一侧上，并且在加热操作期间被推向加热器。

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